JPH0429670B2 - - Google Patents
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- JPH0429670B2 JPH0429670B2 JP58046587A JP4658783A JPH0429670B2 JP H0429670 B2 JPH0429670 B2 JP H0429670B2 JP 58046587 A JP58046587 A JP 58046587A JP 4658783 A JP4658783 A JP 4658783A JP H0429670 B2 JPH0429670 B2 JP H0429670B2
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- group
- hydroxy
- alkyl group
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式()
(式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
ニルアルキル基を表わす。) の化合物を出発物質として、一般式() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
同じ。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類を
製造する方法に関する。
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
ニルアルキル基を表わす。) の化合物を出発物質として、一般式() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
同じ。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類を
製造する方法に関する。
前記式で示される2−フエニルベンゾトリア
ゾール類は、たとえば、ポリマー、塗料、油など
に添加する紫外線吸収剤として有用である。この
2−フエニルベンゾトリアゾール類の一般的な製
造方法としてはo−ニトロアゾベンゼン類を還元
して式のN−オキシドとし、これを再び還元し
て目的物を得る2段階還元法及びo−ニトロアゾ
ベンゼン類より式を経過するが、1段階で目的
物を得る1段階還元法が知られている。2段階法
は1段階法よりも工程数が多いが、品質及び収率
の点で有利となる場合がある。もちろん、中間体
としての一般式()のN−オキシド類を出発物
質として、これを還元することによつても目的物
である2−フエニルベンゾトリアゾール類を得る
ことができる。なおo−ニトロアゾベンゼン類の
原料化合物はo−ニトロアニリンを類ジアゾ化し
てジアゾ化物とし、これをフエノール類とカツプ
リングさせることにより容易に得られる。いずれ
にしても従来、o−ニトロアゾベンゼン類あるい
は式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N−
オキシド類を対応する式の2−フエニルベンゾ
トリアゾール類に変換するには化学的又は電解的
還元法が採用されているが、夫々一長一短があつ
て充分満足し得る方法はなかつた。例えば特公昭
37−5934号公報及び米国特許第3773751号明細書
ではo−ニトロアゾベンゼン類を、アルコール性
水酸化ナトリウム溶液中の亜鉛末で化学的に還元
して相当する2−フエニルベンゾトリアゾール類
を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウ
ム−亜鉛末系は亜鉛スラツジを生じる点で排水汚
染の問題を含んでいる。硫化アンモニウム、アル
カリスルフイド、亜鉛−アンモニア系、硫化水素
−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米個特許第
2362988号明細書に開示されるように、この変換
の化学的還元剤として使用されているが、多量の
亜硫酸塩或は亜鉛塩を生成するため、廃水汚染の
問題を生じ、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
又使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が
発生するため、大気汚染の問題にもつながる。特
開昭51−138679号、同51−138680号公報には加圧
による水素添加法が、また特開昭50−88072号公
報にはヒドラジンによる還元法が記載されている
が、収率及び経済面で不満足であり、しかも反応
中副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得
ることは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子
を含む目的物を得る場合(この場合は脱塩素反応
等の副反応が起こる)に強い。
ゾール類は、たとえば、ポリマー、塗料、油など
に添加する紫外線吸収剤として有用である。この
2−フエニルベンゾトリアゾール類の一般的な製
造方法としてはo−ニトロアゾベンゼン類を還元
して式のN−オキシドとし、これを再び還元し
て目的物を得る2段階還元法及びo−ニトロアゾ
ベンゼン類より式を経過するが、1段階で目的
物を得る1段階還元法が知られている。2段階法
は1段階法よりも工程数が多いが、品質及び収率
の点で有利となる場合がある。もちろん、中間体
としての一般式()のN−オキシド類を出発物
質として、これを還元することによつても目的物
である2−フエニルベンゾトリアゾール類を得る
ことができる。なおo−ニトロアゾベンゼン類の
原料化合物はo−ニトロアニリンを類ジアゾ化し
てジアゾ化物とし、これをフエノール類とカツプ
リングさせることにより容易に得られる。いずれ
にしても従来、o−ニトロアゾベンゼン類あるい
は式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N−
オキシド類を対応する式の2−フエニルベンゾ
トリアゾール類に変換するには化学的又は電解的
還元法が採用されているが、夫々一長一短があつ
て充分満足し得る方法はなかつた。例えば特公昭
37−5934号公報及び米国特許第3773751号明細書
ではo−ニトロアゾベンゼン類を、アルコール性
水酸化ナトリウム溶液中の亜鉛末で化学的に還元
して相当する2−フエニルベンゾトリアゾール類
を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウ
ム−亜鉛末系は亜鉛スラツジを生じる点で排水汚
染の問題を含んでいる。硫化アンモニウム、アル
カリスルフイド、亜鉛−アンモニア系、硫化水素
−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米個特許第
2362988号明細書に開示されるように、この変換
の化学的還元剤として使用されているが、多量の
亜硫酸塩或は亜鉛塩を生成するため、廃水汚染の
問題を生じ、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
又使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が
発生するため、大気汚染の問題にもつながる。特
開昭51−138679号、同51−138680号公報には加圧
による水素添加法が、また特開昭50−88072号公
報にはヒドラジンによる還元法が記載されている
が、収率及び経済面で不満足であり、しかも反応
中副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得
ることは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子
を含む目的物を得る場合(この場合は脱塩素反応
