JPH0429670B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0429670B2
JPH0429670B2 JP58046587A JP4658783A JPH0429670B2 JP H0429670 B2 JPH0429670 B2 JP H0429670B2 JP 58046587 A JP58046587 A JP 58046587A JP 4658783 A JP4658783 A JP 4658783A JP H0429670 B2 JPH0429670 B2 JP H0429670B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon atoms
group
hydroxy
alkyl group
nitro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58046587A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59170172A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP58046587A priority Critical patent/JPS59170172A/ja
Publication of JPS59170172A publication Critical patent/JPS59170172A/ja
Publication of JPH0429670B2 publication Critical patent/JPH0429670B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式() (式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
ニルアルキル基を表わす。) の化合物を出発物質として、一般式() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
同じ。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類を
製造する方法に関する。
前記式で示される2−フエニルベンゾトリア
ゾール類は、たとえば、ポリマー、塗料、油など
に添加する紫外線吸収剤として有用である。この
2−フエニルベンゾトリアゾール類の一般的な製
造方法としてはo−ニトロアゾベンゼン類を還元
して式のN−オキシドとし、これを再び還元し
て目的物を得る2段階還元法及びo−ニトロアゾ
ベンゼン類より式を経過するが、1段階で目的
物を得る1段階還元法が知られている。2段階法
は1段階法よりも工程数が多いが、品質及び収率
の点で有利となる場合がある。もちろん、中間体
としての一般式()のN−オキシド類を出発物
質として、これを還元することによつても目的物
である2−フエニルベンゾトリアゾール類を得る
ことができる。なおo−ニトロアゾベンゼン類の
原料化合物はo−ニトロアニリンを類ジアゾ化し
てジアゾ化物とし、これをフエノール類とカツプ
リングさせることにより容易に得られる。いずれ
にしても従来、o−ニトロアゾベンゼン類あるい
は式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N−
オキシド類を対応する式の2−フエニルベンゾ
トリアゾール類に変換するには化学的又は電解的
還元法が採用されているが、夫々一長一短があつ
て充分満足し得る方法はなかつた。例えば特公昭
37−5934号公報及び米国特許第3773751号明細書
ではo−ニトロアゾベンゼン類を、アルコール性
水酸化ナトリウム溶液中の亜鉛末で化学的に還元
して相当する2−フエニルベンゾトリアゾール類
を良好な収率で得ているが、この水酸化ナトリウ
ム−亜鉛末系は亜鉛スラツジを生じる点で排水汚
染の問題を含んでいる。硫化アンモニウム、アル
カリスルフイド、亜鉛−アンモニア系、硫化水素
−ナトリウム系及び亜鉛−塩酸系も米個特許第
2362988号明細書に開示されるように、この変換
の化学的還元剤として使用されているが、多量の
亜硫酸塩或は亜鉛塩を生成するため、廃水汚染の
問題を生じ、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、
又使用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が
発生するため、大気汚染の問題にもつながる。特
開昭51−138679号、同51−138680号公報には加圧
による水素添加法が、また特開昭50−88072号公
報にはヒドラジンによる還元法が記載されている
が、収率及び経済面で不満足であり、しかも反応
中副反応が起こる等の理由で目的物を高純度で得
ることは不可能であり、特にこの傾向は塩素原子
を含む目的物を得る場合(この場合は脱塩素反応
等の副反応が起こる)に強い。
本発明の目的は上記の従来技術が内胞していた
問題を全て解消し得る2−フエニルベンゾトリア
ゾール類の製造方法を提供することである。
本発明者は従来の2−フエニルベンゾトリアゾ
ール類の製造方法における前述のような問題を解
消するため、種々検討した結果、一般o−ニトロ
アゾベンゼン類を、第1級アルコール又は第2級
アルコールで還元して得られた一般式の2−フ
エニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を、
水素移動触媒および塩基の存在下に、あるいはさ
らに界面活性剤、多価アルコールまたは相間移動
触媒を共存させ、第1級アルコールまたは第2級
アルコールで還元すれば技術的に容易でしかも高
収率で、実用的にも経済的にも有利に、また公害
的にも問題なく、目的物が得られることを見出し
た。
本発明における反応を以下に示す。
(1) 還元剤(水素原子供与体)として第2級アル
コールを用いる場合 (式中、RおよびR′は同種または異種のアル
キル基を示す。) (2) 還元剤として第1級アルコールを用いる場合 (式中、R″は水素原子またはアルキル基を示
す。)還元剤であるR″CH2OHはR″CHOに、つ
いでR″COOHに酸化されて、本発明の還元反
応が進行する。
本発明の出発物質を得るには、o−ニトロアゾ
ベンゼン類を還元して、2−フエニルベンゾトリ
アゾール−N−オキシド類()とする、その条
件は、低温下でも急速に且つ発熱的に進行する。
この反応温度は20〜90℃が適当である。本発明の
一般式の2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を2−フエニルベンゾトリアゾール
()への還元する場合の反応温度は50〜130℃が
適当である。
本発明方法で使用される一般式の原料化合物
である一般式 (式中、R1、R2、R3、R4、R5は一般式に同
じ。) を有するo−ニトロアゾベンゼン類は、たとえば
一般式 (式中、R1およびR2は一般式と同じ。) で示されるo−ニトロアニリン類を常法に従つて
ジアゾ化し、これを一般式 (式中、R3、R4およびR5は一般式と同じ。) で示されるフエノール類とカツプリングすること
により容易に製造できる。
一般式()の化合物の具体例としては、o−
ニトロアニリン、4−クロル−2−ニトロアニリ
ン、4,5−ジクロル−2−ニトロアニリン、
4,6−ジクロル−2−ニトロアニリン、4−メ
トキシ−2−ニトロアニリン、4−メチル−2−
