JPH0427931A - 密着型露光装置 - Google Patents
密着型露光装置Info
- Publication number
- JPH0427931A JPH0427931A JP2135113A JP13511390A JPH0427931A JP H0427931 A JPH0427931 A JP H0427931A JP 2135113 A JP2135113 A JP 2135113A JP 13511390 A JP13511390 A JP 13511390A JP H0427931 A JPH0427931 A JP H0427931A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- mask
- exposed
- pressure
- exposed object
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、例えば被露光体であるガラス基板に溝を形
成するためにマスクをガラス基板に密着させて露光をお
こなう密着型露光装置に関する。
成するためにマスクをガラス基板に密着させて露光をお
こなう密着型露光装置に関する。
（ロ）従来の技術
従来この種の密着型露光装置は、第２図に示すように、
例えばノリコンウェハやガラスディスクなどの被露光体
２０を吸着する真空チャック２Ｉを存するディスクチャ
ック台２２と、真空引穴２４を有しマスク２３がセット
されるスペーサ２５と、被露光体２０に光ヒームを照射
する光源２６とで構成される。
例えばノリコンウェハやガラスディスクなどの被露光体
２０を吸着する真空チャック２Ｉを存するディスクチャ
ック台２２と、真空引穴２４を有しマスク２３がセット
されるスペーサ２５と、被露光体２０に光ヒームを照射
する光源２６とで構成される。
上記の構成において、ディスクチャック台２２に被露光
体２０がセットされ、スペーサ２５上にマスク２３が載
置されたのち、真空引穴２４を介して真空引きされると
、マスク２３か外気圧により押されて被露光体２０側へ
湾曲し、被露光体２０に密着する。
体２０がセットされ、スペーサ２５上にマスク２３が載
置されたのち、真空引穴２４を介して真空引きされると
、マスク２３か外気圧により押されて被露光体２０側へ
湾曲し、被露光体２０に密着する。
（ハ）発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の構成においては、被露光体２０とマ
スク２３とのそれぞれの密着される側の表面形状にズレ
がある場合、マスク２３の湾曲だけでは密着し切れない
場合があった。このような場合、不完全な密着のために
露光不良をおこすことかめっｆ二。
スク２３とのそれぞれの密着される側の表面形状にズレ
がある場合、マスク２３の湾曲だけでは密着し切れない
場合があった。このような場合、不完全な密着のために
露光不良をおこすことかめっｆ二。
この発明：よ上記の事情を考慮してｔされｆ二らので、
表面１ざ、平坦度、平行度ことのマスクと被露光体との
表面形状に差かある場合でも、マスクと被露光体との密
着度を高めることかできる密着型露光装置を提供しよう
とするものである。
表面１ざ、平坦度、平行度ことのマスクと被露光体との
表面形状に差かある場合でも、マスクと被露光体との密
着度を高めることかできる密着型露光装置を提供しよう
とするものである。
（ニ）課題を解決するための手段
この発明は、表面にレジストが璽布されｆこ円盤状の被
露光体をその裏面の外周部において吸着して保持する保
持機構と、保持機構に保持された被露光体の表面にマス
クを密着させる密着機構と、少なくとも被露光体の情報
記録領域となる部分を被露光体の裏面よりマスク方向に
加圧する加圧機構と、マスクか密着された被露光体に光
ヒームを照射する光源と、を備えてなる密着型露光装置
である。
露光体をその裏面の外周部において吸着して保持する保
持機構と、保持機構に保持された被露光体の表面にマス
クを密着させる密着機構と、少なくとも被露光体の情報
記録領域となる部分を被露光体の裏面よりマスク方向に
加圧する加圧機構と、マスクか密着された被露光体に光
ヒームを照射する光源と、を備えてなる密着型露光装置
である。
（ホ）作用
保持機構か保持している円盤状の被露光体の表面に、密
着機構かマスクを密着さける。この場合に、加圧機構が
少なくとも被露光体の情報記録領域となる部分を被露光
体の裏面よりマスク方向に加圧する。これによって被露
光体Ｄ＼マスタ方向に少許湾曲し、披露″に体とマスク
と′：）密着度か高められろ。
着機構かマスクを密着さける。この場合に、加圧機構が
少なくとも被露光体の情報記録領域となる部分を被露光
体の裏面よりマスク方向に加圧する。これによって被露
光体Ｄ＼マスタ方向に少許湾曲し、披露″に体とマスク
と′：）密着度か高められろ。
そして光源が光ヒームを被露光体に照射して、被露光体
表面のレジストか露光される。
表面のレジストか露光される。
（へ）実施例
以下この発明の実施例を図面にて詳述するか、この発明
は以下の実施例に限定されるものではない。
は以下の実施例に限定されるものではない。
第１図において、ｌはマスクで、例えば直径１５０ｍｍ
、厚さ５ｍｍ、平坦度５μｍのガラスで形成されている
。マスク【は、真空引穴２ａを有するスペーサ２の上面
に載置されている。スペーサ２の中央部には開口２ｂが
設けられておりこの開口２ｂに連通ずる真空引穴５には
真空ポンプ３が接続されている。スペーサ２及び真空ポ
ンプ３とて密着機構４が構成される。
、厚さ５ｍｍ、平坦度５μｍのガラスで形成されている
。マスク【は、真空引穴２ａを有するスペーサ２の上面
に載置されている。スペーサ２の中央部には開口２ｂが
設けられておりこの開口２ｂに連通ずる真空引穴５には
