JPH04300227A - ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高電気抵抗であって絶
縁性、帯電防止性ならびに電波低反射性であり、耐摩耗
性を格段に改善して優れ、しかも耐薬品性に優れるもの
となり、またさらに必要に応じて屈折率あるいは／およ
び可視光線透過率、断熱性ならびにゴールド色系色調な
ど有色透明な色調等を種々調整することができて多機能
化でき得、ことに単板で使用できるＴｉＳｉＮ系薄膜被
覆ガラスに関し、例えば各種ディスプレー基板や複写機
用ガラスなど各種光学材料品あるいは各種電子材料品、
ならびにクリーンルーム、ことにフォトリソグラフィ用
イエロールームや陳列ショウケース用ガラスなどの建築
用およびその関連あるいは自動車用の窓材等の広い分野
に有用であるＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスを提供するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電波低反射ガラスに類するものと
しては、例えば特開平２ー１７７６０１号公報には、熱
線反射膜とアンテナ導体とを設けてなる自動車用窓ガラ
スであって、前記熱線反射膜は、２０ｋΩ／□以上のシ
ート抵抗値を有する自動車用窓ガラスが記載されており
、前記熱線反射膜は、ＴｉＮｘ、ＣｒＮｘ等の窒化物、
ＣｒＮｘＯｙ、ＴｉＮｘＯｙ、ＴｉＮｘＣｙ、ＴｉＯｘ
Ｃｙ、ＣｒＮｘＢｙ、ＣｒＮｘＳｉｙ等の窒酸化物、窒
炭化物、酸炭化物、窒硼化物、窒珪化物あるいはＭＢｘ
Ｏｙ、ＭＳｉｘＯｙ、ＭＢｘＳｉｙＯｚ等を用い、さら
に具体的には例えばガラス／ＴｉＮｘ、ガラス／Ｔａ２
　Ｏ５　／ＣｒＮｘＯｙ／Ｔａ２　Ｏ５　、ガラス／Ｚ
ｎＯ／ＴｉＮｘ／ＺｎＯ、ガラス／ＴｉＯ２　／ＴｉＮ
ｘ／ＴｉＯ２　等が開示され知られている。

【０００３】また一方でゴールド色を呈する熱線反射ガ
ラスとしては、例えば特開昭６３ー１９０７４２号公報
には、熱線反射ガラスの製法について記載されており、
ガラス基板からの反射色調がゴールド色系を得るために
は、第１層のＴｉＯ２　層が４５〜１６５Å、第２層の
ＴｉＮｘ（ｘ＝１）層が６３０〜９００Å、第３層のＴ
ｉＯ２　層が１０〜２７０Åであることが開示されてお
り、さらに特開平１ー２０８３４４号公報には、金色反
射色を有する透明板が記載されており、ガラス板の如く
透明板の一方の表面に窒化チタン膜を形成し、該窒化チ
タン膜上に高屈折率の金属酸化物誘電体膜、特に屈折率
が１．９〜２．６であり、ことにＴｉＯ２　、ＳｎＯ２
　、ＺｎＯ等を付着した、該金属酸化物誘電体膜側から
の可視光反射率が小さく、特に１０％以下、且つ該透明
板の他方の表面からの反射光が金色であることが開示さ
れている等が知られている。

【０００４】またさらに、例えば本出願人が既に出願し
た特開平２ー２２５３４６号公報には、透明基体上に、
第１層から第６層まで順次積層して成る多層薄膜を有す
る熱線反射ガラスにおいて、第６層としてＳｉ・ＴｉＮ
ｘＯｙ（０≦ｘ＜７／３，０＜ｙ≦４）等を用いること
を提案している。

【０００５】

【発明が解決しようとする問題点】前述した各公報にお
いては、例えば特開平２ー１７７６０１号公報等に記載
されている前記ＴｉＮｘ薄膜とＴｉＯ２　薄膜あるいは
ＣｒＮｘＯｙ薄膜とＴａ２　Ｏ５　薄膜等の組み合わせ
では、必ずしも充分耐摩耗性、耐擦傷性を有しているも
のとは言い難く、また前記ＴｉＮｘ薄膜を初め上述の各
組み合わせ薄膜では必ずしも充分耐薬品性を有している
ものとは言い難く、比較的過酷な条件等では特に単板ガ
ラスとして使用し難いものと言わざるを得ないものであ
り、前記ＴｉＮｘ薄膜は膜厚が厚い場合例えば約２５０
Å程度以上では充分な帯電防止性ならびに電波低反射性
を有するものとは言い難いものであり、さらに特開平２
ー２２５３４６号公報に記載の前記Ｓｉ・ＴｉＮｘＯｙ
薄膜は充分耐摩耗性、耐擦傷性ならびに耐薬品性を有し
ているものの他の５層薄膜が充分な高抵抗薄膜とは言い
難く、充分な帯電防止性ならびに電波低反射性を有する
ものとは言い難いものである等、いずれにしろ、これら
を組み合わせた構成にしたとしても目指す特性を有する
ものとはなり難いものであり、所期の目的を達成するこ
とができないものと言わざるを得ないものであった。