ニトロアニリン、4−n−ブトキシ−2−ニトロ
アニリン、4−t−ブチル−2−ニトロアニリ
ン、3−ニトロ−4−アミノ安息香酸、3−ニト
ロ−4−アミノベンゼンスルホン酸等が挙げられ
るが、中でも好ましいものはo−ニトロアニリン
及び4−クロル−2−ニトロアニリンである。ま
た式の化合物の具体例としてはp−クレゾー
ル、2,4−ジ−t−ブチルフエノール、2,4
−ジ−t−アミルフエノール、2,4−ジ−t−
オクチルフエノール、2−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール、4−t−オクチルフエノール、4
−n−オクチルフエノール、4−n−ドデシルフ
エノール、レゾルシノール、2−sec−ブチル−
4−t−ブチルフエノール、4−t−アミノフエ
ノール、2−シクロヘキシル−4−メチルフエノ
ール、2−(α−メチルベンジル)−4−メチルフ
エノール、4−メトキシフエノール、4−ブトキ
シフエノール、4−フエニルフエノール、4−o
−トリルフエノール、4−(4′−t−オクチル)
フエニルフエノール、4−クロルフエノール、
2,4−ジクロルフエノール、4−フエノキシフ
エノール、2,4−ジ−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール、4−(α,α−ジメチルベン
ジル)フエノール等が挙げられるが、中でもp−
クレゾール、2,4−ジ−t−ブチルフエノー
ル、2,4−ジ−t−アミルフエノール、2,4
−ジ−t−オクチルフエノール、2−t−ブチル
−4−メチルフエノール、4−t−オクチルフエ
ノール、4−t−ブチルフエノール、2,4−ジ
−(α,α−ジメチルベンジル)フエノール及び
レゾルシノールが好ましい。以上の化合物はいず
れも容易に入手できるものであり、またこれらに
限定されるものではないことは勿論である。
本発明の原料である一般式()の化合物は、
前記一般式()および()の化合物を適宜組
合わせて得られるが、その具体例を例示すれば次
の通りである。
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル
−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−4−クロル−2′,4′−ジヒドロキ
シアゾベンゼン ニトロ−2′−ヒドロキシ−4′−メトキシアゾベ
ンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−アミル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
(α,α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)アゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−α−メチル
ベンジル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−α−メチルベンジル−5′−メチルアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−n−ドデシルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−5
−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ
−5−メチルアゾベンゼン 本発明の出発物質である一般式()の化合物
は、たとえば前記一般式()と()との化合
物を適宜組合わせて得た一般式()の化合物を
N−オキシドまで還元することにより得られる
が、その代表例としては、上記一般式()の化
合物の各具体例に対応するN−オキシドまでの還
元体が挙げられる。たとえば、2−ニトロ−4−
クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−
メチルアゾベンゼンに対しては、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が対応する。
本発明の還元剤(水素原子供与体)であるアル
コール類としては、メタノール、エタノール、n
−プロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、n−アミルアルコール、イソアミルアルコー
ル、n−ヘキサノール、2−エチルブタノール、
n−ヘプチルアルコール、n−オクタノール、2
−エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチル
ヘキサノール、6−デカノール、ドデカノール、
テトラデカノール、イソプロピルアルコール、第
2ブタノール、第2アミルアルコール、3−ペン
タノール、メチルアミルアルコール、2−ヘプタ
ノール、3−ヘプタノール、2−オクタノール、
ノナノール、ウンデカノールなどが挙げられ、中
でもエタノール、イソプロピルアルコール、ブタ
ノール、第2アミルアルコールが好ましい。
第1または第2アルコールは化学当量以上使用
するのが好ましく、一般には反応の溶媒をかねて
使用するので、出発物質であるo−ニトロアゾベ
ンゼン()あるいはN−オキシド体()に対
し重量で1〜20倍量、好ましくは2〜8倍量使用
する。また、2種以上のアルコール類を混合して
も何ら反応には悪影響がなく、好ましい結果をも
たらす場合もある。
さらに、アルコール類は水溶液としても使用す
ることができ、この場合は30重量%以上の濃度が
好ましい。アルコール類を水溶液の形で使用でき
ることは、回収したアルコールを脱水することな
く再使用できる点で、工業的製造には非常に有利
である。
また、本発明では、さらに必要に応じて、補助
溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素、n−ヘキサ
ン、6−ヘプタン、リグロインなどの脂肪族炭化
水素、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル、第3級アルコー
ル類などの不活性溶媒を使用することもできる。
水素移動触媒は、還元剤の水素を受け入れてさ
らに被還元物質に水素を与えるか、あるいは被還
元剤に水素を与えて次に還元剤より水素を受け取
つて触媒的に作用するものである。そして、その
具体例としては、2,3−ジクロル−1,4−ナ
フトキノン、1,4−ナフトキノン、1,2−ナ
フトキノン、2,6−ナフトキノン、核にアルキ
ル基をもつナフトキノン、1,4−ベンゾキノ
ン、2−クロル−1,4−ベンゾキノン、2,3
−ジクロル−5,6−ジシアノベンゾキノン、ク
ロルアニル、テトラクロル−1,2−ベンゾキノ
ン、4,4′−ジフエノキノン、3,3′,5,5′−
テトラクロル−4,4′−ジフエノキノン、フエナ
ントレンキノン、アンスロン、アントラキノン、
あるいはアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン
原子、アミノ基、カルボキシル基又はスルホン酸
基で置換されたアントラキノン、さらには、上記
キノンに対応するハイドロキノン類(たとえば、
2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノンの場合
は、2,3−ジクロル−1,4−ジオキシナフタ
リンが対応する)が挙げられる。中でも、2,3
−ジクロル−1,4−ナフトキノン、2−クロル