等の副反応が起こる)に強い。
本発明の目的は上記の従来技術が内胞していた
問題を全て解消し得る2−フエニルベンゾトリア
ゾール類の製造方法を提供することである。
問題を全て解消し得る2−フエニルベンゾトリア
ゾール類の製造方法を提供することである。
本発明者は従来の2−フエニルベンゾトリアゾ
ール類の製造方法における前述のような問題を解
消するため、種々検討した結果、一般o−ニトロ
アゾベンゼン類を、第1級アルコール又は第2級
アルコールで還元して得られた一般式の2−フ
エニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を、
水素移動触媒および塩基の存在下に、あるいはさ
らに界面活性剤、多価アルコールまたは相間移動
触媒を共存させ、第1級アルコールまたは第2級
アルコールで還元すれば技術的に容易でしかも高
収率で、実用的にも経済的にも有利に、また公害
的にも問題なく、目的物が得られることを見出し
た。
ール類の製造方法における前述のような問題を解
消するため、種々検討した結果、一般o−ニトロ
アゾベンゼン類を、第1級アルコール又は第2級
アルコールで還元して得られた一般式の2−フ
エニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を、
水素移動触媒および塩基の存在下に、あるいはさ
らに界面活性剤、多価アルコールまたは相間移動
触媒を共存させ、第1級アルコールまたは第2級
アルコールで還元すれば技術的に容易でしかも高
収率で、実用的にも経済的にも有利に、また公害
的にも問題なく、目的物が得られることを見出し
た。
本発明における反応を以下に示す。
(1) 還元剤(水素原子供与体)として第2級アル
コールを用いる場合 (式中、RおよびR′は同種または異種のアル
キル基を示す。) (2) 還元剤として第1級アルコールを用いる場合 (式中、R″は水素原子またはアルキル基を示
す。)還元剤であるR″CH2OHはR″CHOに、つ
いでR″COOHに酸化されて、本発明の還元反
応が進行する。
コールを用いる場合 (式中、RおよびR′は同種または異種のアル
キル基を示す。) (2) 還元剤として第1級アルコールを用いる場合 (式中、R″は水素原子またはアルキル基を示
す。)還元剤であるR″CH2OHはR″CHOに、つ
いでR″COOHに酸化されて、本発明の還元反
応が進行する。
本発明の出発物質を得るには、o−ニトロアゾ
ベンゼン類を還元して、2−フエニルベンゾトリ
アゾール−N−オキシド類()とする、その条
件は、低温下でも急速に且つ発熱的に進行する。
この反応温度は20〜90℃が適当である。本発明の
一般式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を2−フエニルベンゾトリアゾール
()への還元する場合の反応温度は50〜130℃が
適当である。
ベンゼン類を還元して、2−フエニルベンゾトリ
アゾール−N−オキシド類()とする、その条
件は、低温下でも急速に且つ発熱的に進行する。
この反応温度は20〜90℃が適当である。本発明の
一般式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を2−フエニルベンゾトリアゾール
()への還元する場合の反応温度は50〜130℃が
適当である。
本発明方法で使用される一般式の原料化合物
である一般式 (式中、R1、R2、R3、R4、R5は一般式に同
じ。) を有するo−ニトロアゾベンゼン類は、たとえば
一般式 (式中、R1およびR2は一般式と同じ。) で示されるo−ニトロアニリン類を常法に従つて
ジアゾ化し、これを一般式 (式中、R3、R4およびR5は一般式と同じ。) で示されるフエノール類とカツプリングすること
により容易に製造できる。
である一般式 (式中、R1、R2、R3、R4、R5は一般式に同
じ。) を有するo−ニトロアゾベンゼン類は、たとえば
一般式 (式中、R1およびR2は一般式と同じ。) で示されるo−ニトロアニリン類を常法に従つて
ジアゾ化し、これを一般式 (式中、R3、R4およびR5は一般式と同じ。) で示されるフエノール類とカツプリングすること
により容易に製造できる。
一般式()の化合物の具体例としては、o−
ニトロアニリン、4−クロル−2−ニトロアニリ
ン、4,5−ジクロル−2−ニトロアニリン、
4,6−ジクロル−2−ニトロアニリン、4−メ
トキシ−2−ニトロアニリン、4−メチル−2−
ニトロアニリン、4−n−ブトキシ−2−ニトロ
アニリン、4−t−ブチル−2−ニトロアニリ
ン、3−ニトロ−4−アミノ安息香酸、3−ニト
ロ−4−アミノベンゼンスルホン酸等が挙げられ
るが、中でも好ましいものはo−ニトロアニリン
及び4−クロル−2−ニトロアニリンである。ま
た式の化合物の具体例としてはp−クレゾー
ル、2,4−ジ−t−ブチルフエノール、2,4
−ジ−t−アミルフエノール、2,4−ジ−t−
オクチルフエノール、2−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール、4−t−オクチルフエノール、4
−n−オクチルフエノール、4−n−ドデシルフ
エノール、レゾルシノール、2−sec−ブチル−
4−t−ブチルフエノール、4−t−アミノフエ
ノール、2−シクロヘキシル−4−メチルフエノ
ール、2−(α−メチルベンジル)−4−メチルフ
エノール、4−メトキシフエノール、4−ブトキ
シフエノール、4−フエニルフエノール、4−o
−トリルフエノール、4−(4′−t−オクチル)
フエニルフエノール、4−クロルフエノール、
2,4−ジクロルフエノール、4−フエノキシフ
エノール、2,4−ジ−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール、4−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール等が挙げられるが、中でもp−
クレゾール、2,4−ジ−t−ブチルフエノー
ル、2,4−ジ−t−アミルフエノール、2,4
−ジ−t−オクチルフエノール、2−t−ブチル
−4−メチルフエノール、4−t−オクチルフエ
ノール、4−t−ブチルフエノール、2,4−ジ
−(α,α−ジメチルベンジル)フエノール及び
レゾルシノールが好ましい。以上の化合物はいず
れも容易に入手できるものであり、またこれらに
限定されるものではないことは勿論である。
ニトロアニリン、4−クロル−2−ニトロアニリ
ン、4,5−ジクロル−2−ニトロアニリン、
4,6−ジクロル−2−ニトロアニリン、4−メ
トキシ−2−ニトロアニリン、4−メチル−2−
ニトロアニリン、4−n−ブトキシ−2−ニトロ
アニリン、4−t−ブチル−2−ニトロアニリ
ン、3−ニトロ−4−アミノ安息香酸、3−ニト
ロ−4−アミノベンゼンスルホン酸等が挙げられ
るが、中でも好ましいものはo−ニトロアニリン
及び4−クロル−2−ニトロアニリンである。ま
た式の化合物の具体例としてはp−クレゾー
ル、2,4−ジ−t−ブチルフエノール、2,4
−ジ−t−アミルフエノール、2,4−ジ−t−
オクチルフエノール、2−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール、4−t−オクチルフエノール、4
−n−オクチルフエノール、4−n−ドデシルフ
エノール、レゾルシノール、2−sec−ブチル−
4−t−ブチルフエノール、4−t−アミノフエ
ノール、2−シクロヘキシル−4−メチルフエノ
ール、2−(α−メチルベンジル)−4−メチルフ
エノール、4−メトキシフエノール、4−ブトキ
シフエノール、4−フエニルフエノール、4−o
−トリルフエノール、4−(4′−t−オクチル)
フエニルフエノール、4−クロルフエノール、
2,4−ジクロルフエノール、4−フエノキシフ
