JPH0428248B2 - - Google Patents
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- JPH0428248B2 JPH0428248B2 JP58197725A JP19772583A JPH0428248B2 JP H0428248 B2 JPH0428248 B2 JP H0428248B2 JP 58197725 A JP58197725 A JP 58197725A JP 19772583 A JP19772583 A JP 19772583A JP H0428248 B2 JPH0428248 B2 JP H0428248B2
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- compound
- general formula
- hydride
- aluminum
- aluminum hydride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/23—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing hydroxy or O-metal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C46/00—Preparation of quinones
- C07C46/02—Preparation of quinones by oxidation giving rise to quinoid structures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C50/00—Quinones
- C07C50/26—Quinones containing groups having oxygen atoms singly bound to carbon atoms
- C07C50/28—Quinones containing groups having oxygen atoms singly bound to carbon atoms with monocyclic quinoid structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/70—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with two hydrocarbon radicals attached in position 2 and elements other than carbon and hydrogen in position 6
- C07D311/72—3,4-Dihydro derivatives having in position 2 at least one methyl radical and in position 6 one oxygen atom, e.g. tocopherols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はｄ−α−トコフエロール（天然ビタミ
ンＥ）を製造する際の中間体として適するヒドロ
キノン誘導体の新規の製造方法及びｄ−α−トコ
フエロール自体の製造方法に関する。
ンＥ）を製造する際の中間体として適するヒドロ
キノン誘導体の新規の製造方法及びｄ−α−トコ
フエロール自体の製造方法に関する。
天然ビタミンＥの数種の製造方法は公知である
が、しかしこれらの方法は技術的にみてあまり興
味のないものである。従つて、天然ビタミンＥは
従来ほとんど天然源から抽出されていた。
が、しかしこれらの方法は技術的にみてあまり興
味のないものである。従つて、天然ビタミンＥは
従来ほとんど天然源から抽出されていた。
従つて、天然ビタミンＥが良好な収率且つ高度
の光学的純度で得ることができる技術的に合理的
な方法に対する必要がある。この方法が本発明に
よる方法を用いて可能となる。
の光学的純度で得ることができる技術的に合理的
な方法に対する必要がある。この方法が本発明に
よる方法を用いて可能となる。
本発名は一般式
式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、
の化合物を部位選択的に（regioselectively）還
元し、必要に応じてかくして得られる一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物を一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物に転化し、そして必要に応じて、式の
化合物を式 のｄ−α−トコフエロールに転化することからな
る。
元し、必要に応じてかくして得られる一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物を一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物に転化し、そして必要に応じて、式の
化合物を式 のｄ−α−トコフエロールに転化することからな
る。
「エーテル保護基」なる用語は、本発明の範囲
内において、加水分解によつて開裂させ得る基、
例えばトリアルキルシリル基、アルコキシアルキ
ル基（例えばメトキシメチル基）またはテトラヒ
ドロピラニル基のみならず、また酸化的に開裂さ
せ得る基（例えばC1〜C6アルキル基）を表わす。
更に表示「〓〓」は対応する残基が分子の面の上
に位置すること、一方、表示「…」は対応する残
基が分子の面の下に位置することを意味する。
内において、加水分解によつて開裂させ得る基、
例えばトリアルキルシリル基、アルコキシアルキ