−1,4−ベンゾキノン、アントラキノン、ハイ
ドロキノンが好ましい。
水素移動触媒の使用量は出発物質のN−オキシ
ド()の重量に対して、0.2〜30重量%が適当
であり、好ましくは2〜20重量%である。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムが好ましい。塩基の使用量はN−オキシド
()の1モル分子に対し、1〜6モル分子が適
当であり、好ましくは1.5〜4モル分子が適当で
ある。
本発明においては、水素移動触媒および塩基と
共に、相間移動触媒、界面活性剤または多価アル
コールを存在させることにより、反応をより速や
かに進めることができる。
相間移動触媒としては、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられ、その使用量はN−オキシド
()に対し0.1〜20重量%が適当であり、好まし
くは0.5〜6重量%である。
本発明において界面活性剤及び多価アルコール
は分散剤として使用される。界面活性剤としては
いかなるものも使用でき、例えば、ロート油、ア
ルキルアリールスルホン酸、高級アルコール硫酸
エステル、ポリオキシエチレンサルフエート、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフエノールエーテル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンアシルエステル、アルキルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ジアルキルジメチルアンモニウ
ムクロライド等が挙げられる。また多価アルコー
ルの具体例としてはエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、グ
リセリン、ペンタグリセロール(3価アルコー
ル)等が挙げられる。以上のような分散剤の使用
量は特に限定されないが、式の化合物に対し
0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜6重量%であ
る。
実施例 1 2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド0.5gをイソプロピルアルコー
ル30ml、水20ml、48%苛性ソーダ液7gおよび−
2,3、ジクロルナフトキノン0.7gの混合液に
加え沸点(80℃)で8時間撹拌反応すると還元反
応が終了する。62%硫酸6.5gで中和し、20℃以
下に冷却、析出した結晶を過により分離し、充
分水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄し
て乾燥すると、9.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5
−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 96.0% 融点 139〜141℃ 出発物質である2−(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−メチルフエニル)−5−クロルベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドの合成例を示
す。
イソプロピルアルコール60mlに97%苛性ソーダ
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌した。つい
で、水50mlを加えてから硫酸で中和して冷却する
と、2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾ
ール−N−オキシド10.5gが得られた。
収率 95% 融点 161〜163℃ 実施例 2 イソプロピルアルコール60mlに97%苛性ソーダ
2.8gを加え、70℃に1時間撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン
0.7gを加えてから2−ニトロ−4−クロル−
2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルア
ゾベンゼン11.6gを50〜55℃の温度で2時間に亘
つて加える。55〜60℃で1時間撹拌するとアゾベ
ンゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5−
クロルベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成
し、工程1の反応が終了する。工程2の反応を行
なうため昇温して76〜78℃で4時間撹拌するとN
−オキシドが消失し、工程2の還元反応が終了す
る。
還元反応で生成したアセトンを回収するため、
反応内溶物の一部10mlを反応系外に留去してか
ら、反応物に水40mlを加え、62%硫酸5.3gで中
和し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により
分離し、充分水洗後、少量のイゾプロピルアルコ
ールで洗浄して乾燥すると、9.8gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得
た。
収率 93.2% 融点 138〜140℃ 実施例 3 イソプロピルアルコールの代りに第2−ブチル
アルコール60ml或は第2アミルアルコール60mlを
使用して実施例6と同様に反応および処理した。
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ルの収量は、 第2−ブチルアルコールの場合 9.0g 収率85.6%、融点138〜140℃ 第2−アミルアルコールの場合 8.9g 収率84.6%、融点138〜140℃ であつた。
実施例 4 イソプロピルアルコール60mlに水5ml、96%苛
性カリ5.9gを加えて50℃に昇温し、2,3−ジ
クロル−1,4−ナフトキノン0.7gを加えてか
ら2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン13.0gを、
50〜55℃の温度で1時間に亘つて加える。加え終
つてから沸点で2時間撹拌反応すると、アゾベン
ゼンの殆んどが消失して2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−クロル
ベンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工
程1の反応が終了する。工程2の反応を行うため
更に4時間撹拌反応を続行するとN−オキシドが
消失し、工程2の還元反応が終了する。
還元反応で生成したアセトンを回収するため、
反応内溶物の一部を反応系外に留出してから、水
40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和し、20℃以下
に冷却、析出した結晶を過により分離し、充分
水洗後少量のイソプロピルアルコールで洗浄して
乾燥すると、10.6gの収量で2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 89.0% 融点 154〜155.5℃ 実施例 5 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼンの代りに○イ