エノール、2,4−ジ−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール、4−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール等が挙げられるが、中でもp−
クレゾール、2,4−ジ−t−ブチルフエノー
ル、2,4−ジ−t−アミルフエノール、2,4
−ジ−t−オクチルフエノール、2−t−ブチル
−4−メチルフエノール、4−t−オクチルフエ
ノール、4−t−ブチルフエノール、2,4−ジ
−(α,α−ジメチルベンジル)フエノール及び
レゾルシノールが好ましい。以上の化合物はいず
れも容易に入手できるものであり、またこれらに
限定されるものではないことは勿論である。
本発明の原料である一般式()の化合物は、
前記一般式()および()の化合物を適宜組
合わせて得られるが、その具体例を例示すれば次
の通りである。
前記一般式()および()の化合物を適宜組
合わせて得られるが、その具体例を例示すれば次
の通りである。
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル
−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−4−クロル−2′,4′−ジヒドロキ
シアゾベンゼン ニトロ−2′−ヒドロキシ−4′−メトキシアゾベ
ンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−アミル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
(α,α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)アゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−α−メチル
ベンジル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−α−メチルベンジル−5′−メチルアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−n−ドデシルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−5
−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ
−5−メチルアゾベンゼン 本発明の出発物質である一般式()の化合物
は、たとえば前記一般式()と()との化合
物を適宜組合わせて得た一般式()の化合物を
N−オキシドまで還元することにより得られる
が、その代表例としては、上記一般式()の化
合物の各具体例に対応するN−オキシドまでの還
元体が挙げられる。たとえば、2−ニトロ−4−
クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−
メチルアゾベンゼンに対しては、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が対応する。
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル
−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−4−クロル−2′,4′−ジヒドロキ
シアゾベンゼン ニトロ−2′−ヒドロキシ−4′−メトキシアゾベ
ンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−アミル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
(α,α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)アゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−α−メチル
ベンジル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−α−メチルベンジル−5′−メチルアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−n−ドデシルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−5
−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ
−5−メチルアゾベンゼン 本発明の出発物質である一般式()の化合物
は、たとえば前記一般式()と()との化合
物を適宜組合わせて得た一般式()の化合物を
N−オキシドまで還元することにより得られる
が、その代表例としては、上記一般式()の化
合物の各具体例に対応するN−オキシドまでの還
元体が挙げられる。たとえば、2−ニトロ−4−
クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−
メチルアゾベンゼンに対しては、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が対応する。
本発明の還元剤(水素原子供与体)であるアル
コール類としては、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、n−アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、n−ヘキサノール、2−エチルブタノール、
n−ヘプチルアルコール、n−オクタノール、2
−エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチル
ヘキサノール、6−デカノール、ドデカノール、
テトラデカノール、イソプロピルアルコール、第
2ブタノール、第2アミルアルコール、3−ペン
タノール、メチルアミルアルコール、2−ヘプタ
ノール、3−ヘプタノール、2−オクタノール、
ノナノール、ウンデカノールなどが挙げられ、中
でもエタノール、イソプロピルアルコール、ブタ
ノール、第2アミルアルコールが好ましい。
コール類としては、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、n−アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、n−ヘキサノール、2−エチルブタノール、
n−ヘプチルアルコール、n−オクタノール、2
−エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチル
ヘキサノール、6−デカノール、ドデカノール、
テトラデカノール、イソプロピルアルコール、第
2ブタノール、第2アミルアルコール、3−ペン
タノール、メチルアミルアルコール、2−ヘプタ
ノール、3−ヘプタノール、2−オクタノール、
ノナノール、ウンデカノールなどが挙げられ、中
でもエタノール、イソプロピルアルコール、ブタ
ノール、第2アミルアルコールが好ましい。
第1または第2アルコールは化学当量以上使用
するのが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて
使用するので、出発物質であるo−ニトロアゾベ
ンゼン()あるいはN−オキシド体()に対
し重量で1〜20倍量、好ましくは2〜8倍量使用
する。また、2種以上のアルコール類を混合して
も何ら反応には悪影響がなく、好ましい結果をも
たらす場合もある。
するのが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて
使用するので、出発物質であるo−ニトロアゾベ
ンゼン()あるいはN−オキシド体()に対
し重量で1〜20倍量、好ましくは2〜8倍量使用
する。また、2種以上のアルコール類を混合して
も何ら反応には悪影響がなく、好ましい結果をも
たらす場合もある。
