JPH0428893A - 錫、鉛または錫―鉛合金めっき浴 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴に関し、さ
らに詳しくは広い電流密度域において良好なめっき皮膜
を均一な膜厚で得ることができる錫、鉛または錫−鉛合
金めっき浴に関する。

［従来の技術］ 錫、鉛または錫−鉛合金めっきは、耐食性、半田付は性
が良好なため、弱電部品やリードフレーム等に代表され
る電子工業用部品等の工業用めっきとして広く利用され
ている。このような錫、鉛または錫−鉛合金めっきに使
用されるめっき浴としては、主にホウフッ化浴等が用い
られてきたが、近年、公害防止等の観点から有機酸浴が
開発され、実用化されているものもある。錫、鉛または
錫−鉛合金めっきでは一般に、添加剤を使用しないと、
樹脂状、粉末状めっきとなり、実用的なめっきは得られ
ない。一般的にホウフッ化浴の添加剤としてはゼラチン
、にかわ、ペプトン、β−ナフトール等の有機添加剤が
知られている。また、有機酸浴の添加剤としては、チオ
尿素化合物等または非イオン性界面活性剤や陽イオン性
界面活性剤を添加剤として添加しためっき液等が知られ
ている。

［発明が解決しようとする課題］ 上記用途における錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴に対
する一般的な要求としては、析出する結晶が微細で外観
が均一であること、均一な膜厚が得られること、部品の
凹部にも確実にめっきがつきまわること、めっき皮膜の
ハンダ付は性が良好であること、電着皮膜の炭素板蔵置
が少ないこと、電流効率が良く高速でめっきができるこ
となどがあり、特に、錫−鉛合金めっきに対する要求と
しては、上記の外に、より高電流密度域においても良好
なめっきが可能であること、また、得られた錫−鉛合金
めっき皮膜中の析出比率が一定であること等である。

しかしながら、前記した従来技術のめっき浴においては
、いずれも実際の使用電流密度は、０．５〜５．　ＯＡ
　／　ｄ　ｍ　２程度であり、めっき条件をある電流密
度に設定しても、めっきが施される素材の各表面部位に
おける局所的に見た電流密度は必ずしも同一ではなく、
めっきを施す面積の大きさや形状の複雑さ等によって不
均一となり、その結果、めっき膜厚のバラツキが大きく
なる。したがって、現状では、広い電流密度範囲（０，
１〜１３０Ａ／ｄｍ２）においても析出速度がほぼ一定
であることが求められており、特に、錫−鉛合金めっき
浴ではめっき皮膜中の析出比率が一定であることが求め
られている。

本発明の目的は、上述のような現状に鑑み、総合的にす
ぐれためっき品質を達成し得る錫、鉛または錫−鉛合金
めっき浴を提供することにある。

そして特に、本発明の目的は、高電流密度でめっきが可
能であるばかりでなく、広い電流密度範囲（０，１−１
３０Ａ／ｄｍ２）において、めっき皮膜の析出比率が一
定であり、かつ、めっき皮膜の析出比率がほぼ一定で良
好な品質の錫−鉛合金めっき皮膜を得ることができる錫
−鉛合金めっき浴を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者は、ある種のベンゾチアゾール化合物を錫、鉛
または錫−鉛合金めっき浴に添加することによって、広
い電流範囲において良好なめっき外観と良好なはんだ付
は性を有し、電着皮膜が均一な厚さでありかつ炭素板蔵
置が少ないめっきが得られることを見出した。また、ベ
ンゾチアゾール化合物の添加により、電流効率が良くな
り、高速でめっきができることがわかった。本発明のベ
ンゾチアゾール化合物は、任意の慣用された錫、鉛また
は錫−鉛合金めっき浴、例えばポウフッ化物浴、硫酸浴
、スルホン酸糸溜、スルファメート糸溜等のいずれにも
適用することができる。