2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′ジ−t−ア
ミルアゾベンゼン、12.8g;或は○ロ2−ニトロ−
2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベ
ンゼン11.8g;或は○ハ2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)
アゾベンゼン16.5gを使用し実施例4と同様に反
応処理すると各々次の収量で得た。
○イ 2−(2′−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ア
ミルフエニル)ベゾトリアゾールの収量9.3g、
収率79.5%、融点79〜82℃ ○ロ 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフエニル)ベンゾトリアゾールの収量8.7
g、収率81%、融点150〜152℃ ○ハ 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ−(α,α
−ジメチルベンジル)フエニル〕ベンゾトリア
ゾール12.2g、収率78%、融点240〜245℃ 実施例 6 イソプロピルアルコール30ml、水20ml、96%苛
性カリ液5.9gの混合液に2−ニトロ−4−クロ
ル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチ
ルアゾベンゼン11.6gを加え、更に2,3−ジク
ロル−1,4−ナフトキノン0.7gおよび界面活
性剤であるポリオキシエチレンラウリルエステル
(商品名Tween 20)0.5gを加え撹拌しながら1
時間で沸点(78℃)となし同温度で2時間撹拌反
応するとアゾベンゼンが消失し、2−(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)
−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド
が生成し工程1の還元反応が終了する。更に5時
間反応を続行するとN−オキシドが消失し、工程
2の還元反応が終了する。
反応物に水40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和
し、20℃以下に冷却析出した結晶を過により分
離し、充分水洗後少量のイソプロピルアルコール
で洗浄して乾燥すると9gの収量で2−(2−ヒ
ドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 85.6% 融点 138〜140℃ 界面活性剤であるポリオキシエチレンラウリル
エステル(商品名Tween 20)の代りに、2価ア
ルコールであるエチレングリコール1g或はアル
キルトリメチルアンモニウムクロライド(界面活
性剤商品名アーカードT−50)0.5g或は相間移
動触媒として知られるベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0.25gを用いて反応を行つても
ポリオキシエチレンラウリルエステルを使用した
時と殆んど変らない結果を得た。
この実施例で界面活性剤を使用しない場合は使
用した場合に比較し、工程1の反応時間が更に1
時間、工程2の反応時間が更に3時間延長しなけ
れば反応が終了せず、収量8.4g(収率80%)も
低い収量を示した。
実施例 7 エチルアルコール60mlに96%苛性カリ5.9gを
加え、70℃に加熱した苛性カリを溶解した後、50
℃に冷却し、2,3−ジクロル−1,4−ナフト
キノン1gを加えてから、50〜55℃の温度に撹拌
しながら、2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロ
キシ−3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン
11.6gを1.5時間に亘つて加えてから沸点(80℃)
で3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失して、2
−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチ
ルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−
N−オキシドが生成し工程1の反応が終了する。
更に5時間撹拌反応するとN−オキシドが消失
し工程2の還元反応が終了する。
水40mlを加え、62%硫酸6.6gで中和し20℃以
下に冷却、析出している結晶を過により分離し
充分水洗してから少量のエチルアルコールで洗浄
して乾燥すると、7.5gの収量で2−(2−ヒドロ
キシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−
5−クロルベンゾトリアゾールを得た。
収率 71.3% 融点 138〜140℃ 実施例 8 エチルアルコールの代りにn−ブチルアルコー
ル60mlを使用して実施例7と同様に反応処理した
ところ、実施例7と殆んど変らない収量を得た。
実施例 9 イソプロピルアルコール60mlと96%苛性カリ
5.9gとを混合し70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン1
gを加えて50〜55℃で2−ニトロ−2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルアゾベンゼン8.6gを撹拌下に1
時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)に昇温
し、更に3時間撹拌するとアゾベンゼンが消失し
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシドが生成し、工程
1が終了する。更に6時間沸点で撹拌反応するN
−オキシドが消失し工程2の還元反応が終了す
る。水40mlを加え62%硫酸で中性になるまで中和
し、20℃以下に冷却し、析出した結晶を過によ
り分離、充分水洗後乾燥すると、5.3gの収量で
2−(2−ヒドロキシ−5−エチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを得た。
収率 71% 融点 128〜130℃ 実施例 10 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼンの代りに2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン11.8g或は2−ニ
トロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルアゾベン
ゼン10.0gを実施例13同様還元反応すると、それ
ぞれ、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチル
フエニル)ベンゾトリアゾールを8.7gの収量
(収率80.8%、融点103〜104.7℃)で、また2−
(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールを7.2gの収量(収率81.0%、
融点95.5〜97.4℃)で得た。
実施例 11 イソプロピルアルコール60mlに水5ml、苛性カ
リ5.9gを加えて70℃に昇温撹拌後、50℃に冷却