真空ポンプ３が接続されている。スペーサ２及び真空ポ
ンプ３とて密着機構４が構成される。
５はディスクチャック台で、円盤状の被露光体（以下デ
ィスクと記す）６を、その裏面の外周部において真空吸
着すべく、真空ポンプ７に接続される環状間隙５ａを何
している。まｒニブイスクチャツク台５の中央部分には
、ディスク６をその裏面より加圧するにめに、加圧室５
ｂか形成されており、加圧室５ｂは加圧穴５ｃを介して
加圧ポンプ８に接続されている。上記において、ディス
クチャック台５と真空ポツプ６とて保持機構９か、また
加圧室５ｂ、加圧穴５ｃ及び加圧ポンプ８とて加圧機構
１０が、それぞれ構成される。
ィスクと記す）６を、その裏面の外周部において真空吸
着すべく、真空ポンプ７に接続される環状間隙５ａを何
している。まｒニブイスクチャツク台５の中央部分には
、ディスク６をその裏面より加圧するにめに、加圧室５
ｂか形成されており、加圧室５ｂは加圧穴５ｃを介して
加圧ポンプ８に接続されている。上記において、ディス
クチャック台５と真空ポツプ６とて保持機構９か、また
加圧室５ｂ、加圧穴５ｃ及び加圧ポンプ８とて加圧機構
１０が、それぞれ構成される。
ディスク６は、例えば直径１３０ ｍ ｍ 、厚さ１２
ｍｍ、平坦度２０μｍのガラスからなり、その表面に厚
み約２０００人のレジスト膜かコーティングされている
。
ｍｍ、平坦度２０μｍのガラスからなり、その表面に厚
み約２０００人のレジスト膜かコーティングされている
。
マスク１は、スペーサ２によってディスク６の表面との
間隔が例えば１０μのとなるようにセットされる。
間隔が例えば１０μのとなるようにセットされる。
なお、スペーサ４及びディスクチャック台５の、マスク
Ｉ及びディスク６か載置される部位の表面は、充分な密
着性が得られるよう加工されている。
Ｉ及びディスク６か載置される部位の表面は、充分な密
着性が得られるよう加工されている。
１１は光源で、ディスクチャック台５上方の所定位置に
配設されており、例えば紫外線をディスク６に照射する
ものである。
配設されており、例えば紫外線をディスク６に照射する
ものである。
以上の構成において、ディスク６かディスクチャック台
５上に載置され、真空ポンプ７か作動されてディスク６
が真空吸着される。またマスク１かディスク６と位置合
わせされてスペーサ２上に載置される。この後、真空ポ
ンプ３が作動され、マスクＩとディスク６との間隙の真
空度か例えば約３００ｍｍＦ（ｇに保持される。これに
よって、マスクｌか、外気圧によりディスク６表面側に
湾曲してディスク６に密着する。
５上に載置され、真空ポンプ７か作動されてディスク６
が真空吸着される。またマスク１かディスク６と位置合
わせされてスペーサ２上に載置される。この後、真空ポ
ンプ３が作動され、マスクＩとディスク６との間隙の真
空度か例えば約３００ｍｍＦ（ｇに保持される。これに
よって、マスクｌか、外気圧によりディスク６表面側に
湾曲してディスク６に密着する。
次に加圧ポツプ８か作動され、加圧穴５ｃを介してディ
スク６裏面よりディスク６を例えば約０５ｋｇ／ｃｍ”
の圧力で加圧する（この圧力は１気圧であってもよい）
、、これによってディスク６がその表面方向に湾曲する
ので、マスクｌとディスク６とがその最外周部位におい
ても完全に密着し、その部位の密着不良か発生しなくな
る。
スク６裏面よりディスク６を例えば約０５ｋｇ／ｃｍ”
の圧力で加圧する（この圧力は１気圧であってもよい）
、、これによってディスク６がその表面方向に湾曲する
ので、マスクｌとディスク６とがその最外周部位におい
ても完全に密着し、その部位の密着不良か発生しなくな
る。
なお、ディスク６を加圧しない場合は、ディスク６の最
外周部位の一部すなわち半径方向に約２ｍｍ、円周方向
に約３０ｍｍの範囲において密着不良が発生しｆ二。
外周部位の一部すなわち半径方向に約２ｍｍ、円周方向
に約３０ｍｍの範囲において密着不良が発生しｆ二。
上記実施例においては、ディスク６が円盤状でその中央
部の穴のないしのに対応する装置を説明したが、ディス
クか例えばコンパクトディスクのように中心に中心穴を
存する、例えば外径１３０ｍ ｍ 、内径１５ｍｍのガ
ラス基板であっても、以下に述へるような構成とするこ
とによって対応することができる。その場合、上記実施
例を多少変形し、ディスクの中心式近傍部位に対応して
、ディスクチャック台に上記実施例における環状間隙を
有する載置台あるいは真空チャック機構を設け、加圧室
の圧力がディスクの中心穴から漏洩しないように構成す
ればよい。
部の穴のないしのに対応する装置を説明したが、ディス
クか例えばコンパクトディスクのように中心に中心穴を
存する、例えば外径１３０ｍ ｍ 、内径１５ｍｍのガ
ラス基板であっても、以下に述へるような構成とするこ
とによって対応することができる。その場合、上記実施
例を多少変形し、ディスクの中心式近傍部位に対応して
、ディスクチャック台に上記実施例における環状間隙を
有する載置台あるいは真空チャック機構を設け、加圧室
の圧力がディスクの中心穴から漏洩しないように構成す
ればよい。
（ト）発明の効果
この発明によれば、被露光体をその裏面から加圧するの
で、マスクの湾曲に加え、被露光体が湾曲させられるの
で、両者のそり、うねりなどの表面形状に起因するズレ
が解消され、マスクと被露光との密着度が増加し、密着
不良による歩留りの低下を防止することかできる。
で、マスクの湾曲に加え、被露光体が湾曲させられるの
で、両者のそり、うねりなどの表面形状に起因するズレ
が解消され、マスクと被露光との密着度が増加し、密着
不良による歩留りの低下を防止することかできる。
第１図はこの発明の実施例の構成を示す構成説明図、第
２図は従来例の構成を示す構成説明図である。 ■・・・・・マスク、４・・・・・・密着機構、６・・