ル基（例えばメトキシメチル基）またはテトラヒ
ドロピラニル基のみならず、また酸化的に開裂さ
せ得る基（例えばC1〜C6アルキル基）を表わす。
更に表示「〓〓」は対応する残基が分子の面の上
に位置すること、一方、表示「…」は対応する残
基が分子の面の下に位置することを意味する。
式の化合物の式の化合物への部位選択的還
元、即ちエポキシドの還元的開裂は不活性有機溶
媒中で有利に行われる。特に適当な不活性有機溶
媒は脂肪族及び芳香族炭化水素、例えばペンタ
ン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等、エーテル
等、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、
または炭化水素及びエーテル類の混合物である。
溶媒または溶媒混合物を出発物質がこれに溶解す
るように選ぶことが好ましい。
元、即ちエポキシドの還元的開裂は不活性有機溶
媒中で有利に行われる。特に適当な不活性有機溶
媒は脂肪族及び芳香族炭化水素、例えばペンタ
ン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等、エーテル
等、例えばジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、
または炭化水素及びエーテル類の混合物である。
溶媒または溶媒混合物を出発物質がこれに溶解す
るように選ぶことが好ましい。
錯金属水素化物がエポキシドの部位選択的開環
に対して特に適する還元剤である。好ましい錯金
属水素化物は水素化ナトリウムビス（２−メトキ
シ−エトキシアルミニウム〔Red−al 〕、水酸
化リチウムアルミニウム、水酸化ホウ素リチウ
ム、水酸化ホウ素アルミニウム、水素化アルミニ
ウムジボラン等である。水素化ナトリウムビス
（２−メトキシ−エトキシ）アルミニウム及び水
素化リチウムアルミニウムが殊に好ましい。
に対して特に適する還元剤である。好ましい錯金
属水素化物は水素化ナトリウムビス（２−メトキ
シ−エトキシアルミニウム〔Red−al 〕、水酸
化リチウムアルミニウム、水酸化ホウ素リチウ
ム、水酸化ホウ素アルミニウム、水素化アルミニ
ウムジボラン等である。水素化ナトリウムビス
（２−メトキシ−エトキシ）アルミニウム及び水
素化リチウムアルミニウムが殊に好ましい。
温度及び圧力は臨界的でなく、部位選択的還元
を室温及び常圧下で容易に行うことができる。
を室温及び常圧下で容易に行うことができる。
式の化合物の式の化合物への転化はそれ自
体公知の方法において行うことができる。この転
化は酸性媒質中で水素添加によつて有利に行われ
る。水素添加は普通の水素添加触媒（例えばパラ
ジウム、白金等）の存在において、担体物質の存
在下でまたはこれなしに行うことができる。酸は
無機質、例えば塩化水素酸もしくは、硫酸過塩素
酸またはカルボン酸、例えばギ酸、酢酸等である
ことができる。温度及び圧力は臨界的ではなく、
この転化は室温及び常圧下で容易に行うことがで
きる。
体公知の方法において行うことができる。この転
化は酸性媒質中で水素添加によつて有利に行われ
る。水素添加は普通の水素添加触媒（例えばパラ
ジウム、白金等）の存在において、担体物質の存
在下でまたはこれなしに行うことができる。酸は
無機質、例えば塩化水素酸もしくは、硫酸過塩素
酸またはカルボン酸、例えばギ酸、酢酸等である
ことができる。温度及び圧力は臨界的ではなく、
この転化は室温及び常圧下で容易に行うことがで
きる。
式の化合物は公知のものであり、公知の方法
においてｄ−α−トコフエロールに転化すること
ができる。この転化は、例えば基Ｒが加水分解に
よつて開裂させ得る場合、酸で処理する簡単な方
法で行うことができる。基Ｒが酸化的に開裂され
得る場合、転化は例えば硝酸セリウムアルミニウ
ム〔（Ce（NH4）2（NO3）6〕で処理し、次いで得ら
れるキノンの還元的環化による簡単な方法におい
て行われ。る 本発明における方法に出発物質として用いる式
の化合物は新規なものである。これらの化合物
は一般式 式中、Ｒは上記の意味を有し、そしてＸは塩素
または臭素を表わす、の化合物との反応によつて
式 の化合物から出発して製造することができる。
においてｄ−α−トコフエロールに転化すること
ができる。この転化は、例えば基Ｒが加水分解に
よつて開裂させ得る場合、酸で処理する簡単な方
法で行うことができる。基Ｒが酸化的に開裂され
得る場合、転化は例えば硝酸セリウムアルミニウ
ム〔（Ce（NH4）2（NO3）6〕で処理し、次いで得ら
れるキノンの還元的環化による簡単な方法におい
て行われ。る 本発明における方法に出発物質として用いる式
の化合物は新規なものである。これらの化合物
は一般式 式中、Ｒは上記の意味を有し、そしてＸは塩素
または臭素を表わす、の化合物との反応によつて
式 の化合物から出発して製造することができる。
この反応はそれ自体公知の方法において、即ち
グリニール反応に対して普通の条件で行うことが
できる。
グリニール反応に対して普通の条件で行うことが
できる。
この反応は不活性有機溶媒、例えばエーテル例
こばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等中
にて、約−20℃乃至ほぼ室温、好ましくは約−20
℃〜約０℃の温度で有利に行われる。
こばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等中
にて、約−20℃乃至ほぼ室温、好ましくは約−20
℃〜約０℃の温度で有利に行われる。
また、上記の式Ｖの化合物は新規なものであ
り、この化合物は式 の公知の化合物を酸化する簡単な方法で製造する
ことができる。この酸化はそれ自体公知の方法に
おいて、例えば塩化メチレン中のピリジニウムク