し、ハイドロキノン1gを加えて50〜55℃で2−
ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−
ブチル−5′−メチルフエニルアゾベンゼン11.6g
を1時間に亘つて加え、1時間で沸点(78℃)で
9時間撹拌反応する。水40mlを加え62%硫酸6.6
gで中和して、20℃に冷却し、析出した結晶を
別充分水洗して乾燥すると、8.7gの収量で2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール得た。
収率 83% 融点 138〜140℃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
    し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
    低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
    素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
    ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
    キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
    はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
    キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
    ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
    を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
    キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
    ニルアルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
    −オキシド類を、(a)水素移動触媒および(b)塩基の
    存在下に、第1級アルコール又は第2級アルコー
    ルで還元することを特徴とする、一般式() (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
    同じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
    製造方法。 2 一般式() (式中R1は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
    し、R2は水素原子、塩素原子、炭素数1〜4の
    低級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基を表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭
    素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級ア
    ルコキシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアル
    キル基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又
    はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアル
    キル基を表わし、R4は水素原子、塩素原子、ヒ
    ドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基
    を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜12のアル
    キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエ
    ニルアルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
    −オキシド類を、(a)水素移動触媒と、(b)塩基と、
    (c)界面活性剤、多価アルコール又は相間移動触媒
    との存在下に、第1級アルコール又は第2級アル
    コールで還元することを特徴とする、一般式
    () (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は一般式に
    同じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
    製造方法。
JP58046587A 1983-03-18 1983-03-18 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 Granted JPS59170172A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58046587A JPS59170172A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58046587A JPS59170172A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59170172A JPS59170172A (ja) 1984-09-26
JPH0429670B2 true JPH0429670B2 (ja) 1992-05-19

Family

ID=12751424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58046587A Granted JPS59170172A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59170172A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110066251A (zh) * 2019-05-29 2019-07-30 襄阳金达成精细化工有限公司 一种紫外线吸收剂uv-234的制备方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3476752D1 (en) * 1983-06-01 1989-03-23 Ciba Geigy Ag Process for the preparation of 2-arylbenzotriazoles
JPS61197571A (ja) * 1985-02-27 1986-09-01 Kemipuro Kasei Kk 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル−n−オキシド類の製造法
DE3683772D1 (de) * 1986-08-22 1992-03-12 Chemipro Kasei Kaisha Ltd Methode zur herstellung von 2-phenylbenzotriazolen und von 2-phenylbenzotriazol-n-oxiden.
