JPH04285090A - 単結晶育成方法 - Google Patents
単結晶育成方法Info
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- JPH04285090A JPH04285090A JP3104976A JP10497691A JPH04285090A JP H04285090 A JPH04285090 A JP H04285090A JP 3104976 A JP3104976 A JP 3104976A JP 10497691 A JP10497691 A JP 10497691A JP H04285090 A JPH04285090 A JP H04285090A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/52—Alloys
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
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- Y10S117/902—Specified orientation, shape, crystallography, or size of seed or substrate
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- Metallurgy (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特にR(Yを含むラン
タノイド元素の1種以上)とT(遷移金属元素の1種以
上)とを含む金属間化合物の単結晶育成方法に関する。
タノイド元素の1種以上)とT(遷移金属元素の1種以
上)とを含む金属間化合物の単結晶育成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、各種金属、セラミック等において
、単結晶の作製が可能な方法としては、下記のようなも
のがある。
、単結晶の作製が可能な方法としては、下記のようなも
のがある。
【0003】(1)溶融し、一方向冷却を行って凝固さ
せ、結晶方位を配向させる一方向凝固法、(2)溶融体
を単結晶面へ凝固させながらこれを引き上げるブリッジ
マン法、 (3)一方向凝固法に属する一形態でもあるゾーンメル
ト法、 (4)磁場中成形法、 (5)蒸着法、スパッタ法、CVD法等の気相法、(6
)セラミック単結晶の作製において、単結晶と多結晶と
の間に、ガラス等のセラミックの構成元素とは異なる他
材質のフラックスを介在させ、加熱位置を順次移動させ
ることによるフラックスの粒界移動を利用して単結晶を
得る固相反応法
せ、結晶方位を配向させる一方向凝固法、(2)溶融体
を単結晶面へ凝固させながらこれを引き上げるブリッジ
マン法、 (3)一方向凝固法に属する一形態でもあるゾーンメル
ト法、 (4)磁場中成形法、 (5)蒸着法、スパッタ法、CVD法等の気相法、(6
)セラミック単結晶の作製において、単結晶と多結晶と
の間に、ガラス等のセラミックの構成元素とは異なる他
材質のフラックスを介在させ、加熱位置を順次移動させ
ることによるフラックスの粒界移動を利用して単結晶を
得る固相反応法
【0004】他方、RFe2 等のRT2 系金族間化
合物の磁歪材料が知られている。そして、このものの製
造方法としては、(a)米国特許第4308474号、
同第3949351号、同第4378258号、同第4
375372号、同第4158368号に一方向凝固法
ないしゾーンメルト法が開示されている。
合物の磁歪材料が知られている。そして、このものの製
造方法としては、(a)米国特許第4308474号、
同第3949351号、同第4378258号、同第4
375372号、同第4158368号に一方向凝固法
ないしゾーンメルト法が開示されている。
【0005】これらでは、RFe2 の単結晶が得られ
たとしているが、Sm系等では凝固過程で包晶となり単
結晶は得られない。また、同一発明者のIEEE T
RANSACTIONS ON MAGNETIC
S VOL.MAG−22 No−5SEPTEM
BER 1986における学会発表によれば、(Tb
x Dy1−x)Fe2 において(112)配向が得
られている。しかし、(112)配向は、(111)配
向と比較して、磁歪が低く、特に磁化過程での磁歪はき
わめて低くなる。
たとしているが、Sm系等では凝固過程で包晶となり単
結晶は得られない。また、同一発明者のIEEE T
RANSACTIONS ON MAGNETIC
S VOL.MAG−22 No−5SEPTEM