【０００６】

【問題点を解決するための手段】本発明は、従来のかか
る欠点に鑑みてなしたものであって、安価なＤＣスパッ
タ電源が使用できて、大面積の基板に均一な膜厚で成膜
し得、スパッタ成膜レートが高くかつ長時間安定した状
態を確保し得る成膜条件ならびに手段、すなわち生産性
に優れたＤＣ反応性スパッタリング（ＤＣマグネトロン
反応スパッタリング）法によって、前述したＴｉＳｉＮ
薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主成分とする複合薄膜とＴｉ
ＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合
薄膜とを特定膜厚で巧みに組み合わせ、ことに後者薄膜
を最外表層に、あるいはまた特にアンダーコート層であ
る第１層に配して包み込むようにした多層薄膜被覆層と
し、該多層薄膜被覆層の表面抵抗を１０２　ｋΩ／□以
上の高抵抗であるものとしたこと等により、前記多層薄
膜被覆層自体の耐摩耗性、耐擦傷性、耐薬品性を格段に
優れるものと成し得るとともに、絶縁性、電波低反射性
ならびに帯電防止性に優れ、可視光線透過率あるいは屈
折率、色調等が任意に種々選定することができ、有用で
効率的なＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスを提供するもので
ある。

【０００７】すなわち、本発明は、透明ガラス基板の表
面に、膜厚が１０〜３０００ÅであるＴｉＳｉＮ薄膜あ
るいはＴｉＳｉＮを主成分とする複合薄膜を少なくとも
一層被覆成膜し、膜厚が５０〜３０００ÅであるＴｉＳ
ｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄
膜を少なくとも常に最外表層に被覆積層して多層薄膜被
覆層を形成して成り、多層薄膜被覆層の表面抵抗が１０
２　ｋΩ／□以上の高抵抗であることを特徴とするＴｉ
ＳｉＮ系薄膜被覆ガラス。ならびに前記ＴｉＳｉＮ系薄
膜被覆ガラスにおいて、偶数層目または奇数層目に、膜
厚が１０〜２０００ÅであるＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいは
ＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜を被覆積層して多
層薄膜被覆層を形成して成ることを特徴とする上述した
ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラス。さらに前記ＴｉＳｉＮ系
薄膜被覆ガラスにおいて、その反射色が少なくともイエ
ロー色系ならびにゴールド色系色調であることを特徴と
する上述したＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスをそれぞれ提
供するものである。

【０００８】ここで、前記膜厚が１０〜３０００Åであ
るＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主成分とする複
合薄膜を少なくとも一層用いることとしたのは、該両薄
膜自体が表面抵抗が約１ＭΩ／□程度以上と絶縁性が高
く、しかも耐摩耗性やガラス基板とも高い接着力があっ
て、紫色系、イエロー色系、ゴールド色系、シルバー色
系等各種色調を呈し、耐酸性では必ずしも優れているも
のとは言えないものの耐薬品性を有するものであって、
絶縁性、電波低反射性、帯電防止性を充分発揮するもの
の一つであるからであり、また該両薄膜自体の膜厚を１
０〜３０００Åとしたのは、１０Å未満であれば不均一
な薄膜となり易く、例えば島状で一様な分布でなくなっ
て、該両薄膜自体が無い部分が生じ、所期の目的が達成
できないからであり、３０００Åを超えると経済的でな
くなるからであって、経済性を加味しなければ３０００
Åを超えてもよいことは言うまでもない。好ましくは２
０〜２５００Å程度、より好ましくは５０〜２０００Å
程度である。

