JPH04290887A - ４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、優れた紫外線吸収作用
を示し、かつ卓越した光安定性を有する新規な４，４−
ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導
体、並びにこれを含有し、日焼け防止効果に優れた紫外
線吸収剤及び化粧料に関する。 【０００２】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】紫外線
は、皮膚にさまざまな変化をもたらすことが知られてい
る。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０ｎｍの
長波長紫外線、３２０〜２９０ｎｍの中波長紫外線及び
２９０ｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それぞれＵＶ−
Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃと呼んでいる。太陽光線中の紫
外線はＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂであり、ＵＶ−Ｃはオゾン
層において吸収され地上にはほとんど達しない。 【０００３】ＵＶ−Ｂはある一定以上の光量が皮膚に照
射されると紅斑や水泡を形成し、またメラニン形成を亢
進し、色素沈着を生じさせる等の変化を皮膚にもたらす
。近年の大気汚染に基づく上空のオゾン層の破壊は、こ
のＵＶ−Ｂの増加をもたらすため、重大な問題となって
いる。これに対し、ＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒化さ
せる作用（即時黒化）を引き起こし、またそのエネルギ
ーは真皮にまで到達するため、血管壁や結合組織中の弾
性繊維に変化をもたらす。このようなＵＶ−Ａ及びＵＶ
−Ｂの両方の作用は皮膚の老化を促進し、しみ、しわ、
ソバカス等の発生原因になるとともに、長期的には皮膚
癌の原因になると考えられている。 【０００４】このように、紫外線がヒトの皮膚に及ぼす
影響が明らかになるに伴い、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂを吸
収する化合物の開発が行われるようになってきている。 このような紫外線吸収剤は、（１）　ＵＶ−Ｂ又はＵＶ
−Ａの光を可能な限り完全に吸収すること、（２）　光
や熱に対して安定であること、（３）　皮膚に対する毒
性、刺激性、さらに他の有毒作用がないこと、（４）　
効果が持続すること、（５）　化粧料基剤との相溶性に
優れていること、等の条件をすべて満足することが望ま
しいとされている。 【０００５】従来、ＵＶ−Ａ吸収剤としては、例えば、
ジベンゾイルメタン誘導体が、ＵＶ−Ｂ吸収剤としては
、例えば桂皮酸エステル、ベンゾフェノン、ｐ−アミノ
安息香酸、サリチル酸等の誘導体が用いられている。 【０００６】しかしながら、これら従来の紫外線吸収剤
は、必ずしも上記条件を充分満足するものではなく、経
皮吸収されたり、特に光に対する安定性が不十分で、紫
外線による分解や反応が起こることが知られている〔Ｉ
ｎｔ．　Ｊ．　Ｃｏｓｍｅｔｉｃ　Ｓｃｉｅｎｃｅ，　
１０，　５３（１９８８）〕。そして、このような紫外
線吸収剤の経皮吸収や分解は、効果の持続の低下を招く
という問題があった。 【０００７】従って、前記条件を満足し、皮膚に吸収さ
れにくく、特に光に対する安定性に優れた化合物、並び
に日焼け防止効果に優れた紫外線吸収剤及び化粧料が望
まれていた。 【０００８】 【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で
表される４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１
，３−ジオン誘導体が、優れた紫外線吸収作用を示し、
皮膚に吸収されにくく、しかも光に対して極めて安定で
あり、優れた油溶性を示すことを見出し、本発明を完成
した。 【０００９】すなわち、本発明は、次の一般式（１）【
００１０】 【化２】 【００１１】〔式中、Ｒ１　は、同一又は異なって、炭
素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基
、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアシ
ル基又は水酸基を示し、２個のＲ１　がメチレンジオキ
シ基を形成してもよい。ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ２
　は炭素数２〜３のアルキレン基又は炭素数２〜１１の
アルキレンオキシ基を示し、Ｒ３　は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示す〕
で表される４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−
１，３−ジオン誘導体、並びにこれを含有することを特
徴とする紫外線吸収剤及び化粧料を提供するものである
。 【００１２】本発明において、一般式（１）中、Ｒ１　
のうち、炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−
プロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチル
オキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オク
チルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜８のアルキル基
としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基
、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が
挙げられ、炭素数６〜１０のアリール基としては、例え
ばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が
挙げられ、炭素数２〜１０のアシル基としては、例えば
アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ベンゾイ
ル基等が挙げられ、また、２個のＲ１　がメチレンジオ
キシ基を形成してもよい。就中、Ｒ１　としては炭素数
１〜４の低級アルコキシ基が好適である。Ｒ２　で示さ
れる炭素数２〜３のアルキレン基としては、例えばエチ
レン基、プロピレン基等が挙げられ、炭素数２〜１１の
アルキレンオキシ基としては、例えばエチレンオキシ基
、プロピレンオキシ基、ウンデシレンオキシ基等が挙げ
られ、このうちプロピレンオキシ基が特に好ましい。さ
らに、Ｒ３　で示される炭素数１〜６のアルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、このうち炭
素数１〜５の低級アルキル基が特に好ましい。 【００１３】本発明の４，４−ジメチル−１−フェニル
ペンタン−１，３−ジオン誘導体（１）は、例えば次の
反応式に従って製造することができる。 【００１４】 【化３】 【００１５】〔式中、Ｒ４　は炭素数２〜３のω−アル
ケニル基又は炭素数２〜１１のω−アルケニルオキシ基
を示し、Ｒ１　、Ｒ３　及びｎは前記と同じ意味を有す
る〕すなわち、シラン誘導体（２）とベンゾイルピナコ
ロン誘導体（３）とをヒドロシリル化反応させることに
より本発明の４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン
−１，３−ジオン誘導体を得ることができる。 【００１６】原料として用られるシラン誘導体（２）は
、市販品を容易に入手することができ、また、ベンゾイ
ルピナコロン誘導体（３）は、例えば公知の方法〔Ｊ．
　Ａｍ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．，　８０，　４８９１
（１９５８）；Ｊ．Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒ．，　３１２
，　１０９（１９８４）；　Ｊ．　Ｐｏｌｙｍ．　Ｓｃ
ｉ．Ｐｏｌｙｍ．　Ｃｈｅｍ．　Ｅｄ．，　２０，　３
０７９（１９８２）〕に従い、次の方法（ａ）又は（ｂ
）により製造することができる。 【００１７】方法（ａ） 【００１８】 【化４】 【００１９】〔式中、Ｒ５　はメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基又はｎ−ブチル基を示し、Ｒ１　、Ｒ４　
及びｎは前記と同じ意味を有する〕すなわち、ベンゾエ
ート（４）とピナコロン（５）を縮合させることにより
、ベンゾイルピナコロン誘導体（３）を製造することが
できる。反応は、無水テトラヒドロフラン、トルエン、
キシレン等の溶媒中、触媒として塩基を用い、２０〜１
５０　℃で数１０分〜１０時間行うのが好ましい。ここ
で用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウムな
どの金属水素化物；ブチルリチウムなどの金属アルキル
化物；トリエチルアミンなどのアミン類；ナトリウムア
ミドなどの金属アミド類；ナトリウムメトキシドなどの
金属アルコキシド化合物等が挙げられる。 【００２０】方法（ｂ） 【００２１】 【化５】 【００２２】〔式中、Ｒ１　、Ｒ４　、Ｒ５　及びｎは
前記と同じ意味を有する〕すなわち、アセチルベンゼン
誘導体（６）とエチルエステル（７）を縮合させること
により、ベンゾイルピナコロン誘導体（３）を製造する
ことができる。この反応に用いられるエステル（７）と
しては、例えばピバリン酸メチル、ピバリン酸エチル、
ピバリン酸プロピル、ピバリン酸ブチル等が挙げられる
。また、反応は方法（ａ）と同様の条件下で行われる。 【００２３】シラン誘導体（２）とベンゾイルピナコロ
ン誘導体（３）との反応は、触媒の存在下に行われ、触
媒としては一般にヒドロシリル化に用いられるもの、例
えば遊離ラジカル開始剤；光開始剤；ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金等の
金属錯体化合物；これらをシリカゲル又はアルミナに担
持させたものなどが挙げられる。これらのうち、特に塩
化白金酸、Ｓｐｅｉｅｒ試薬（塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液）等が好ましい。触媒の使用量は、反
応を促進するのに充分な量であればよく、特に限定され
ないが、使用されるベンゾイルピナコロン誘導体１モル
に対して１０−６〜１０−１モルの範囲が好ましい。 【００２４】また、反応溶媒は必須ではないが、必要に
応じて適当な溶媒中で反応を行ってもよい。反応溶媒と
しては、反応を阻害しないものであれば特に限定されず
、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭
化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどのベ
ンゼン系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノ
ールなどのアルコール系溶媒等が挙げられる。アルコー
ル系溶媒を使用する場合には、Ｓｉ−Ｈと−ＯＨとの間
における脱水素反応を防止又は抑制するために、酢酸カ
リウム等のｐＨ調整剤（特開昭５７−１４９２９０　号
公報）を用いるのが好ましい。 【００２５】反応は、０〜２００　℃で進行するが、反
応速度や生成物の着色などを考え、０〜１００　℃で行
うのが好ましい。また、反応時間は　０．５〜２４時間
程度とするのが好ましい。 【００２６】本発明の紫外線吸収剤は、上記の如くして
得られる４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１
，３−ジオン誘導体（１）の１種又は２種以上をそのま
ま使用してもよいが、担体に加えて混和せしめた形態の
ものが好ましい。担体としては、上記４，４−ジメチル
−１−フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体（１）