しかして、本発明は、次の一般式（１）Ｒ，５ Ｕ式中、Ｒ＋　、Ｒｚ　、Ｒ−、Ｒ４およびＲ５は、そ
れぞれ同−又は異なっていてよく、１１．−３）ｌ。

−ＯＨ；０Ｒ（Ｒは所望により−ＣＯ２Ｈにて置換され
てもよいＣ１〜６アルキル）；叶、ハロゲン、−（：Ｏ
ｄｌ、−ＣＯＣＯ２）１、アリールまたはＯＣ１〜６ア
ルキルで置換されていてもよい０１−６アルキル、　Ｏ
Ｈ，ＮＨ２、ハロゲンまたはＯＣ＋〜６Ｃ１〜６アルキ
ルれていてもよいアリール；５Ｒ（Ｒは所望により−Ｃ
０２Ｈにて置換されてもよい０１〜６アルキル）： ゛亡Ｊ −ｊ −ＮＲＲ゛（ＲおよびＲ′はＣ１〜６アルキルまたは一
緒になって環を形成してもよい）　　；−ＮＨＣＯＣ，
−６アルキル、−ＮＨＣＯアリール；−ＮＨＮＨ２ニー
ＮＯ□：ハロゲン：−ＣＯ□Ｈ：ＣＯＣ，−６アルキル
；ＣＯアリール；−ＣＯＮ）ｌアリール；　　−ＣＳＮ
ＨＳＮ−ル、　−ＣＮ　、　−Ｃ）１０−３ＯｓＨ；　
−５ＯｚＮＨｚまたは一５０２ＮＲＲ”　（ＲおよびＲ
′はＣ３〜６アルキルまたは一緒になって環を形成して
もよい）を意味する〕にて示されるチアゾール化合物を
有効成分として含有することを特徴とする錫、鉛または
錫−鉛合金めっき浴を提供する。

本発明の錫、鉛または錫−鉛めっき浴に添加される式（
１）のベンゾチアゾール化合物の具体例としては、ベン
ゾチアゾール；２−メチルベンゾチアゾール；２−（メ
チルメルカプト）ベンゾチアゾール；２−アミノ−４−
クロロベンゾチアゾール、２−アミノベンゾチアゾール
；２−アミノル６−メドキシベンゾチアゾール；２−ア
ミノ−６〜エトキシベンゾチアゾール：２−アミノ−６
−クロロベンゾチアゾール：２−アミノ−５，６−ジク
ロロベンゾチアゾール；２−メチル−５−クロロベンゾ
チアゾール；２−ヒドロキシベンゾチアゾール；２−ア
ミノ−６−メチルベンゾチアゾール；２−アミノ−６−
ニドロペンゾチアゾール：４−（２−ベンゾチアゾリル
ジチオ）モルホリン：２−クロロベンゾチアゾール；５
−クロロ２−メチルベンゾチアゾール：２−シアノ−６
−メトキシベンゾチアゾール、２．５−ジメチルベンゾ
チアゾール；２−（２，４−ジニトロフェニルチオ）ベ
ンゾチアゾール；２−フルオロベンゾチアゾール；２−
ヒドラジノベンゾチアゾール；２−（モルホリノチオ）
ベンゾチアゾール：６−ニトロ−２−メルカプトベンゾ
チアゾール：５−ヒドロキシ−２−メチルベンゾチアゾ
ール：６−クロロ−２−メチル−４−メトキシベンゾチ
アゾール；２−ビニルチオベンゾチアゾール；２−ベン
ゾチアゾールチオ酢酸；２−（ｎ−ブチル）メルカプト
−６−アミノベンゾチアゾール；２−ジメチルアミノ−
６−ニトロベンゾチアゾール；２−アニリノベンゾチア
ゾール；２−［２−（ジエチルアミノ）エチルアミノコ
ベンゾチアゾール；２−アセトアミノベンゾチアゾール
−６−スルホンアセトアミト；２−ベンズアミノベンゾ
チアゾール−６−スルホンベンズアミド：２−ベンゾチ
アゾールカルボン酸；６−メチルベンゾチアゾール−２
−アルデヒド・２−ベンゾイルベンゾチアゾール；２−
ベンゾチアゾールオキシ酢酸、２−ジクロロメチルベン
ゾチアゾール；２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
チアゾール、Ｎ−シクロへキシル−２−ベンゾチアゾー
ルスルホンアミド：４−メトキシベンゾチアゾール−２
−スルホン酸；２−ベンゾチアゾリルピルビン酸；ビス
［６−ニトロベンゾチアゾールー（２）］尿素等があげ
られる。