【０００９】また、常に最外表層に膜厚が５０〜３００
０ÅであるＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主
成分とする複合薄膜を用いることとしたのは、該両薄膜
がＴｉＳｉｘＯｙＮｚ薄膜であって、ｘ：ｙ：ｚが各種
割合の薄膜、あるいはＴｉＳｉｘＯｙＮｚに例えばＴｉ
ＳｉＯ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＯ、ＴｉＮ、ＳｉＯ、ＳｉＮ
等のうち少なくとも１種含有する複合薄膜であり、前記
ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主成分とする複合
薄膜に対し馴染み合い易くて高接着となり、該ＴｉＳｉ
ＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜
自体はもちろん多層薄膜被覆層としても、例えば該両薄
膜自体が表面抵抗が約１０２　ｋΩ／□程度以上と高抵
抗であって頑固な強度あるものとなって、耐摩耗性、耐
擦傷性、耐薬品性を格段に優れるものと成し得るととも
に、絶縁性、電波低反射性、帯電防止性に優れ、可視光
線透過率あるいは屈折率、無色透明から場合によっては
例えばイエロー色系ならびにゴールド色系色合いを呈す
る色調等が任意に種々選定することができ、有用で効率
的なＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスと成し得るものである
からであり、また最外表層の膜厚を５０〜３０００Åと
したのは、５０Å未満では長期間比較的過酷な条件で耐
摩耗性、耐擦傷性、耐薬品性を充分安定して確実に保持
した保護膜とは言い難いためであり、３０００Åを超え
ると次第に経済的でなくなり、また厚ければ厚いほど例
えば約５０００Å程度を超えると歪み等も発現し易くな
ってくる等のためであり、好ましくは１００〜２０００
Å程度である。

【００１０】さらに、少なくとも常に最外表層に、すな
わち最外表層のほかに、前記偶数層目または奇数層目に
、膜厚が１０〜２０００ÅであるＴｉＳｉＯＮ薄膜ある
いはＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜を用いること
としたのは、偶数層目であれば第２層、第４層等に、奇
数層目であればことにガラス基板と直接接した第１層で
あるアンダーコート層、第３層、第５層として前記Ｔｉ
ＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主成分とする複合薄膜
を包み込むように配することで、各層間を初めことにア
ンダーコート層において接着力を高め、頑固で強度があ
る多層薄膜被覆層となり、耐摩耗性、耐擦傷性、耐薬品
性をさらに格段に優れるものと成し得、色調はもとより
、例えば電波低反射性や帯電防止性を阻害しない程度で
他の断熱性等を有する多機能化薄膜をも用いることがで
きて付与するように成し得るものであり、また膜厚を１
０〜２０００Åとしたのは、前記と同様に１０Å未満で
あれば不均一な薄膜となり易く、例えば島状で一様な分
布でなくなって、接着力や絶縁力が低下し、所期の目的
が達成できないからであり、２０００Åを超えると経済
的で無くなるからであり、経済性を無視すれば例えば３
０００Å程度でもよいことは言うまでもない。好ましく
は３０〜１５００Å程度である。

【００１１】さらにまた、前記多層薄膜被覆層の表面抵
抗が１０２　ｋΩ／□以上の高抵抗であることとしたの
は、１０２　ｋΩ／□未満であれば絶縁性、電波低反射
性、特に目指す帯電防止性がより充分有するものとは言
い難く、ことに多層薄膜被覆層の表面抵抗が１０３　ｋ
Ω／□以上〜１０４　ＭΩ／□以下程度の高抵抗である
ことで、静電気拡散性作用を充分発揮して帯電防止効果
を発現するものとなってアースの設置も必要がなくなり
好ましく、単板の前記クリーンルーム窓材はもちろん自
動車用窓ガラス等としてことに有用なものとするためで
ある。

【００１２】また、前記ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳ
ｉＮを主成分とする複合薄膜を少なくとも一層用いるこ
ととしたのは、ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主
成分とする複合薄膜を、ＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉ
ＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜と交互に積層して複数
層用いてもよいことはもちろん、前述したように例えば
電波低反射性や帯電防止性を阻害しない程度に多層薄膜
被覆層の表面抵抗を調整するようにすることで、他の特
性である断熱性等を有する多機能化薄膜を用いることが
できて付与するように成し得るものであり、例えばＴｉ
、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、のうち少なく
とも一種から成る金属、酸化物あるいは窒化物または窒
素酸化物の薄膜を種々単独または組み合わせ用いて、例
えば膜厚を約５〜２０００Å程度として一層少なくとも
設けることで断熱性特性を、あるいは屈折率や可視光線
透過率や色調等を種々調整して付与し、多機能化を達成
することもできるものである。