に対して不活性なものであれば特に制限されず、固体、
液体、乳剤、泡状体、ゲル等のいずれであってもよい。 その代表的なものとしては、例えば水、アルコール、油
脂（例えば炭化水素オイル、脂肪酸エステル、長鎖アル
コール、シリコーン油等）、微粉末（例えば澱粉、タル
ク等）、エアゾール噴射剤として使用される低沸点炭化
水素又はハロゲン化炭化水素等が挙げられる。 さらに、本発明の紫外線吸収剤には、４，４−ジメチル
−１−フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体（１）
の紫外線吸収作用を損なわない範囲で、他の成分、例え
ば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤等を適宜配合する
ことができる。 【００２７】本発明の化粧料は、４，４−ジメチル−１
−フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体（１）を含
有するものであり、その化粧料基剤に対して親和性を有
する４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３
−ジオン誘導体（１）の１種又は２種以上を、常法によ
り公知の化粧料基剤に配合することにより製造され、ク
リーム、溶液、油剤、スプレー、スティック、乳液、フ
ァンデーション、軟膏等の剤型とすることができる。す
なわち、４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１
，３−ジオン誘導体（１）を化粧料基剤に合わせて選択
使用することにより、オイル基剤の化粧油、多量にオイ
ルを配合する油性クリームや油性乳液、水を多量に配合
する弱油性クリームや弱油性乳液、水ベースの化粧水等
の基礎化粧料から、油剤を基剤とするファンデーション
やリップスティック等のメイクアップ化粧料に至るまで
、紫外線吸収作用を有するあらゆる形態の化粧料を製造
することができる。これらに適した基剤及び溶剤として
は、固体状又は液状パラフィン、クリスタルオイル、セ
レシン、オゾケライト、モンタンろうなどの炭化水素類
；オリーブ油、地ろう、カルナウバろう、ラノリン、鯨
ろうなどの植物油又は動物性油脂やろう；ステアリン酸
、パルミチン酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリ
ン酸エステル、グリセリンジステアリン酸エステル、グ
リセリンモノオレイン酸エステル、イソプロピルミリス
チン酸エステル、イソプロピルステアリン酸エステル、
ブチルステアリン酸エステルなどの脂肪酸及びそのエス
テル類；エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
セチルアルコール、ステアリルアルコール、パルミチル
アルコール、ヘキシルドデシルアルコールなどのアルコ
ール類等が挙げられる。また、グリコール、グリセリン
、ソルビトールなどの保湿作用を有する多価アルコール
類も使用することができる。 【００２８】本発明の紫外線吸収剤及び化粧料において
、４，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３−
ジオン誘導体（１）の配合量は、使用形態により変動す
るため、特に制限されず有効量存在すればよいが、一般
には全組成物中に　０．１〜２０重量％、好ましくは　
０．５〜１０重量％配合される。 【００２９】本発明の紫外線吸収剤及び化粧料は、４，
４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３−ジオン
誘導体（１）以外に、更に他のＵＶ−Ｂ吸収剤又はＵＶ
−Ａ吸収剤と組み合わせ、通常の日焼け止め化粧料とし
て使用するのがより好ましい。このようなＵＶ−Ｂ吸収
剤としては、例えばｐ−メチルベンジリデン−Ｄ（Ｌ）
−ショウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩、２−フ
ェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム
塩、３，４−ジメチルフェニルグリオキシル酸ナトリウ
ム塩、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェニルベン
ゾフェノン−２′−カルボン酸イソオクチルエステル、
ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、２−フェニル−５−メチ
ルベンズオキサゾール、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
ステル類等が挙げられ、ＵＶ−Ａ吸収剤としては、例え
ば４−メトキシ−２′−カルボキシジベンゾイルメタン
、４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン
、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン、ジベンジリデンカン
ファー類等が挙げられる。 【００３０】本発明の化粧料には、前記成分のほか、種
々の添加剤、例えば通常用いられるＷ／Ｏ型及びＯ／Ｗ
型の乳化剤；メチルセルロース、エチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸、トラガカ
ント、寒天、ゼラチンなどの増粘剤；その他香料、防腐
剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分、生理的に許容し得
る着色剤等を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜配
合することができる。 【００３１】 【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 実施例１ １−（４−（３，３−ジエチルメチルシリル）−プロポ
キシ−３−メトキシフェニル）−４，４−ジメチルペン
タン−１，３−ジオン　　（本発明化合物１；一般式（