・・・・被露光体、９・・・・・保持機構、１０・・・
・・・加圧機構、１１・・・・・光源。
２図は従来例の構成を示す構成説明図である。 ■・・・・・マスク、４・・・・・・密着機構、６・・
・・・・被露光体、９・・・・・保持機構、１０・・・
・・・加圧機構、１１・・・・・光源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面にレジストが塗布された円盤状の被露光体をそ
の裏面の外周部において吸着して保持する保持機構と、 保持機構に保持された被露光体の表面にマスクを密着さ
せる密着機構と、 少なくとも被露光体の情報記録領域となる部分を被露光
体の裏面よりマスク方向に加圧する加圧機構と、 マスクが密着された被露光体に光ビームを照射する光源
と、 を備えてなる密着型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135113A JPH0427931A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 密着型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135113A JPH0427931A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 密着型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0427931A true JPH0427931A (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=15144138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2135113A Pending JPH0427931A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 密着型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0427931A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134368A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Nikon Corp | パターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法 |
| JP2007305895A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Apic Yamada Corp | インプリント方法およびナノ・インプリント装置 |
| JP2010517300A (ja) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
| JP2013089692A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-13 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法 |
| CN103901736A (zh) * | 2014-01-25 | 2014-07-02 | 保定来福光电科技有限公司 | 一种曝光机中工作软片深度贴紧的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58173727A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Canon Inc | 密着焼付けにおける密着方法 |
-
1990
- 1990-05-23 JP JP2135113A patent/JPH0427931A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58173727A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Canon Inc | 密着焼付けにおける密着方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134368A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Nikon Corp | パターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法 |
| JP2007305895A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Apic Yamada Corp | インプリント方法およびナノ・インプリント装置 |
| JP2010517300A (ja) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | 基板変形を利用したコンタクトリソグラフィ装置及び方法 |
| JP2013089692A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-13 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法 |
| CN103901736A (zh) * | 2014-01-25 | 2014-07-02 | 保定来福光电科技有限公司 | 一种曝光机中工作软片深度贴紧的方法 |
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