BER 1986における学会発表によれば、(Tb
x Dy1−x)Fe2 において(112)配向が得
られている。しかし、(112)配向は、(111)配
向と比較して、磁歪が低く、特に磁化過程での磁歪はき
わめて低くなる。
【0006】また、(b)前記米国特許第430847
4号には、ブリッジマン法によるRT2 が開示されて
いる。しかし、このものも、(111)に方位をもつ単
結晶とはならない。
4号には、ブリッジマン法によるRT2 が開示されて
いる。しかし、このものも、(111)に方位をもつ単
結晶とはならない。
【0007】さらに、(c)米国特許第4152178
号には、RT2 の粉末冶金法において磁場中成形を終
了旨が開示されているが、このものでも、単結晶は得ら
れない。
号には、RT2 の粉末冶金法において磁場中成形を終
了旨が開示されているが、このものでも、単結晶は得ら
れない。
【0008】そして、RT2 金属間化合物においては
、固相反応法を用いた例はない。さらに、このような事
情は、他のR−T系金属間化合物でも同様である。
、固相反応法を用いた例はない。さらに、このような事
情は、他のR−T系金属間化合物でも同様である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的は
、R−T系金属間化合物の新規な単結晶育成方法を提供
することにある。
、R−T系金属間化合物の新規な単結晶育成方法を提供
することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)の本発明によって達成される。
(1)〜(6)の本発明によって達成される。
【0011】(1) R(Yを含むランタノイド元素
の1種以上)とT(遷移金属元素の1種以上)とを含む
金属間化合物の単結晶を得るに際し、前記金属間化合物
の主相と、低融点共晶相とを存在させ、この低融点共晶
相をフラックス粒界物とすることで、単結晶界面を移動
させて単結晶を育成することを特徴とする単結晶育成方
法。
の1種以上)とT(遷移金属元素の1種以上)とを含む
金属間化合物の単結晶を得るに際し、前記金属間化合物
の主相と、低融点共晶相とを存在させ、この低融点共晶
相をフラックス粒界物とすることで、単結晶界面を移動
させて単結晶を育成することを特徴とする単結晶育成方
法。
【0012】(2) 前記主相と、前記低融点共晶相
とが存在する多結晶または柱状晶の前駆体に対し、その
一端を、前記低融点共晶相は溶融し、前記主相は溶融し
ない温度に加熱し、この加熱を順次他端側に移動させる
ことによって、加熱出発点の結晶方位に準じた単結晶を
得る上記(1)に記載した単結晶育成方法。
とが存在する多結晶または柱状晶の前駆体に対し、その
一端を、前記低融点共晶相は溶融し、前記主相は溶融し
ない温度に加熱し、この加熱を順次他端側に移動させる
ことによって、加熱出発点の結晶方位に準じた単結晶を
得る上記(1)に記載した単結晶育成方法。
【0013】(3) 前記主相と、前記低融点共晶相
とが存在する多結晶または柱状晶の前駆体の一端に種結
晶を接触させ、この接触部を、前記低融点共晶相は溶融
し、前記主相ないし種結晶は溶融しない温度に加熱し、
この加熱を順次他端側に移動させることによって、種結
晶と同じ結晶方位とする上記(1)に記載の単結晶育成
方法。
とが存在する多結晶または柱状晶の前駆体の一端に種結
晶を接触させ、この接触部を、前記低融点共晶相は溶融
し、前記主相ないし種結晶は溶融しない温度に加熱し、
この加熱を順次他端側に移動させることによって、種結
晶と同じ結晶方位とする上記(1)に記載の単結晶育成
方法。
【0014】(4) 前記金属間化合物は、RとTと
を含むか、あるいはこれにB、CおよびPの1種以上を
含む上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の単結晶
育成方法。
を含むか、あるいはこれにB、CおよびPの1種以上を
含む上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の単結晶
育成方法。
【0015】(5) 前記Tは、Fe、Co、Ni、
MnおよびCrの1種以上である上記(1)ないし(4
)のいずれかに記載の単結晶育成方法。
MnおよびCrの1種以上である上記(1)ないし(4
)のいずれかに記載の単結晶育成方法。
【0016】(6) 前記主相は、RT2 であり、
前記低融点共晶相は、実質的にR2 Tである上記(1
)ないし(5)のいずれかに記載の単結晶育成方法。
前記低融点共晶相は、実質的にR2 Tである上記(1
)ないし(5)のいずれかに記載の単結晶育成方法。