DE3684922D1 (de) * 1986-09-16 1992-05-21 Chemipro Kasei Kaisha Ltd Verfahren zur herstellung von 2-phenylbenzotriazolen und 2-phenylbenzotriazol-n-oxyden.
JPH0798812B2 (ja) * 1986-09-16 1995-10-25 ケミプロ化成株式会社 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法
US5187289A (en) * 1989-01-31 1993-02-16 Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. Method of preparing 2-phenyl benzotriazoles
KR100454807B1 (ko) * 1997-05-13 2004-12-23 삼성종합화학주식회사 벤조트리아졸계자외선흡수제의제조방법
WO2003048257A1 (en) 2001-12-05 2003-06-12 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Organic solvent-free process for the preparation of 2-(2-nitrophenylazo)phenols
CN103450105B (zh) * 2013-07-26 2015-06-17 浙江常山科润化学有限公司 一种苯并三氮唑类紫外线吸收剂的制备方法
CN104327002A (zh) * 2014-09-16 2015-02-04 德州宏坤医药中间体有限公司 苯并三唑类紫外线吸收剂的生产工艺

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5723347A (en) * 1980-07-15 1982-02-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Communication system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110066251A (zh) * 2019-05-29 2019-07-30 襄阳金达成精细化工有限公司 一种紫外线吸收剂uv-234的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59170172A (ja) 1984-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1161060A (en) Process for the production of 2,2'-dihydroxy- biphenyls
JPS59170172A (ja) 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法
JPS6333424B2 (ja)
IL45113A (en) 6-substituted-2-benzoxyzolinone derivatives and their preparation
SK283874B6 (sk) Spôsob prípravy halogénovaných hydroxydifenylderivátov
Kaslow et al. N-Substituted 4-Methylcarbostyrils1
EP0263905A1 (en) Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-N-oxides
FR2921921A1 (fr) Procede de synthese de composes polyhydroxystilbeniques.
JPS59172481A (ja) 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル−n−オキシド類の製造方法
JP2769179B2 (ja) 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
JPH0524910B2 (ja)
US2905674A (en) Method for preparing 3, 3', 5, 5'-tetraalkyl-4, 4'-diphenoquinones
JP2769178B2 (ja) 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
MEYERS Aromatic Aldehydes from Benzyl Alcohols via Inorganic Hypochlorite Oxidation1
EP0731092B1 (de) Verfahren zur Herstellung von substituierten 1,2,3,4-Tetrahydrocarbazolen
JPH0481587B2 (ja)
US4532367A (en) Antimicrobially effective derivatives of phenol and methods for their production
JPH0798811B2 (ja) 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル−n−オキシド類の製造法
JPS61161269A (ja) 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法
JP2865715B2 (ja) 親電子芳香族化合物のヒドロキシル化方法
JP3059472B2 (ja) 2―フェニルベンゾトリアゾール―n―オキシド類の製造法
JPH02221239A (ja) アニソール又はその誘導体の製造方法
JPH0798812B2 (ja) 2−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法
JPH11158163A (ja) 3−アミノベンゾトリアゾール系化合物、その用途およびその製造方法
JPH0676360B2 (ja) 4−アルコキシ−,及び4−アリ−ルオキシ−3−アシルアミノフエニルカルボナ−ト類の合成法