１）中、Ｒ１　＝ＯＣＨ３　，Ｒ２　＝ＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ２Ｏ　，Ｒ３　＝ＣＨ３，Ｃ２Ｈ５　，Ｃ２Ｈ５　，
ｎ＝１）の合成：（１）　１−（４−アリルオキシ−３
−メトキシフェニル）−４，４−ジメチルペンタン−１
，３−ジオンの合成；攪拌装置、滴下漏斗、還流冷却器
及び窒素導入管を備えた１０００ｍｌの三口フラスコに
、２００ｍｌ　のテトラヒドロフランを入れ、６０％水
素化ナトリウム２４ｇ（０．６ｍｏｌ）を分散させて加
熱還流した。これに、４−アリルオキシ−３−メトキシ
アセトフェノン６１．９ｇ（０．３ｍｏｌ）とピバル酸
エチル３９．１ｇ（０．３ｍｏｌ）をテトラヒドロフラ
ン　２００ｍｌに溶かした溶液を約　３．５時間かけて
注意深く滴下し、さらに終夜加熱攪拌を続けた。氷冷後
、２規定塩酸　３００ｍｌを注意深く加え、さらに飽和
食塩水１００ｍｌで２　回洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して褐色の油状
物を得た。この油状物を、ヘキサン／酢酸エチル（２：
１）を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーを行い、目的の標記化合物を淡赤色油状物として７
４．６ｇ（収率８６％）得た。 融点：４０．０℃ ＩＲ（ν　ＫＢｒ，　ｃｍ−１）：３０９０，　２９６
０，　２９３０，　２８７０，　２６２０，　１７１０
，　１６８０，　１６００，　１５２０，　１４７０，
　１４３０，　１３７０，　１３４０，　１２８０，　
１２１０，　１１８０，　１１５０，　１１４０，　１
０８０，　１０２０，　１０００，　９３０，　８８０
，　７３０，　６４０，　６２０，　５７０，　４８０
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣｌ４，　δ）：１．２３（ｓ，９Ｈ
，ｔ−Ｂｕ），　３．８３（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ３），
４．４３〜４．６０（ｍ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ２），　５．
０６〜５．５０（ｍ，２Ｈ，Ａｌｌｙｌｉｃ−ＣＨ２）
，５．７０　〜６．１０（ｍ，１Ｈ，Ａｌｌｙｌｉｃ−
ＣＨ），　６．０５（ｓ，１Ｈ），６．６７（ｄ，１Ｈ
，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ａｒｏｍａｔｉｃ），　７．１７　
〜７．３２（ｍ，２Ｈ，Ａｒｏｍａｔｉｃ），１６．７
６（ｂｓ，１Ｈ） （２）　１−（４−（３，３−ジエチルメチルシリル）
−プロポキシ−３−メトキシフェニル）−４，４−ジメ
チルペンタン−１，３−ジオンの合成；磁気攪拌装置、
滴下漏斗、還流冷却器及び窒素導入管を備えた３０ｍｌ
のナスフラスコに、１−（４−アリルオキシ−３−メト
キシフェニル）−４，４−ジメチルペンタン−１，３−
ジオン　３．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）とジエチルメチルシ
ラン　３．２ｇ（３１ｍｍｏｌ）を入れ、１０％酢酸カ
リウムエタノール溶液約　０．１ｍｌと２％塩化白金酸
６水和物イソプロパノール溶液約　０．２ｍｌとを加え
、室温で　３時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し
て淡黄色の油状物を得た。この油状物を、ヘキサン／酢
酸エチル（２０：１）を展開溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーを行い、目的の標記化合物を無色
油状物として３．３７ｇ（収率８３％）得た。 ＩＲ（ν　ｎｅａｔ，　ｃｍ　−１）：２９６０，　２
８８０，　１６００，　１５１０，　１４７０，　１２
８０，　１２１０，　１１８０，　１１５０，　１１４
０，　１０４０，　８８０，　７９０，　７５０ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：−０．０４（ｓ，３
Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ３），　０．４９〜０．７０（ｍ，６Ｈ
，Ｓｉ−ＣＨ２−），０．９３（ｓ，６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ
２−ＣＨ３），　１．２４（ｓ，９Ｈ，ｔ−Ｂｕ），　
１．８０〜２．０２（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２−），３．９
４（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ３），　４．０２（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ，Ｏ−ＣＨ２），　６．２３（ｓ，１Ｈ
），６．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，Ａｒｏｍａ
ｔｉｃ），　７．４３〜７．６０（ｍ，２Ｈ，Ａｒｏｍ
ａｔｉｃ），　１６．７２（ｂｓ，１Ｈ） 【００３２】試験例１　　　　　　　　　　紫外線吸収
効果：実施例１で得られた本発明化合物１、比較化合物
として２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（
ＵＶ−Ａ吸収剤；比較化合物１）及び２−エチルヘキシ
ル−ｐ−メトキシ桂皮酸（ＵＶ−Ｂ吸収剤；比較化合物
２）を用い、紫外線吸収効果（吸光度）を調べた。結果
を表１に示す。 （測定方法）被験化合物をエタノール（９９．５％試薬
特級）に溶解して２．５×１０−５ｍｏｌ／ｌ　濃度の
溶液を調製し、石英セル（１ｃｍ×１ｃｍ）に入れた後
、自記分光光度計（日立製Ｕ−３４１０型）により吸光
度を測定した。 【００３３】 【表１】 【００３４】表１から明らかなように、本発明化合物は
比較化合物に比べ、ＵＶ−Ａ紫外線及びＵＶ−Ｂ紫外線