本発明のめっき浴には、これらのベンゾチアゾール化合
物の１種又は２種以上を一般に０００１〜３０ｇ／β、
好ましくは０．０１〜２ｇ／βの量で添加することがで
きる。Ｏ，００１ｇ／ρ未満では高電流密度部位にてコ
ゲが発生し、また３０ｇ／βよりも多いと電流効率が低
下し、外観が黒くなるので好ましくない。

本発明のめっき浴に有効成分として含有される式（１）
のベンゾチアゾール化合物は、錫、鉛または錫−鉛合金
めっき浴にて通常用いられるノニオン系界面活性剤と組
合せて用いられる。かかるノニオン系界面活性剤として
は、高級アルコール、アルキルフェノール、脂肪酸、ア
ミン、アルキレンジアミン、脂肪酸アミド、スルホンア
ミド、りん酸、多価アルコール、グルコシド等のポリオ
キシアルキレン付加物が好ましく、具体的には、エマル
ゲンＢ−６６、エマルゲンＬ−４０（花王■製）、アデ
カトールＰＣ−１０、テトロニック７０１．７０２．７
Ｑ４（旭電化■製）、ノイゲンＥＮ−１０、ディスコー
ルＮ−５１２、ディスコールＡＮ−７１５（第−工業製
薬味製）、ニューコール２６１６Ｆ、ＢＡ−８グリコー
ル、ＢＡ−１０グリコール、ニューコール７０７、ニュ
ーコール５６９Ｅ　（日本乳化剤■製）、ＴＤＭＮＳ−
８、ＴＡＭＮＯ−１５（日光ケミカル■製）、アミゼッ
ト１０Ｃ（用研ケミカル■製）、エソマイトＨＴ／６０
　（ライオン■製）、サーフィノール４６５（日信化学
■製）、セドランＦＦ２１０．５０ＨＢ−１００，５０
ＨＢ−６６０，５０ＨＢ−５１００（三洋化成■製）等
があげられる。

ノニオン系界面活性剤は、一般に０．１〜１００ｇ／β
、好ましくは０．５〜２０ｇ／βの量で使用される。

さらに、本発明のめっき浴は、上記のノニオン系界面活
性剤に加えて、錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴にて通
常使用されるカチオン系界面活性剤および／または両性
界面活性剤や脂肪族アルデヒドを併用することができ、
それらの添加により電着皮膜特性がさらに向上する。ま
ためっき皮膜の色調も白っぽくなり、外観も良好になる
。

カチオン系界面活性剤の例としては、塩の形で表わして
、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウム塩、セチル
トリメチルアンモニウム塩、ステアリルトリメチルアン
モニウム塩、ラウリルジメチルエチルアンモニウム塩、
オクタデセニルジメチル−エチルアンモニウム塩、ラウ
リルジメチルアンモニウムベタイン、ステアリルジメチ
ルアンモニウムベタイン、ジメチル−ベンジルラウリル
アンモニウム塩、セチルジメチルベンジルアンモニウム
塩、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウム塩、ト
リメチルベンジルアンモニウム塩、トリエチルベンジル
アンモニウム塩、ヘキサデシルピリジニウム塩、ラウリ
ルピリジニウム塩、ドデシルピコリニウム塩、ラウリル
イミダゾリニウム塩、オレイルイミダゾリニウム塩、ス
テアリルアミンアセテート、ラウリルアミンアセテート
、オクタデシルアミンアセテート等が挙げられる。

カチオン系界面活性剤は、一般に０．０１〜３０ｇ／β
、好ましくは０１〜５ｇ／βの量で使用される。

両性界面活性剤としては、各種の型のものが使用でき、
例えば、アルキルカルボキシベタイン型として、アンヒ
トール２０ＢＳ　（花王）、スワノールＡＭ−３０１（
日本サーファクタント）、アモーゲンＫ（第一工業製薬
）：アルキルアミノカルボン酸型として、レボン１５（
三洋化成）、オバノール５１６（東邦化学）、リボミン
ＬＡ（ライオン）、アルキルイミダシリン型として、レ
ボン１０１−Ｈ（三洋化成）、オバゾリン６６２（東邦
化学）、エナジコールＣＮＳ　（ライオン）、アンフォ
タージＫＪ−２（ロンザ）等が挙げられる。