さらに、アルコール類は水溶液としても使用す
ることができ、この場合は30重量%以上の濃度が
好ましい。アルコール類を水溶液の形で使用でき
ることは、回収したアルコールを脱水することな
く再使用できる点で、工業的製造には非常に有利
である。
ることができ、この場合は30重量%以上の濃度が
好ましい。アルコール類を水溶液の形で使用でき
ることは、回収したアルコールを脱水することな
く再使用できる点で、工業的製造には非常に有利
である。
また、本発明では、さらに必要に応じて、補助
溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素、n−ヘキサ
ン、6−ヘプタン、リグロインなどの脂肪族炭化
水素、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、第3級アルコー
ル類などの不活性溶媒を使用することもできる。
溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素、n−ヘキサ
ン、6−ヘプタン、リグロインなどの脂肪族炭化
水素、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、第3級アルコー
ル類などの不活性溶媒を使用することもできる。
水素移動触媒は、還元剤の水素を受け入れてさ
らに被還元物質に水素を与えるか、あるいは被還
元剤に水素を与えて次に還元剤より水素を受け取
つて触媒的に作用するものである。そして、その
具体例としては、2,3−ジクロル−1,4−ナ
フトキノン、1,4−ナフトキノン、1,2−ナ
フトキノン、2,6−ナフトキノン、核にアルキ
ル基をもつナフトキノン、1,4−ベンゾキノ
ン、2−クロル−1,4−ベンゾキノン、2,3
−ジクロル−5,6−ジシアノベンゾキノン、ク
ロルアニル、テトラクロル−1,2−ベンゾキノ
ン、4,4′−ジフエノキノン、3,3′,5,5′−
テトラクロル−4,4′−ジフエノキノン、フエナ
ントレンキノン、アンスロン、アントラキノン、
あるいはアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン
原子、アミノ基、カルボキシル基又はスルホン酸
基で置換されたアントラキノン、さらには、上記
キノンに対応するハイドロキノン類(たとえば、
2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノンの場合
は、2,3−ジクロル−1,4−ジオキシナフタ
リンが対応する)が挙げられる。中でも、2,3
−ジクロル−1,4−ナフトキノン、2−クロル
−1,4−ベンゾキノン、アントラキノン、ハイ
ドロキノンが好ましい。
らに被還元物質に水素を与えるか、あるいは被還
元剤に水素を与えて次に還元剤より水素を受け取
つて触媒的に作用するものである。そして、その
具体例としては、2,3−ジクロル−1,4−ナ
フトキノン、1,4−ナフトキノン、1,2−ナ
フトキノン、2,6−ナフトキノン、核にアルキ
ル基をもつナフトキノン、1,4−ベンゾキノ
ン、2−クロル−1,4−ベンゾキノン、2,3
−ジクロル−5,6−ジシアノベンゾキノン、ク
ロルアニル、テトラクロル−1,2−ベンゾキノ
ン、4,4′−ジフエノキノン、3,3′,5,5′−
テトラクロル−4,4′−ジフエノキノン、フエナ
ントレンキノン、アンスロン、アントラキノン、
あるいはアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン
原子、アミノ基、カルボキシル基又はスルホン酸
基で置換されたアントラキノン、さらには、上記
キノンに対応するハイドロキノン類(たとえば、
2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノンの場合
は、2,3−ジクロル−1,4−ジオキシナフタ
リンが対応する)が挙げられる。中でも、2,3
−ジクロル−1,4−ナフトキノン、2−クロル
−1,4−ベンゾキノン、アントラキノン、ハイ
ドロキノンが好ましい。
水素移動触媒の使用量は出発物質のN−オキシ
ド()の重量に対して、0.2〜30重量%が適当
であり、好ましくは2〜20重量%である。
ド()の重量に対して、0.2〜30重量%が適当
であり、好ましくは2〜20重量%である。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムが好ましい。塩基の使用量はN−オキシド
()の1モル分子に対し、1〜6モル分子が適
当であり、好ましくは1.5〜4モル分子が適当で
ある。
ムが好ましい。塩基の使用量はN−オキシド
()の1モル分子に対し、1〜6モル分子が適
当であり、好ましくは1.5〜4モル分子が適当で
ある。
本発明においては、水素移動触媒および塩基と
共に、相間移動触媒、界面活性剤または多価アル
コールを存在させることにより、反応をより速や
かに進めることができる。
共に、相間移動触媒、界面活性剤または多価アル
コールを存在させることにより、反応をより速や
かに進めることができる。
相間移動触媒としては、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられ、その使用量はN−オキシド
()に対し0.1〜20重量%が適当であり、好まし
くは0.5〜6重量%である。
ウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられ、その使用量はN−オキシド
()に対し0.1〜20重量%が適当であり、好まし
くは0.5〜6重量%である。
本発明において界面活性剤及び多価アルコール
は分散剤として使用される。界面活性剤としては
いかなるものも使用でき、例えば、ロート油、ア
ルキルアリールスルホン酸、高級アルコール硫酸
エステル、ポリオキシエチレンサルフエート、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフエノールエーテル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンアシルエステル、アルキルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ジアルキルジメチルアンモニウ
ムクロライド等が挙げられる。また多価アルコー
ルの具体例としてはエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、グ
リセリン、ペンタグリセロール(3価アルコー
ル)等が挙げられる。以上のような分散剤の使用
量は特に限定されないが、式の化合物に対し
0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜6重量%であ
る。
は分散剤として使用される。界面活性剤としては
いかなるものも使用でき、例えば、ロート油、ア
ルキルアリールスルホン酸、高級アルコール硫酸
エステル、ポリオキシエチレンサルフエート、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフエノールエーテル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンアシルエステル、アルキルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ジアルキルジメチルアンモニウ
ムクロライド等が挙げられる。また多価アルコー
ルの具体例としてはエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、グ
リセリン、ペンタグリセロール(3価アルコー
ル)等が挙げられる。以上のような分散剤の使用
量は特に限定されないが、式の化合物に対し
0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜6重量%であ
る。