【0017】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成において詳細
に説明する。
に説明する。
【0018】本発明はRとTとを含む化合物の単結晶育
成方法である。この場合、Rは、Yとランタノイド元素
のうちの1種以上である。また、Tは、遷移金属元素の
1種以上である。また、Tは、遷移金属元素の1種以上
であり、特にFe、Co、Ni、Mn、Crの1種〜5
種であることが好ましく、この場合、さらに他の遷移金
属元素の1種以上が含有されていてもよい。
成方法である。この場合、Rは、Yとランタノイド元素
のうちの1種以上である。また、Tは、遷移金属元素の
1種以上である。また、Tは、遷移金属元素の1種以上
であり、特にFe、Co、Ni、Mn、Crの1種〜5
種であることが好ましく、この場合、さらに他の遷移金
属元素の1種以上が含有されていてもよい。
【0019】従って、本発明によって得られる単結晶は
、RT2 、RT3 、RT5 、R2 T17、R6
T23等であってよい。これらのうちでは、制御が容
易である点でRT2が好ましい。
、RT2 、RT3 、RT5 、R2 T17、R6
T23等であってよい。これらのうちでは、制御が容
易である点でRT2が好ましい。
【0020】また、R−T系金属間化合物としては、B
、C、Pの1種〜3種、特にBおよび/またはCを含む
ものであってもよい。従って、R2 Fe14B7 等
であってもよい。
、C、Pの1種〜3種、特にBおよび/またはCを含む
ものであってもよい。従って、R2 Fe14B7 等
であってもよい。
【0021】なお、これら金属化合物中には、3at%
以下の範囲で、さらにMo、Zr、W等の元素が含まれ
ていてもよい。
以下の範囲で、さらにMo、Zr、W等の元素が含まれ
ていてもよい。
【0022】このような金属間化合物の結晶方法が揃っ
た異方性の単結晶を得るには、まず、目的とする金属間
化合物の主相と、これより低融点の共晶相ないし共融混
合物相とを存在させた状態で、この低融点共晶相をフラ
ックス粒界物として、単結晶界面を順次移動させて単結
晶を育成する。
た異方性の単結晶を得るには、まず、目的とする金属間
化合物の主相と、これより低融点の共晶相ないし共融混
合物相とを存在させた状態で、この低融点共晶相をフラ
ックス粒界物として、単結晶界面を順次移動させて単結
晶を育成する。
【0023】より具体的には、まず、前記の金属間化合
物の主相と、低融点共晶相とが存在するブロック体、特
に棒状体を前駆体として用意する。この場合、低融点共
晶相としては、主相がRT2 であるときには、R2
Tを主体とするものなど、主相よりRリッチな金属間化
合物、あるいはその混合物等が可能である。
物の主相と、低融点共晶相とが存在するブロック体、特
に棒状体を前駆体として用意する。この場合、低融点共
晶相としては、主相がRT2 であるときには、R2
Tを主体とするものなど、主相よりRリッチな金属間化
合物、あるいはその混合物等が可能である。
【0024】そして、低融点共晶相は、R−T系化合物
として、主相R−T系化合物の0.1〜30モル%程度
存在させ、前駆体中に、異相として0.05〜15vo
l %程度存在させることが好ましい。
として、主相R−T系化合物の0.1〜30モル%程度
存在させ、前駆体中に、異相として0.05〜15vo
l %程度存在させることが好ましい。
【0025】このような前駆体のミクロ構造は、等方性
の多結晶体であってもよい。この場合、主相の平均グレ
インサイズは、1〜200μm 程度とする。また、デ
ンドライト状や樹脂状ないし層状の柱状晶状であって、
結晶方位に異方性をもつものであってよい。これらでは
、共晶相は、粒界相として存在している。
の多結晶体であってもよい。この場合、主相の平均グレ
インサイズは、1〜200μm 程度とする。また、デ
ンドライト状や樹脂状ないし層状の柱状晶状であって、
結晶方位に異方性をもつものであってよい。これらでは
、共晶相は、粒界相として存在している。
【0026】このような前駆体は、アークメルト法、高
周波溶解法、粉末冶金法、高速急冷法、遠心鋳造法、一
方向凝固法等によって、必要とする形状に作製すればよ
く、また、ゾーンメルト法を用いたものであってもよい
。
周波溶解法、粉末冶金法、高速急冷法、遠心鋳造法、一
方向凝固法等によって、必要とする形状に作製すればよ
く、また、ゾーンメルト法を用いたものであってもよい
。
【0027】このような前駆体に対し、その一端を加熱
し、この加熱部を、一端から順次他端側に移動させる。 この際、加熱は、低融点共晶相は溶融するが、主相は溶