ロロクロメート〔コレイ試薬（Corey rea−
gent）〕を用いて行うことができる。
り、この化合物は式 の公知の化合物を酸化する簡単な方法で製造する
ことができる。この酸化はそれ自体公知の方法に
おいて、例えば塩化メチレン中のピリジニウムク
ロロクロメート〔コレイ試薬（Corey rea−
gent）〕を用いて行うことができる。
式の化合物は公知のものであるが、または公
知の化合物の同族体であり、それ自体公知の方法
に従つて製造することができる。
知の化合物の同族体であり、それ自体公知の方法
に従つて製造することができる。
以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある： 実施例 １ ｔ−ブチルメチルエーテル１ml中の（1RS，
2R，3R，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ
−3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，11，15−テトラメチルヘキサデ
カノール342mg（0.70ミリモル）の溶液を室温で
撹拌しながら、ｔ−ブチルメチルエーテル10ml中
の水素化リチウムアルミニウム51mg（２ミリモ
ル）の懸濁液に滴下し、次に混合物を室温で更に
１時間撹拌した。次いで水0.5mlを滴下し、混合
物を硫酸ナトリウムを通して過し、エーテルで
すすぎ、液を回転蒸発機で濃縮した。かくして
得られた生成物（341mg）をシリカゲル上でトル
エン／酢酸エチル（２：１）によつてクロマトグ
ラフイーにかけ、（1RS，3R，7R，11R）−１−
（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−トリメチル
フ
エニル）−３，７，11，15−テトラメチルヘキサ
デカン−１，３−ジオール284mg（84％）が得ら
れた、〔α〕20 D＝＋0.2°（ｃ＝2.16％、クロロホルム
中）。
ある： 実施例 １ ｔ−ブチルメチルエーテル１ml中の（1RS，
2R，3R，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ
−3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，11，15−テトラメチルヘキサデ
カノール342mg（0.70ミリモル）の溶液を室温で
撹拌しながら、ｔ−ブチルメチルエーテル10ml中
の水素化リチウムアルミニウム51mg（２ミリモ
ル）の懸濁液に滴下し、次に混合物を室温で更に
１時間撹拌した。次いで水0.5mlを滴下し、混合
物を硫酸ナトリウムを通して過し、エーテルで
すすぎ、液を回転蒸発機で濃縮した。かくして
得られた生成物（341mg）をシリカゲル上でトル
エン／酢酸エチル（２：１）によつてクロマトグ
ラフイーにかけ、（1RS，3R，7R，11R）−１−
（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−トリメチル
フ
エニル）−３，７，11，15−テトラメチルヘキサ
デカン−１，３−ジオール284mg（84％）が得ら
れた、〔α〕20 D＝＋0.2°（ｃ＝2.16％、クロロホルム
中）。
出発物質として用いた（1RS，2R，3R，7R，
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−2′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−２，３−エポキシ−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカノールは次の如
くして製造した： (A) 塩化メチレン５ml中の（2R，3R，7R，
11R）−２，３−エポキシ−３，７，11，15−
テトラメチルヘキサデカノール1.70ｇ（5.45ミ
リモル）を室温で撹拌しながら塩化メチレン50
ml中のピリジニウムクロロクロメート1.6ｇ
（5.45ミリモル）の懸濁液に滴下し、この混合
物を室温で一夜撹拌した。次にヒフロ
（Hyflo）を加え、混合物をエーテル100mlと共
に１時間撹拌し、次に過し、エーテルですす
いだ。粗製の生成物をシリカゲル上でトルエン
によつてクロマトグラフイーにかけた。（2R，
3R，7R，11R）−２，３−エポキシ−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカナール1.46ｇ
（87％）が得られた、〔α〕20 D＝−5.87°（ｃ＝1.5
％、クロロホルム中）。
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−2′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−２，３−エポキシ−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカノールは次の如
くして製造した： (A) 塩化メチレン５ml中の（2R，3R，7R，
11R）−２，３−エポキシ−３，７，11，15−
テトラメチルヘキサデカノール1.70ｇ（5.45ミ
リモル）を室温で撹拌しながら塩化メチレン50
ml中のピリジニウムクロロクロメート1.6ｇ
（5.45ミリモル）の懸濁液に滴下し、この混合
物を室温で一夜撹拌した。次にヒフロ
（Hyflo）を加え、混合物をエーテル100mlと共
に１時間撹拌し、次に過し、エーテルですす
いだ。粗製の生成物をシリカゲル上でトルエン
によつてクロマトグラフイーにかけた。（2R，
3R，7R，11R）−２，３−エポキシ−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカナール1.46ｇ