実施例 1
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド0.5gをイソプロピルアルコー
ル30ml、水20ml、48%苛性ソーダ液7gおよび−
2,3、ジクロルナフトキノン0.7gの混合液に
加え沸点(80℃)で8時間撹拌反応すると還元反
応が終了する。62%硫酸6.5gで中和し、20℃以
下に冷却、析出した結晶を過により分離し、充
分水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄し
て乾燥すると、9.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールを得た。
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド0.5gをイソプロピルアルコー
ル30ml、水20ml、48%苛性ソーダ液7gおよび−
2,3、ジクロルナフトキノン0.7gの混合液に
加え沸点(80℃)で8時間撹拌反応すると還元反
応が終了する。62%硫酸6.5gで中和し、20℃以
下に冷却、析出した結晶を過により分離し、充
分水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄し
て乾燥すると、9.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 96.0% 融点 139〜141℃
出発物質である2−(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−メチルフエニル)−5−クロルベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドの合成例を示
す。
−ブチル−5−メチルフエニル)−5−クロルベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドの合成例を示
す。
イソプロピルアルコール60mlに97%苛性ソーダ
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌した。つい
で、水50mlを加えてから硫酸で中和して冷却する
と、2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾ
ール−N−オキシド10.5gが得られた。
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌した。つい
で、水50mlを加えてから硫酸で中和して冷却する
と、2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾ
ール−N−オキシド10.5gが得られた。
収率 95% 融点 161〜163℃
実施例 2
イソプロピルアルコール60mlに97%苛性ソーダ
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌するとアゾベ
ンゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5−
クロルベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成
し、工程1の反応が終了する。工程2の反応を行
なうため昇温して76〜78℃で4時間撹拌するとN
−オキシドが消失し、工程2の還元反応が終了す
る。
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌するとアゾベ
ンゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5−
クロルベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成
し、工程1の反応が終了する。工程2の反応を行
なうため昇温して76〜78℃で4時間撹拌するとN
−オキシドが消失し、工程2の還元反応が終了す
る。
還元反応で生成したアセトンを回収するため、
反応内溶物の一部10mlを反応系外に留去してか
ら、反応物に水40mlを加え、62%硫酸5.3gで中
和し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により
分離し、充分水洗後、少量のイゾプロピルアルコ
ールで洗浄して乾燥すると、9.8gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得
た。
反応内溶物の一部10mlを反応系外に留去してか
ら、反応物に水40mlを加え、62%硫酸5.3gで中
和し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により
分離し、充分水洗後、少量のイゾプロピルアルコ
ールで洗浄して乾燥すると、9.8gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得
た。
収率 93.2% 融点 138〜140℃
実施例 3
イソプロピルアルコールの代りに第2−ブチル
アルコール60ml或は第2アミルアルコール60mlを
使用して実施例6と同様に反応および処理した。
アルコール60ml或は第2アミルアルコール60mlを
使用して実施例6と同様に反応および処理した。
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ルの収量は、 第2−ブチルアルコールの場合 9.0g 収率85.6%、融点138〜140℃ 第2−アミルアルコールの場合 8.9g 収率84.6%、融点138〜140℃ であつた。
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ルの収量は、 第2−ブチルアルコールの場合 9.0g 収率85.6%、融点138〜140℃ 第2−アミルアルコールの場合 8.9g 収率84.6%、融点138〜140℃ であつた。
実施例 4
イソプロピルアルコール60mlに水5ml、96%苛
性カリ5.9gを加えて50℃に昇温し、2,3−ジ
クロル−1,4−ナフトキノン0.7gを加えてか
ら2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン13.0gを、
50〜55℃の温度で1時間に亘つて加える。加え終
つてから沸点で2時間撹拌反応すると、アゾベン
ゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−クロル
ベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工
程1の反応が終了する。工程2の反応を行うため
更に4時間撹拌反応を続行するとN−オキシドが
消失し、工程2の還元反応が終了する。
性カリ5.9gを加えて50℃に昇温し、2,3−ジ
クロル−1,4−ナフトキノン0.7gを加えてか
ら2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン13.0gを、
50〜55℃の温度で1時間に亘つて加える。加え終
つてから沸点で2時間撹拌反応すると、アゾベン
ゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−クロル
ベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工
程1の反応が終了する。工程2の反応を行うため
更に4時間撹拌反応を続行するとN−オキシドが
消失し、工程2の還元反応が終了する。
還元反応で生成したアセトンを回収するため、
反応内溶物の一部を反応系外に留出してから、水
40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和し、20℃以下