融しない温度とする。例えばRT2 の融点は900〜
1300℃、またR2 T0 共晶相の融点は600〜
800℃であるから、加熱はこれらの間の温度とする。
し、この加熱部を、一端から順次他端側に移動させる。 この際、加熱は、低融点共晶相は溶融するが、主相は溶
融しない温度とする。例えばRT2 の融点は900〜
1300℃、またR2 T0 共晶相の融点は600〜
800℃であるから、加熱はこれらの間の温度とする。
【0028】この場合、加熱温度は、共晶相の融点より
50℃高い温度以上主相の融点より50℃低い温度以下
とすることが好ましい。すなわち、RT2を主相とする
ときには、加熱温度は800〜1250℃が、結晶生長
の安定性の点で好ましい。この際、加熱は高周波誘導加
熱、ヒータ加熱等いずれを用いてもよく、加熱部の移動
速度は、1〜500mm/hr 程度とする。
50℃高い温度以上主相の融点より50℃低い温度以下
とすることが好ましい。すなわち、RT2を主相とする
ときには、加熱温度は800〜1250℃が、結晶生長
の安定性の点で好ましい。この際、加熱は高周波誘導加
熱、ヒータ加熱等いずれを用いてもよく、加熱部の移動
速度は、1〜500mm/hr 程度とする。
【0029】このような固相反応により、前駆体には加
熱出発点で生じた結晶方位に準じた単結晶が得られるこ
とになる。
熱出発点で生じた結晶方位に準じた単結晶が得られるこ
とになる。
【0030】また、前駆体としての棒状体等の一方の端
面に単結晶を接触させ、この接触点を出発点として、前
記の加熱部の移動を行ってもよい。このときには、種結
晶と同じ結晶方位の単結晶が得られることになる。
面に単結晶を接触させ、この接触点を出発点として、前
記の加熱部の移動を行ってもよい。このときには、種結
晶と同じ結晶方位の単結晶が得られることになる。
【0031】単結晶の種結晶は、多結晶体を0.2mm
オーダー程度までグレイン成長させ、その結晶方位をX
線回析によって決定したのち、所定の方向にカットして
得ればよい。このとき、種結晶の結晶方位を(111)
とすれば、得られる単結晶の磁歪等の磁気特性はきわめ
て良好なものとなる。なお、得られる単結晶の平均グレ
インサイズは、一般に200μm 以上で、全域に亘る
単結晶も得られる。
オーダー程度までグレイン成長させ、その結晶方位をX
線回析によって決定したのち、所定の方向にカットして
得ればよい。このとき、種結晶の結晶方位を(111)
とすれば、得られる単結晶の磁歪等の磁気特性はきわめ
て良好なものとなる。なお、得られる単結晶の平均グレ
インサイズは、一般に200μm 以上で、全域に亘る
単結晶も得られる。
【0032】このような固相反応では、主成分としての
主相は、きわめて微少の移動をするか、あるいは全く移
動しない。そして、溶融凝固の状態図に包晶領域が存在
する場合であっても、単結晶化が図れる。
主相は、きわめて微少の移動をするか、あるいは全く移
動しない。そして、溶融凝固の状態図に包晶領域が存在
する場合であっても、単結晶化が図れる。
【0033】なお、通常は、緻密で、欠陥のない、均質
な前駆体を用いるが、前駆体としてポーラスなものを用
い、ポーラスな単結晶を得ることも可能である。
な前駆体を用いるが、前駆体としてポーラスなものを用
い、ポーラスな単結晶を得ることも可能である。
【0034】
【実施例】以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に
説明する。
説明する。
【0035】実施例1
RT2 系として(Tbx Dy1−x )Feyにお
いて、下記表1に示されるxおよびyの組成の単結晶体
や、等方性の多結晶体の棒状前駆体を、ゾーンメルト法
やアークメルト法で作製した。RT2 相の平均グレイ
ンサイズは1〜200μm程度で、R2 T共晶相が異
相として確認された。なお、表1のR組成において、R
T2 およびR2 Tの融点は、それぞれ、約1270
℃および約850℃である。
いて、下記表1に示されるxおよびyの組成の単結晶体
や、等方性の多結晶体の棒状前駆体を、ゾーンメルト法
やアークメルト法で作製した。RT2 相の平均グレイ
ンサイズは1〜200μm程度で、R2 T共晶相が異
相として確認された。なお、表1のR組成において、R
T2 およびR2 Tの融点は、それぞれ、約1270
℃および約850℃である。
【0036】棒状前駆体は4〜8mm直径、600mm
長とした。ゾーンメルト法で得た、ほぼ(112)方位
の前駆体を用い、高周波誘導加熱コイルを表1に示され
る温度で移動しつつ、加熱部を表1に示される表面温度
に加熱した。この際、加熱出発点の一方端は、4mm直
径とした。