（87％）が得られた、〔α〕20 D＝−5.87°（ｃ＝1.5
％、クロロホルム中）。
(B) テトラヒドロフラン２ml中の２，５−ジメト
キシ−３，４，６−トリメチルフエニルマグネ
シウムブロマイド１ミリモルを０℃で撹拌しな
がらテトラヒドロフラン10ml中の（2R，3R，
7R，11R）−２，３−エポキシ−３，７，11，
15−テトラメチルヘキサデカナール300mg
（0.97ミリモル）の溶液に滴下した。滴下終了
後、混合物を室通で更に３時間撹拌した。次に
水20mlを加え、この混合物をエーテル各20mlで
３回抽出した。合液した有機相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、回転蒸発機で濃縮した。かくし
て得られた粗製の生成物（502mg）をシリカゲ
ル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）によつ
てクロマトグラフイーにかけ、（1RS，2R，
3R，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−
3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，11，15−テトラメチルヘキサ
デカノール448mg（94％）が得られた、〔α〕20 D
＝−0.66°（ｃ＝1.51％、クロロホルム中）。
キシ−３，４，６−トリメチルフエニルマグネ
シウムブロマイド１ミリモルを０℃で撹拌しな
がらテトラヒドロフラン10ml中の（2R，3R，
7R，11R）−２，３−エポキシ−３，７，11，
15−テトラメチルヘキサデカナール300mg
（0.97ミリモル）の溶液に滴下した。滴下終了
後、混合物を室通で更に３時間撹拌した。次に
水20mlを加え、この混合物をエーテル各20mlで
３回抽出した。合液した有機相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、回転蒸発機で濃縮した。かくし
て得られた粗製の生成物（502mg）をシリカゲ
ル上でトルエン／酢酸エチル（２：１）によつ
てクロマトグラフイーにかけ、（1RS，2R，
3R，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−
3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−２，３−エ
ポキシ−３，７，11，15−テトラメチルヘキサ
デカノール448mg（94％）が得られた、〔α〕20 D
＝−0.66°（ｃ＝1.51％、クロロホルム中）。
実施例 ２
70％過塩素酸１mlをメタノール20ml中の
（1RS，3S，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキ
シ−3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカン−１，３−ジ
オール197mg（0.40ミリモル）の溶液に加え、こ
の混合物を10％パラジウム／炭素の存在下におい
て水素雰囲気下にて室温で15時間振盪した。次に
混合物を炭酸ナトリウムで中和し、酢酸エチル50
mlを加え、生じた混合物をヒフロを通して過
し、液を回転蒸発機で濃縮した。（3R，7R，
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−３，７，11，15−テトラメ
チルヘキサデカン−３−オール165mg（85％）が
得られた、〔α〕20 D＝−0.67°（ｃ＝9.090％、クロロ
ホルム中）。
（1RS，3S，7R，11R）−１−（2′，5′−ジメトキ
シ−3′，4′，6′−トリメチルフエニル）−３，７，
11，15−テトラメチルヘキサデカン−１，３−ジ
オール197mg（0.40ミリモル）の溶液に加え、こ
の混合物を10％パラジウム／炭素の存在下におい
て水素雰囲気下にて室温で15時間振盪した。次に
混合物を炭酸ナトリウムで中和し、酢酸エチル50
mlを加え、生じた混合物をヒフロを通して過
し、液を回転蒸発機で濃縮した。（3R，7R，
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−３，７，11，15−テトラメ
チルヘキサデカン−３−オール165mg（85％）が
得られた、〔α〕20 D＝−0.67°（ｃ＝9.090％、クロロ
ホルム中）。
実施例 ３
水５ml中の硝酸セリウム（）アルミニウム
1.3ｇをアセトニトリル50ml中の（3R，7R，
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−３，７，11，15−テトラメ
チルヘキサデカン−３−オール530mg（1.13ミリ
モル）の溶液に撹拌しながら加え、この混合物を
室温で１時間撹拌した。混合物を塩化メチレン各
20mlで抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、回転蒸発機で蒸発させた。（3′R，
7′R，11′R）−２−（3′−ヒドロキシ−3′，7′，11
′，
15′−テトラメチルヘキサデカン−1′−イル）−
３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン
480mgが得られた。
1.3ｇをアセトニトリル50ml中の（3R，7R，
11R）−１−（2′，5′−ジメトキシ−3′，4′，6′−
ト
リメチルフエニル）−３，７，11，15−テトラメ
チルヘキサデカン−３−オール530mg（1.13ミリ
モル）の溶液に撹拌しながら加え、この混合物を
室温で１時間撹拌した。混合物を塩化メチレン各
20mlで抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、回転蒸発機で蒸発させた。（3′R，