両性界面活性剤は、一般に０．０１〜３０ｇ／Ａ、好ま
しくは０１〜５ｇ／Ｉ２の量で使用される。

使用できる脂肪族アルデヒドとしては、例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、
ブチルアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド
等があげられる。

添加量は、一般に００００１〜０１ｇ／ｆ２、好ましく
は０．０００５〜００５ｇ／Ｉ２である。

本発明のめっき浴は、上記のような式（１）のベンゾチ
アゾール化合物や各種の添加剤の他に、当然に、めっき
すべき錫および／または鉛の水溶性化合物を含有する。

これらの金属化合物は、通常２価の水溶性錫および／ま
たは鉛化合物であり、また浴の種類に応じて任意の形態
で（例えば塩）添加できることは当業者には周知である
。これらの化合物の浴中の総濃度は、一般に　金属とじ
て０５〜２００ｇ／β、好ましくは１０〜１００ｇ／β
であってよい。また、これらのめっき浴は、浴の種類に
応じて遊離の酸、例えばホウフッ化水素酸（ホウフッ化
物浴）；メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等のアル
カンスルホン酸、２−ヒドロキシエタン−１−スルホン
酸、３−ヒドロキシプロパンスルホン酸等のアルカノー
ルスルホン酸、フェノールスルホン酸（スルホン酸糸溜
）：硫酸（硫酸浴）；スルファミン酸（スルフ７メート
系浴）等を含有する。

これらの酸は錫および鉛の金属に対して、当モルよりも
過剰に存在させることが望ましい。

また、本発明のめっき浴は、この種の浴に使用されてい
る周知のカテコール、ハイドロキノンなどの酸化防止剤
、その他の添加剤を含有できる。

本発明による錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴は、電流
効率が良いのでラック方式のみならず、ジェット方式（
高速度めっき）にても使用することができる。

［発明の作用及び効果］ 本発明のめつき浴は、ベンゾチアゾール化合物を各種の
界面活性剤等とともに配合したことにより、広い電流密
度において良好なめつき外観と良好なはんだ付は性を有
し、電着皮膜が均一な厚さでありかつ炭素板蔵置の少な
いめっきを得ることができ−特に錫−鉛合金めっきの場
合にはめっき皮膜中の析出比率が一定であるめっきを得
ることができる。また、浴の電流効率が良いので高速で
めっきすることができる。

［実施例コ 以下に、いくつかのめっきの実施例を記載するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではない。

太１１江上 添加量 （ｇ／Ｒ） ・２価の錫（メタンスルホン酸第−３６錫として添加） ・２価の鉛（メタンスルホン酸第−４ 鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸　　　　　　　１００・２−ア
ミノベンゾチアゾール　　　　　０．５・セドランＦＦ
−２１０５ 上記成分に蒸留水を加えてＩＪ２とした６調製しためっ
き液を用い、３Ａ、３分、浴温２５℃、無攪拌の条件下
にてハルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

去１目凱ｌ 添加量 （ｇ／Ｒ） ・２価の錫（２−ヒドロキシエタン　　２４スルホン酸
第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシエタン　　　１６スルホン
酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシエタンスルホ　　１００ン酸 ・２−アミノ−６−ニトキシベンゾ　　　０．１チアゾ
ール ・エマルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記成分に蒸留水を加えてＩＪ２とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

矢監■ユ 添加量 （ｇ／ｊＩ） ・２価の錫（２−エタンスルホン酸　　３６第−錫とし
て添加） ・２価の鉛（２−エタンスルホン酸　　　４第−鉛とし
て添加） ・遊離２−エタンスルホン酸　　　　　１００・２−ア
ミノ−６−メドキシベンゾ　　　０．１チアゾール ・エマルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記成分に蒸留水を加えてＩＩ２とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

実１１肌Ａ 添加量 （ｇ＃） ・２価の錫（メタンスルホン酸第−２４錫として添加） ・２価の鉛（メタンスルホン酸第−１６鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸　　　　　　　１００・２−ア
ミノ−６−クロルペンゾチ　　　００５アゾール ・エマルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記成分に蒸留水を加えて１βとした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