に冷却、析出した結晶を過により分離し、充分
水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄して
乾燥すると、10.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾールを得た。
反応内溶物の一部を反応系外に留出してから、水
40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和し、20℃以下
に冷却、析出した結晶を過により分離し、充分
水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄して
乾燥すると、10.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 89.0% 融点 154〜155.5℃
実施例 5
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼンの代りに○イ
2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′ジ−t−ア
ミルアゾベンゼン、12.8g;或は○ロ2−ニトロ−
2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベ
ンゼン11.8g;或は○ハ2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)
アゾベンゼン16.5gを使用し実施例4と同様に反
応処理すると各々次の収量で得た。
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼンの代りに○イ
2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′ジ−t−ア
ミルアゾベンゼン、12.8g;或は○ロ2−ニトロ−
2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベ
ンゼン11.8g;或は○ハ2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)
アゾベンゼン16.5gを使用し実施例4と同様に反
応処理すると各々次の収量で得た。
○イ 2−(2′−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ア
ミルフエニル)ベゾトリアゾールの収量9.3g、
収率79.5%、融点79〜82℃ ○ロ 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフエニル)ベンゾトリアゾールの収量8.7
g、収率81%、融点150〜152℃ ○ハ 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ−(α,α
−ジメチルベンジル)フエニル〕ベンゾトリア
ゾール12.2g、収率78%、融点240〜245℃ 実施例 6 イソプロピルアルコール30ml、水20ml、96%苛
性カリ液5.9gの混合液に2−ニトロ−4−クロ
ル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチ
ルアゾベンゼン11.6gを加え、更に2,3−ジク
ロル−1,4−ナフトキノン0.7gおよび界面活
性剤であるポリオキシエチレンラウリルエステル
(商品名Tween 20)0.5gを加え撹拌しながら1
時間で沸点(78℃)となし同温度で2時間撹拌反
応するとアゾベンゼンが消失し、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が生成し工程1の還元反応が終了する。更に5時
間反応を続行するとN−オキシドが消失し、工程
2の還元反応が終了する。
ミルフエニル)ベゾトリアゾールの収量9.3g、
収率79.5%、融点79〜82℃ ○ロ 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフエニル)ベンゾトリアゾールの収量8.7
g、収率81%、融点150〜152℃ ○ハ 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ−(α,α
−ジメチルベンジル)フエニル〕ベンゾトリア
ゾール12.2g、収率78%、融点240〜245℃ 実施例 6 イソプロピルアルコール30ml、水20ml、96%苛
性カリ液5.9gの混合液に2−ニトロ−4−クロ
ル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチ
ルアゾベンゼン11.6gを加え、更に2,3−ジク
ロル−1,4−ナフトキノン0.7gおよび界面活
性剤であるポリオキシエチレンラウリルエステル
(商品名Tween 20)0.5gを加え撹拌しながら1
時間で沸点(78℃)となし同温度で2時間撹拌反
応するとアゾベンゼンが消失し、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が生成し工程1の還元反応が終了する。更に5時
間反応を続行するとN−オキシドが消失し、工程
2の還元反応が終了する。
反応物に水40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和
し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により分
離し、充分水洗後少量のイソプロピルアルコール
で洗浄して乾燥すると9gの収量で2−(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により分
離し、充分水洗後少量のイソプロピルアルコール
で洗浄して乾燥すると9gの収量で2−(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 85.6% 融点 138〜140℃
界面活性剤であるポリオキシエチレンラウリル
エステル(商品名Tween 20)の代りに、2価ア
ルコールであるエチレングリコール1g或はアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド(界面活
性剤商品名アーカードT−50)0.5g或は相間移
動触媒として知られるベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0.25gを用いて反応を行つても
ポリオキシエチレンラウリルエステルを使用した
時と殆んど変らない結果を得た。
エステル(商品名Tween 20)の代りに、2価ア
ルコールであるエチレングリコール1g或はアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド(界面活
性剤商品名アーカードT−50)0.5g或は相間移
動触媒として知られるベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0.25gを用いて反応を行つても
ポリオキシエチレンラウリルエステルを使用した
時と殆んど変らない結果を得た。
この実施例で界面活性剤を使用しない場合は使
用した場合に比較し、工程1の反応時間が更に1
時間、工程2の反応時間が更に3時間延長しなけ
れば反応が終了せず、収量8.4g(収率80%)も
低い収量を示した。
用した場合に比較し、工程1の反応時間が更に1
時間、工程2の反応時間が更に3時間延長しなけ
れば反応が終了せず、収量8.4g(収率80%)も
低い収量を示した。
実施例 7
エチルアルコール60mlに96%苛性カリ5.9gを
加え、70℃に加熱した苛性カリを溶解した後、50
℃に冷却し、2,3−ジクロル−1,4−ナフト
キノン1gを加えてから、50〜55℃の温度に撹拌
しながら、2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロ
キシ−3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン
11.6gを1.5時間に亘つて加えてから沸点(80℃)
で3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失して、2
−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチ
ルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−
N−オキシドが生成し工程1の反応が終了する。
加え、70℃に加熱した苛性カリを溶解した後、50
℃に冷却し、2,3−ジクロル−1,4−ナフト
キノン1gを加えてから、50〜55℃の温度に撹拌
しながら、2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロ
キシ−3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン
11.6gを1.5時間に亘つて加えてから沸点(80℃)
で3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失して、2
−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチ
ルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−
N−オキシドが生成し工程1の反応が終了する。
更に5時間撹拌反応するとN−オキシドが消失
し工程2の還元反応が終了する。
し工程2の還元反応が終了する。
水40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和し20℃以
下に冷却、析出している結晶を過により分離し
充分水洗してから少量のエチルアルコールで洗浄
して乾燥すると、7.5gの収量で2−(2−ヒドロ
キシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−
5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
下に冷却、析出している結晶を過により分離し
充分水洗してから少量のエチルアルコールで洗浄
して乾燥すると、7.5gの収量で2−(2−ヒドロ
キシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−
5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 71.3% 融点 138〜140℃
実施例 8
エチルアルコールの代りにn−ブチルアルコー
ル60mlを使用して実施例7と同様に反応処理した
ところ、実施例7と殆んど変らない収量を得た。
ル60mlを使用して実施例7と同様に反応処理した
ところ、実施例7と殆んど変らない収量を得た。
実施例 9
イソプロピルアルコール60mlと96%苛性カリ
5.9gとを混合し70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン1
gを加えて50〜55℃で2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルアゾベンゼン8.6gを撹拌下に1
時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)に昇温
し、更に3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失し
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工程
1が終了する。更に6時間沸点で撹拌反応するN
−オキシドが消失し工程2の還元反応が終了す
る。水40mlを加え62%硫酸で中性になるまで中和
し、20℃以下に冷却し、析出した結晶を過によ
り分離、充分水洗後乾燥すると、5.3gの収量で
2−(2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを得た。
5.9gとを混合し70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン1
gを加えて50〜55℃で2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルアゾベンゼン8.6gを撹拌下に1
時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)に昇温
し、更に3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失し
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工程
1が終了する。更に6時間沸点で撹拌反応するN
−オキシドが消失し工程2の還元反応が終了す
る。水40mlを加え62%硫酸で中性になるまで中和
し、20℃以下に冷却し、析出した結晶を過によ
り分離、充分水洗後乾燥すると、5.3gの収量で
2−(2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを得た。
収率 71% 融点 128〜130℃
実施例 10
2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼンの代りに2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン11.8g或は2−ニ
トロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルアゾベン
ゼン10.0gを実施例13同様還元反応すると、それ
ぞれ、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチル
フエニル)ベンゾトリアゾールを8.7gの収量
(収率80.8%、融点103〜104.7℃)で、また2−
(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを7.2gの収量(収率81.0%、
融点95.5〜97.4℃)で得た。
ベンゼンの代りに2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン11.8g或は2−ニ
トロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルアゾベン
ゼン10.0gを実施例13同様還元反応すると、それ
ぞれ、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチル
フエニル)ベンゾトリアゾールを8.7gの収量
(収率80.8%、融点103〜104.7℃)で、また2−
(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを7.2gの収量(収率81.0%、
融点95.5〜97.4℃)で得た。
実施例 11
イソプロピルアルコール60mlに水5ml、苛性カ
リ5.9gを加えて70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、ハイドロキノン1gを加えて50〜55℃で2−
ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−
ブチル−5′−メチルフエニルアゾベンゼン11.6g
を1時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)で
9時間撹拌反応する。水40mlを加え62%硫酸6.6
gで中和して、20℃に冷却し、析出した結晶を
