JPH04297890A - カバーガラスの金属被膜の形成方法 - Google Patents

カバーガラスの金属被膜の形成方法

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Publication number
JPH04297890A
JPH04297890A JP656691A JP656691A JPH04297890A JP H04297890 A JPH04297890 A JP H04297890A JP 656691 A JP656691 A JP 656691A JP 656691 A JP656691 A JP 656691A JP H04297890 A JPH04297890 A JP H04297890A
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JP
Japan
Prior art keywords
outer periphery
metal film
cover glass
lower surfaces
polished
Prior art date
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Pending
Application number
JP656691A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukimitsu Oshima
大島 幸光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Electronic Components Ltd
Original Assignee
Seiko Electronic Components Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えば腕時計用カバーガ
ラスや光学部品など、その外周部にイオンプレーティン
グ法(以下、IPと呼ぶ)により金属被膜を施す方法に
関するものである。対象となる材質はサファイヤガラス
や無機ガラスなどの無機質材料、セラミック全般、金属
などの表面処理にも適用できるものである。
【0002】
【従来の技術】カバーガラスの側面へのIPは、表面及
び部分的な装飾として外観を向上させる目的で行う。図
の(A)〜(G)にて従来の工程の断面図を示す。同図
(A)の原材料11を(B)図のように形状成形12と
し、次に(C)図のように外周部を外周研磨13を施す
。次に(D)図により上下面研磨14を行い、カバーガ
ラスとしての完成体に仕上げる。その後、金属被膜を処
理しない上下面に(E)図のようにマスキング15を施
しIP処理炉中にて(F)図のようにIP処理16を成
膜する。次にマスキング除去液に浸漬し、(G)図のよ
うにマスキング15を除去する。マスキングが17のよ
うに除去されると外周部のみIPが残留し完成する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述の方法によると同
図(E)の工程のマスキング5の際、ホトプロセス等の
工程により位置ズレなど品質低下が生じ、手加工による
修正が必要であった。そのため加工品に再加工を要する
ものがしばしば発生し、製造コストが増大し、さらに品
質的に問題であった。本発明はかかる問題点を解決する
ためになされたものであって、従来からの工程を入れ替
えることにより品質向上、コスト低減を目的とするもの
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、カバーガラスの外周面にのみ金属膜を形成する製造
工程において、まず形状成形を行い、次に外周部を研磨
して仕上げ、その後外周部を含む上下面に金属膜を形成
し、次に上下面を所定量研磨するとともに上下面の金属
膜を同時に除去する。これによって金属膜は外周部のみ
を残し、品質の安定したカバーガラスが低コストで製造
できるものである。
【0005】
【作用】この発明により、カバーガラスへの金属被膜が
安定した品質でIP処理により被着し、特にガラスと金
属膜の境界面が研磨面となる作用効果を示すものである
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
する。図1(A)、(B)、(C)は従来と同一であり
(I)、(J)は本発明の特徴を示す工程順に示した断
面図である。被加工物の一例として、サファイヤからな
る腕時計用カバーガラスの加工を引用して説明すると、
同図(A)の原材料1を形状成形機により、(B)図の
ように形状成形2を行い、次に(C)図のように外周研
磨機により、外周研磨3を行う。この(A)〜(C)ま
での工程は前記の従来技術と同じである。次に被加工物
1aを図示してないIP処理炉の中に数十個セットし、
IPにより金属被膜4を成膜する。これにより、上下面
及び外周部の全面にIP処理がなされる。次にこの被加
工物1aを約20個図示してないワーク盤に貼付け、一
面を研磨し、貼返しをして他面を研磨する、あるいはキ
ャリヤ方式により両面を同時に研磨してもよい。これに
より同図(J)に示すように上下の研磨面5aと5bが
得られ所定の厚さが制御される。この際、本発明の特徴
として上下面の金属膜4aと4bも同時に除去されて、
外周部のみの金属膜4cが残り完成される。上記したサ
ファイヤなど不導体へのIPの方法については特願平1
−232259号公報に開示されているが本発明に適用
されるIPの方法を説明する。すなわち、不導体よりな
るカバーガラスの上へのIP方法は、セット治具上に被
対象ガラスを電極用薄片(5〜10mmの角形で、厚味
が0.02mmのリン青銅板など)を介してバネで押圧
して固定する工程と、前記被対象ガラスが蒸発源と対向
して配置されたIP装置でTiを真空蒸着で被膜生成す
る工程と、前記固定の条件と真空状態を持続し、前記第
1の被膜の上にTiN、TiNC膜を生成する工程から
なるIP処理方法にて行う。IP時にガラス表面に生じ
る帯電をガラスの中心から導電的に放電し、良好な美し
い成膜ができることになる。帯電が放電する際のスパー
ク傷がガラスの中心部に集中するため、特に美観の重要
な外周部の成膜が得られる。本発明において上下面のス
パーク傷はその後施される上下面の研磨の際に同時に除
去されるものである。
【0007】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来の工
程を入れ替えたことにより、IPと上面の境界は研磨面
によるものであり、その外観がスッキリしており、見栄
えの良い品質が出来上がることになる、特にサファイヤ
カバーガラスのごとく特に硬質なものへのIP処理が低
コストで高品質が実現できる等、多くの効果を得るもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)、(B)、(C)及び(I)、(J)は
、本発明の一実施例のカバーガラスへの金属被膜を形成
方法の工程を示す断面図である。
【図2】(A)〜(G)は、従来の工程を示す断面図で
、(A)、(B)、(C)図は図1と共通である。
【符号の説明】
1  原材料 2  形状成形 3  外周研磨 4  金属被膜 4c  側面電極膜 5a  上研磨面 5b  下研磨面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カバーガラスの外周部に金属被膜を形成す
    る方法において、形状成形を行い、次に外周部を研磨し
    て仕上げ、その後外周部を含む上下面に金属被膜を形成
    し、上下面を所定量研磨するとともに、上下面の金属被
    膜を同時に除去することを特徴とするカバーガラスの金
    属被膜の形成方法。
JP656691A 1991-01-23 1991-01-23 カバーガラスの金属被膜の形成方法 Pending JPH04297890A (ja)

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