失１１雅二 添加量 （ｇ／β） ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシプロパンスル ホン酸 ・４−クロル−２−アミノベンゾチ　　　０．１アゾー
ル ・エマルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）０２ 上記成分に蒸留水を加えて１ｉとした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

支爽五１ 添加量 （ｇ／１８） ・２価の錫（メタンスルホン酸第− 錫として添加） ・２価の鉛（メタンスルホン酸第− 鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸 ・５６−ジクロル−２−アミノベン ゾチアゾール ・エマルゲンＬ−４０ ０，０２ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記成分に蒸留水を加えて１℃とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

実Ｊ１肌ユ 添加量 （ｇ／刺 ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ　　３６ンスルホン
酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ　　　４ンスルホン
酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシプロパンスル　　１００ホン酸 ・２−アミノ−６−ニドロベンゾチ　　　０．１アゾー
ル ・エマルゲンＬ−４０５ ・カテコール　　　　　　　　　　　　　１上記成分に
蒸留水を加えて１℃とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

大Ｊｌ生旦 添加量 （ｇ／β） ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ　　３６ンスルホン
酸第−錫として添加） 、２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ　　　４ンスルホン
酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシプロパンスル　　１００ホン酸 ・ベンゾチアゾール　　　　　　　　　　００３・エマ
ルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記酸分に蒸留水を加えてＩＩ２とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

実１１肌ユ 添加量 （ｇ／ρ） ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ　　３６ンスルホン
酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ　　　４ンスルホン
酸第−鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸　　　　　　　１００・２−メ
チルベンゾチアゾール　　　　　０．０４・テトロニッ
クＴＲ−７０２５ ・ノイゲンＥＮ−１０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．３上
記酸分に蒸留水を加えて１でとした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

叉ＩＬＬ旦 添加量 （ｇ／β） ２価の錫 （２−ヒドロキシプロパ　　３６ ンスルホン酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ　　４ンスルホン酸
第−鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸　　　　　　　＋００・２−メ
ルカプトベンゾチアゾール　　　０．３・アデカトール
ＰＣ−１０８，７ ・カテコール　　　　　　　　　　　　　Ｉ上記成分に
蒸留水を加えて１βとした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す、。

去ｍ↓ 添加量 （ｇ／Ｊ） ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシプロパンスル ホン酸 ・２−メルカプトベンゾチアゾール・　　０．１シクロ
ヘキシルアミン塩 ・ノイゲンＥＮ　　　　　　　　　　　　　５・チクノ
ールＲ−５（５０）　　　　　　　　２上記酸分に蒸留
水を加えて１でとした。

調製しためっき液を用い、実施例】と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

比較■ユ 添加量 （ｇ／Ｑ） ・２価の錫 添加） ・２価の鉛 添加） ・ホウフッ化水素酸 ・ホウ酸 ・にかわ ・β−ナフトール 上記成分に蒸留水を加えて （ホウフッ化第−錫として　　８゜ （ホウフッ化第−鉛として １℃とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

比１ｕ肌旦 添加量 （ｇ／β） ・２価の錫（ホウフッ化第−錫として　　８０添加） ・２価の鉛（ホウフッ化第−鉛として　　５添加） ・遊離ホウフッ化水素酸　　　　　　　１００・ホウ酸
　　　　　　　　　　　　　　２５・ペプトン　　　　
　　　　　　　　　　５上記成分に蒸留水を加えてＩＩ
２とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

比ｌむｉ且 添加量 （ｇ／Ｉ） ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ　　３６ンスルホン
酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ　　　４ンスルホン
酸第−鉛として添加） ・遊離２−ヒドロキシプロパンスル　　１００ホン酸 ・エマルゲンＬ−４０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．２上
記成分に蒸留水を加えてＩＩ２とした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

比１吐丘 添加量 （ｇ／Ｒ） ・２価の錫（メタンスルホン酸第−３６錫として添加） ・２価の鉛（メタンスルホン酸第−４ 鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸　　　　　　　１００・テトロ
ニックＴＲ−７０２５ ・ノイゲンＥＮ−１０５ ・チクノールＲ−５（５０）　　　　　　　　０．３上
記成分に蒸留水を加えて１βとした。