7′R，11′R）−２−（3′−ヒドロキシ−3′，7′，11
′，
15′−テトラメチルヘキサデカン−1′−イル）−
３，５，６−トリメチル−１，４−ベンゾキノン
480mgが得られた。
上記の生成物をメタノール100mlに溶解し、10
％パラジウム／炭素上で水素添加した。次に濃塩
酸0.5mlを加え、この混合物を50℃に２時間加温
した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウムの添
加によつて中和し、次いで過した；液を蒸発
させ、残渣をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチ
ル（２：１）によつてクロマトグラフイーにかけ
た。この方法で淡い帯黄色油としては2R，4′R，
8′R−α−トコフエロール（ｄ−α−トコフエロ
ール）375mg（90％）が得られた。上記の方法で
得られたｄ−α−トコフエロールの光学的純度に
対しては95％の値が測定された。
％パラジウム／炭素上で水素添加した。次に濃塩
酸0.5mlを加え、この混合物を50℃に２時間加温
した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウムの添
加によつて中和し、次いで過した；液を蒸発
させ、残渣をシリカゲル上でトルエン／酢酸エチ
ル（２：１）によつてクロマトグラフイーにかけ
た。この方法で淡い帯黄色油としては2R，4′R，
8′R−α−トコフエロール（ｄ−α−トコフエロ
ール）375mg（90％）が得られた。上記の方法で
得られたｄ−α−トコフエロールの光学的純度に
対しては95％の値が測定された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、 の化合物を、不活性有機溶媒中で、錯金属水素化
物を還元剤として用いて部位選択的に還元し、そ
れによつて一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物を生成しめることを特徴とするヒドロキ
ノン誘導体の製造方法。 ２ 一般式の化合物の部位選択的還元を水素化
ナトリウムビス（２−メトキシ−エトキシ）アル
ミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素アルミニウム、水
素化アルミニウムまたはジボランを用いて行う特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 部位選択的還元を水素化ナトリウムビス（２
−メトキシ−エトキシ）アルミニウムまたは水素
化リチウムアルミニウムを用いて行う特許請求の
範囲第２項記載の方法。 ４ 一般式 式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、 の化合物を、不活性有機溶媒中で、錯金属水素化
物を還元剤として用いて部位選択的に還元し、そ
れによつて一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物を生成せしめ、そして上記一般式の化
合物を、酸性媒質中で水素添加触媒の存在下に水
素添加することにより一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物に転化することを特徴とするヒドロキノ
ン誘導体の製造方法。 ５ 一般式の化合物の部位選択的還元を水素化
ナトリウムビス（２−メトキシ−エトキシ）アル
ミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素アルミニウム、水
素化アルミニウムまたはジボランを用いて行う特
許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 部位選択的還元を水素化ナトリウムビス（２
−メトキシ−エトキシ）アルミニウムまたは水素
化リチウムアルミニウムを用いて行う特許請求の
範囲第５項記載の方法。 ７ 一般式 式中、Ｒはエーテル保護基を表わす、 の化合物を、不活性有機溶媒中で、錯金属水素化
物を還元剤として用いて部位選択的に還元し、そ
れによつて一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物を生成せしめ、上記一般式の化合物
を、酸性媒質中で水素添加触媒の存在下に水素添
加することにより一般式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の化合物に転化し、そして上記一般式の化合物
を既知の方法で式 のｄ−α−トコフエロールに転化することを特徴
とするｄ−α−トコフエロールの製造方法。 ８ 一般式の化合物の部位選択的還元を水素化
ナトリウムビス（２−メトキシ−エトキシ）アル
ミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素アルミニウム、水
素化アルミニウムまたはジボランを用いて行う特
許請求の範囲第７項記載の方法。 ９ 部位選択的還元を水素化ナトリウムビス（２
−メトキシ−エトキシ）アルミニウムまたは水素
化リチウムアルミニウムを用いて行う特許請求の
範囲第８項記載の方法。
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|---|---|---|---|
| CH6270/82-1 | 1982-10-27 | ||
| CH627082 | 1982-10-27 |
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|---|---|
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