長とした。ゾーンメルト法で得た、ほぼ(112)方位
の前駆体を用い、高周波誘導加熱コイルを表1に示され
る温度で移動しつつ、加熱部を表1に示される表面温度
に加熱した。この際、加熱出発点の一方端は、4mm直
径とした。
【0037】さらに、前記と同様にアークメルト法によ
り、等方性の多結晶体の棒状前駆体を用い、この前駆体
の一端に、(111)配向の単結晶を固定接触させて、
同様の加熱を行った。
り、等方性の多結晶体の棒状前駆体を用い、この前駆体
の一端に、(111)配向の単結晶を固定接触させて、
同様の加熱を行った。
【0038】これらの結果、平均グレインサイズが20
0μm 以上から全域単結晶のものまでで、表1に示さ
れる方位を有する単結晶体が得られた。この場合、ゾー
ンメルト法による(112)方位の前駆体を用い、種結
晶を用いないサンプルでは、固相反応により、結晶方位
が(112)方向に完全に揃った単結晶体となった。ま
た種結晶を用い、アークメルト法による等方性多結晶体
を用いたサンプルでは、(111)方位に完全に揃った
単結晶体を得ることができた。
0μm 以上から全域単結晶のものまでで、表1に示さ
れる方位を有する単結晶体が得られた。この場合、ゾー
ンメルト法による(112)方位の前駆体を用い、種結
晶を用いないサンプルでは、固相反応により、結晶方位
が(112)方向に完全に揃った単結晶体となった。ま
た種結晶を用い、アークメルト法による等方性多結晶体
を用いたサンプルでは、(111)方位に完全に揃った
単結晶体を得ることができた。
【0039】これらにつき、育成前の前駆体および育成
後の単結晶の磁歪量λを測定した。測定には光ドップラ
ー法を用い、印加磁界0.4kOe および1kOe
でのλを求めた。表1には、前駆体と単結晶とのλに加
え、前駆体からの向上率がカッコ内に示される。
後の単結晶の磁歪量λを測定した。測定には光ドップラ
ー法を用い、印加磁界0.4kOe および1kOe
でのλを求めた。表1には、前駆体と単結晶とのλに加
え、前駆体からの向上率がカッコ内に示される。
【0040】
【表1】
【0041】表1に示される結果から、本発明の効果が
あきらかである。
あきらかである。
【0042】
【発明の効果】本発明によれば、主成分の移動を全く、
あるいは殆んど伴わずに、結晶方位の揃った単結晶が作
製できる。この際、ゾーンメルト法とは異なり、およそ
すべてのR−T系化合物を安定かつ確実に単結晶化でき
る。この際、包晶領域の存在する合金でも単結晶化が図
れる。このため、異方性の各種単結晶磁性材料が得られ
、反射率、磁気光学効果等が向上する。特に、種結晶を
用いるときには、種結晶のセット方向の結晶方位に従い
、ゾーンメルト法等の一方向凝固法では結晶方位が結晶
固有の方位に規定されてしまうのに対し、任意の結晶方
位のものを得ることができるという利点がある。このた
め、磁歪等の要求される磁気特性が格段と向上した単結
晶が得られる。
あるいは殆んど伴わずに、結晶方位の揃った単結晶が作
製できる。この際、ゾーンメルト法とは異なり、およそ
すべてのR−T系化合物を安定かつ確実に単結晶化でき
る。この際、包晶領域の存在する合金でも単結晶化が図
れる。このため、異方性の各種単結晶磁性材料が得られ
、反射率、磁気光学効果等が向上する。特に、種結晶を
用いるときには、種結晶のセット方向の結晶方位に従い
、ゾーンメルト法等の一方向凝固法では結晶方位が結晶
固有の方位に規定されてしまうのに対し、任意の結晶方
位のものを得ることができるという利点がある。このた
め、磁歪等の要求される磁気特性が格段と向上した単結
晶が得られる。
Claims (6)
- 【請求項1】 R(Yを含むランタノイド元素の1種
以上)とT(遷移金属元素の1種以上)とを含む金属間
化合物の単結晶を得るに際し、前記金属間化合物の主相
と、低融点共晶相とを存在させ、この低融点共晶相をフ
ラックス粒界物とすることで、単結晶界面を移動させて
単結晶を育成することを特徴とする単結晶育成方法。 - 【請求項2】 前記主相と、前記低融点共晶相とが存
在する多結晶または柱状晶の前駆体に対し、その一端を
、前記低融点共晶相は溶融し、前記主相は溶融しない温
度に加熱し、この加熱を順次他端側に移動させることに
よって、加熱出発点の結晶方位に準じた単結晶を得る請
求項1に記載した単結晶育成方法。 - 【請求項3】 前記主相と、前記低融点共晶相とが存
在する多結晶または柱状晶の前駆体の一端に種結晶を接
触させ、この接触部を、前記低融点共晶相は溶融し、前
記主相ないし種結晶は溶融しない温度に加熱し、この加
熱を順次他端側に移動させることによって、種結晶と同