調製しためっき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

比遣Ｕ肌二 ・２価の錫（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−錫として添加） ・２価の鉛（２−ヒドロキシプロパ ンスルホン酸第−鉛として添加） ・遊離メタンスルホン酸 ・エマルゲンＬ−４０ ・チクノールＲ−５（５０） 添加量 （ｇ＃） ０．２ ・Ｎ−（３−ヒドロキシブチリデン）０３−ｐ−スルフ
ァニル酸 上記成分に蒸留水を加えて１βとした。

調製しためつき液を用い、実施例１と同じ条件下にてハ
ルセルテストを行った。結果を第１表に示す。

評価基準 ハルセルパネルめっき外観 ０．５〜１５　Ａ／ｄｍ”におけるめっき外観が良。

△：５〜１５　Ａ／ｄｍ２におけるめっき外観が可。

Ｘ、５〜１５　Ａ／ｄｍ”におけるめっき外観が不可。

均一電着性 ○：ワトソン氏法により５０％以上。

△：ワトソン氏法により３０％〜５０％。

×：ワトソン氏法により３０％以下。

半田付は性 ○：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イム（ＭＩＬ規格にて行う）が２秒以下。

△：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イム（ＭＩＬ規格にて行う）が２秒〜５秒。

Ｘ：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イム（ＭＩＬ規格にて行う）が５秒以上。

電着組成の安定性 ○：電＠Ｐｂ％のばらつきが５％以下。

△：電看ｐｂ％のばらつきが５〜１０％。

×、電着ｐｂ％のばらつきが１０％以上。

陰極電流効率 ○：９０％以上。

６１７０〜９０％。

×ニア０％以下。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５
   は、それぞれ同一又は異なっていてよく、Ｈ；−ＳＨ；
   −ＯＨ；ＯＲ（Ｒは所望により−ＣＯ＿２Ｈにて置換さ
   れてもよいＣ＿１＿〜＿６アルキル）；ＯＨ、ハロゲン
   、−ＣＯ＿２Ｈ、−ＣＯＣＯ＿２Ｈ、アリールまたはＯ
   Ｃ＿１＿〜＿６アルキルで置換されていてもよいＣ＿１
   ＿〜＿６アルキル；ＯＨ、ＮＨ＿２、ハロゲンまたはＯ
   Ｃ＿１＿〜＿６アルキルで置換されていてもよいアリー
   ル；ＳＲ（Ｒは所望により−ＣＯ＿２Ｈにて置換されて
   もよいＣ＿１＿〜＿６アルキル）； ▲数式、化学式、表等があります▼；−Ｓ−アリール； ▲数式、化学式、表等があります▼；−Ｓ−Ｓ−アリー
   ル；ＮＨ＿２； −ＮＲＲ’（ＲおよびＲ’はＣ＿１＿〜＿６アルキルま
   たは一緒になって環を形成してもよい）；−ＮＨＣＯＣ
   ＿１＿〜＿６アルキル；−ＮＨＣＯアリール；−ＮＨＮ
   Ｈ＿２；−ＮＯ＿２；ハロゲン；−ＣＯ＿２Ｈ；ＣＯＣ
   ＿１＿〜＿６アルキル；ＣＯアリール；−ＣＯＮＨアリ
   ール；−ＣＳＮＨアリール；−ＣＮ；−ＣＨＯ；−ＳＯ
   ＿３Ｈ；−ＳＯ＿２ＮＨ＿２または−ＳＯ＿２ＮＲＲ’
   （ＲおよびＲ’はＣ＿１＿〜＿６アルキルまたは一緒に
   なって環を形成してもよい）を意味する］ にて示される化合物を有効成分として含有することを特
   徴とする錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴。
2. （２）請求項（１）の一般式（ I ）のベンゾチアゾー
   ル化合物およびノニオン系界面活性剤の少なくとも一種
   以上を含有することを特徴とする錫、鉛または錫−鉛合
   金めっき浴。
3. （３）請求項（１）の一般式（ I ）のベンゾチアゾー
   ル化合物およびノニオン系界面活性剤の少なくとも一種
   以上ならびにカチオン系界面活性剤の一種以上を含有す
   ることを特徴とする錫、鉛または錫−鉛合金めっき浴。