に対する吸収効果が強く、日焼け止め効果の高いことが
わかる。 【００３５】試験例２　　　　　　　　　　紫外線に対
する安定性：実施例１で得られた本発明化合物１、比較
化合物として４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾ
イルメタン（比較化合物３）及び２−エチルヘキシル−
ｐ−メトキシシンナメート（比較化合物４）を用い、紫
外線に対する安定性を調べた。結果を表２に示す。 （実験方法）被験化合物を９９．５％エタノール／蒸留
水（３／２）溶媒に２ｍｍｏｌ／ｌとなるように溶解し
、太陽光に極めて近似の波長及び強度を有するキセノン
耐光試験機を用いて１４時間又は６５時間紫外線を照射
した。溶媒を留去した後、定量分析を行い残存率から安
定性を評価した。 【００３６】 【表２】 【００３７】表２から明らかなように、本発明化合物は
比較化合物に比べ、紫外線に対して著しく安定性に優れ
ていることがわかる。 【００３８】実施例２　　　　　　　　　　Ｗ／Ｏ型ク
リーム：常法により、下記組成のＷ／Ｏ型クリームを製
造した。 （組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　１−（４−（３，３−ジエチルメチルシ
リル）−　　プロポキシ−３−メトキシフェニル）−４
，４−　　ジメチルペンタン−１，３−ジオン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０　
　ソルビタンセスキオレエート　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．０　　
ステアリン酸アルミニウム　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５　　
セチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４
．０　　流動パラフィン　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　１６．０　　スクワラン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１０．０　　ミリスチン酸イソプ
ロピル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　５．０　　安息香酸ナトリウム
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　０．３　　グリセリン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０　
　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　適量　　水　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　バランス　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
０．０【００３９】実施例３　　　　　　　　　　化粧
水：常法により、下記組成の化粧水を製造した。 （組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　１−（４−（３，３−ジエチルメチルシ
リル）−　　プロポキシ−３−メトキシフェニル）−４
，４−　　ジメチルペンタン−１，３−ジオン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０　
　ポリオキシエチレン（２３）ラウリルエーテル　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　４．０　　エタノー
ル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．
０　　グリセリン　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　３．０　　ジプロピレングリコール　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　７．０　　乳酸　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　０．０５　　　乳酸
ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
１２　　　メチルパラベン　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　０．１　　香料　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　適量　　色素　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　微量　
　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　バランス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　１００．０【００４０
】実施例４　　　　　　　　　　Ｏ／Ｗ型乳液：常法に
より、下記組成のＯ／Ｗ型乳液を製造した。 （組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　１−（４−（３，３−ジエチルメチルシ
リル）−　　プロポキシ−３−メトキシフェニル）−４
，４−　　ジメチルペンタン−１，３−ジオン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０　
　ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　２．０　　モノステアリン酸ソルビタン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１．５　　ポリオキシエチレン（２３）ソルビタンモ
ノステアレート　　　　　　　　　１．０　　セチルア
ルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４　　
ステアリルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３
　　ミリスチン酸イソプロピル　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７．０
　　スクワラン　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　５．０　　流動パラフィン　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　５．０　　固形パラフィン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　２．０　　エチルパラベ
ン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１　　メ
チルパラベン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０
．１　　カルボキシビニルポリマー （カーボポール，グッドリッチ社製）　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２　　水酸化
カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４
　　　　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　適量　　水　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　バランス　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１００．０　　【００４１】実施例５　　　　　　　
　　　Ｏ／Ｗ型クリーム：常法により、下記組成のＯ／
Ｗ型クリームを製造した。 （組成）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（重量％）　　１−（４−（３，３−ジエチルメチルシ
リル）−　　プロポキシ−３−メトキシフェニル）−４
，４−　　ジメチルペンタン−１，３−ジオン　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０　
　ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　１．０　　親油型モノステアリン酸グリセリド　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．
０　　ポリオキシエチレン（２３）ソルビタンモノステ
アレート　　　　　　　　　１．０　　セチルアルコー
ル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０　　ステア
リルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０　　ス
クワラン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１０．０　　　　流動パラフィン　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　２０．０　　　　ワセリン　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０　　ブチ
ルパラベン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．
１　　メチルパラベン　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　０．１　　トリエタノールアミン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１．０　　　　グリセリン　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１０．０　　香料　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
　　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　バランス　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１００．０【００４
２】 【発明の効果】本発明の４，４−ジメチル−１−フェニ
ルペンタン−１，３−ジオン誘導体（１）は、優れた紫
外線吸収作用と卓越した光安定性を有するものであり、
これを含有する本発明の紫外線吸収剤及び化粧料は、日
焼け防止効果に優れたものである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ１　は、同一又は異なって、炭素数１〜８の
   アルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜
   １０のアリール基、炭素数２〜１０のアシル基又は水酸
   基を示し、２個のＲ１　がメチレンジオキシ基を形成し
   てもよい。ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ２　は炭素数２
   〜３のアルキレン基又は炭素数２〜１１のアルキレンオ
   キシ基を示し、Ｒ３　は、同一又は異なって、炭素数１
   〜６のアルキル基又はフェニル基を示す〕で表される４
   ，４−ジメチル−１−フェニルペンタン−１，３−ジオ
   ン誘導体。
2. 【請求項２】　　請求項１記載の４，４−ジメチル−１
   −フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体を含有する
   ことを特徴とする紫外線吸収剤。
3. 【請求項３】　　請求項１記載の４，４−ジメチル−１
   −フェニルペンタン−１，３−ジオン誘導体を含有する
   ことを特徴とする化粧料。