じ結晶方位とする請求項1に記載の単結晶育成方法。 - 【請求項4】 前記金属間化合物は、RとTとを含む
か、あるいはこれにB、CおよびPの1種以上を含む請
求項1ないし3のいずれかに記載の単結晶育成方法。 - 【請求項5】 前記Tは、Fe、Co、Ni、Mnお
よびCrの1種以上である請求項1ないし4のいずれか
に記載の単結晶育成方法。 - 【請求項6】 前記主相は、RT2 であり、前記低
融点共晶相は、実質的にR2 Tである請求項1ないし
5のいずれかに記載の単結晶育成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3104976A JPH04285090A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 単結晶育成方法 |
| US07/885,740 US5275688A (en) | 1991-03-14 | 1992-05-19 | Monocrystal growth method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3104976A JPH04285090A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 単結晶育成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04285090A true JPH04285090A (ja) | 1992-10-09 |
Family
ID=14395127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3104976A Withdrawn JPH04285090A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 単結晶育成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5275688A (ja) |
| JP (1) | JPH04285090A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006339604A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機半導体薄膜の製造方法及び有機半導体薄膜、並びにそれを用いた有機電子デバイス及び有機電界効果トランジスタ |
Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP3452210B2 (ja) * | 1994-04-19 | 2003-09-29 | Tdk株式会社 | 磁歪材の製造方法 |
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| US4308474A (en) * | 1979-11-14 | 1981-12-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Rare earth-iron magnetostrictive materials and devices using these materials |
| US4956334A (en) * | 1987-05-01 | 1990-09-11 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for preparing a single crystal of lanthanum cuprate |
-
1991
- 1991-03-14 JP JP3104976A patent/JPH04285090A/ja not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-05-19 US US07/885,740 patent/US5275688A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006339604A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機半導体薄膜の製造方法及び有機半導体薄膜、並びにそれを用いた有機電子デバイス及び有機電界効果トランジスタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5275688A (en) | 1994-01-04 |
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