別充分水洗して乾燥すると、8.7gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール得た。
リ5.9gを加えて70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、ハイドロキノン1gを加えて50〜55℃で2−
ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−
ブチル−5′−メチルフエニルアゾベンゼン11.6g
を1時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)で
9時間撹拌反応する。水40mlを加え62%硫酸6.6
gで中和して、20℃に冷却し、析出した結晶を
別充分水洗して乾燥すると、8.7gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール得た。
収率 83% 融点 138〜140℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
ニルアルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を、(a)水素移動触媒および(b)塩基の
存在下に、第1級アルコール又は第2級アルコー
ルで還元することを特徴とする、一般式() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
同じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
製造方法。 2 一般式() (式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
ニルアルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を、(a)水素移動触媒と、(b)塩基と、
(c)界面活性剤、多価アルコール又は相間移動触媒
との存在下に、第1級アルコール又は第2級アル
コールで還元することを特徴とする、一般式
() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
同じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046587A JPS59170172A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046587A JPS59170172A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59170172A JPS59170172A (ja) | 1984-09-26 |
| JPH0429670B2 true JPH0429670B2 (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=12751424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58046587A Granted JPS59170172A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59170172A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110066251A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-07-30 | 襄阳金达成精细化工有限公司 | 一种紫外线吸收剂uv-234的制备方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3476752D1 (en) * | 1983-06-01 | 1989-03-23 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of 2-arylbenzotriazoles |
| JPS61197571A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-01 | Kemipuro Kasei Kk | 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル−n−オキシド類の製造法 |
| DE3683772D1 (de) * | 1986-08-22 | 1992-03-12 | Chemipro Kasei Kaisha Ltd | Methode zur herstellung von 2-phenylbenzotriazolen und von 2-phenylbenzotriazol-n-oxiden. |
| DE3684922D1 (de) * | 1986-09-16 | 1992-05-21 | Chemipro Kasei Kaisha Ltd | Verfahren zur herstellung von 2-phenylbenzotriazolen und 2-phenylbenzotriazol-n-oxyden. |
| JPH0798812B2 (ja) * | 1986-09-16 | 1995-10-25 | ケミプロ化成株式会社 | 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| US5187289A (en) * | 1989-01-31 | 1993-02-16 | Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. | Method of preparing 2-phenyl benzotriazoles |
| KR100454807B1 (ko) * | 1997-05-13 | 2004-12-23 | 삼성종합화학주식회사 | 벤조트리아졸계자외선흡수제의제조방법 |
| WO2003048257A1 (en) | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Organic solvent-free process for the preparation of 2-(2-nitrophenylazo)phenols |
| CN103450105B (zh) * | 2013-07-26 | 2015-06-17 | 浙江常山科润化学有限公司 | 一种苯并三氮唑类紫外线吸收剂的制备方法 |
| CN104327002A (zh) * | 2014-09-16 | 2015-02-04 | 德州宏坤医药中间体有限公司 | 苯并三唑类紫外线吸收剂的生产工艺 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5723347A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Communication system |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58046587A patent/JPS59170172A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110066251A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-07-30 | 襄阳金达成精细化工有限公司 | 一种紫外线吸收剂uv-234的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59170172A (ja) | 1984-09-26 |
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