【００１３】さらに、前記ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラス
において、特にその反射色が少なくともイエロー色系な
らびにゴールド色系色調であるものとしたのは、少なく
とも前記ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを主成分と
する複合薄膜とＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮ
を主成分とする複合薄膜を種々の膜厚で組み合わすなか
で、前記各種特性を保持しつつ、その反射色が少なくと
もイエロー色系ならびにゴールド色系色調を呈するよう
にすることで、例えばフォトリソグラフィ用イエロール
ーム、あるいは建築用ならびにその関連や自動車用単板
窓材等において、ことにその特性を特異に発揮発現する
ことができるからである。

【００１４】さらにまた、成膜方法としては、特にＤＣ
反応性スパッタリング法を用いることが好ましく、例え
ばＲＦスパッタリング法では前述したように大面積の基
板にスパッタをすることができず、仮に実施するとして
も設備の大改造等を伴う等のもので採用し難く、一方Ｄ
Ｃ反応性スパッタリング法は例えば約３ｍ平方程度の大
面積でも、ＴｉＳｉターゲットを用い、導入スパッタガ
スの流量比等の成膜条件において工夫をすれば、前述し
た各種特性を得ることができることはもちろん、そのま
まの装置で高い成膜レートでもって実施できるものであ
る。

【００１５】さらにまた、ガラス基板としては、透明ガ
ラスであれば無色あるいは有色のどちらでもよいが、例
えばブルー、ブロンズ、グレーあるいはグリーンガラス
等でもよく、特に前記イエロールーム用窓材ではイエロ
ー色系色調を、また自動車用窓材ではブルー色系あるい
はゴールド色系、グリーン色系、なかでもゴールド色系
色調で熱線吸収性能を得やすいものであればより好まし
いものである。また単板で使用できることはもとより、
複層あるいは合せガラスあるいは強化ガラスまたは強度
アップガラス、曲げガラス等としても使用できることは
言うまでもない。さらに、ガラス基板が無機質でも有機
質でもよいことは言うに及ばない。

【００１６】

【作用】前述したとおり、本発明のＴｉＳｉＮ系薄膜被
覆ガラスは、好ましいＤＣマグネトロン反応性スパッタ
リング法でＴｉＳｉターゲットを用い、特定な成膜条件
で成膜した、前記ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮを
主成分とする複合薄膜と、該薄膜と同系と言える前記Ｔ
ｉＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主成分とする複
合薄膜とを所定範囲の膜厚で適宜巧みに組み合わせ、こ
とに後者薄膜を最外表層に、あるいはまた特にアンダー
コート層である第１層に、はたまた交互になるよう配し
て包み込むようにした多層薄膜被覆層とし、該多層薄膜
被覆層の表面抵抗を１０２　ｋΩ／□以上の高抵抗とし
たこと等により、低投資で優れた生産性でもって、長時
間安定した状態でスパッタできしかも高いスパッタ成膜
レートで大面積の基板にも支障なく充分成膜でき、また
さらに同系と言える薄膜であって前記薄膜中に窒素を少
なくとも含有させることならびに前記したｘ：ｙ：ｚ量
比によるバランスをさせること等によって、頑固な接着
性と強度を示すものとなって前記多層薄膜被覆層自体の
耐摩耗性や耐擦傷性ならびに耐薬品性を格段に優れるも
のと成し得るとともに、調整した高電気抵抗を達成でき
て、絶縁性、電波低反射性ならびに帯電防止性に優れ高
耐久性であって、可視光線透過率あるいは屈折率、色調
等が任意に種々選定することができ、なかでもイエロー
色系色調やゴールド色系色調と成し得ることにより、例
えばフォトリソグラフィ用イエロールーム、あるいは建
築用ならびにその関連や自動車用単板窓材等において、
ことにその特性を特異に発揮発現することができるもの
とするもの等、さらにまた該多層薄膜被覆層全体として
も前述した特性を保持し、可視光線透過率と色調を調整
はもとより、前記金属薄膜、酸化物薄膜、窒化物薄膜な
らびに窒素酸化物薄膜とを巧みに配して組み合わせ適宜
特定の膜厚で調整することで、前記特性に加え断熱性等
をも付与したものとなし得るようにできる等、特異な分
野を含め広い分野で採用し得るものとなり、各種ディス
プレー基板、各種光学材料品、各種電子材料品、ならび
に建築用あるいは自動車用の窓材、ことに単板として使
用できて有用なＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスとなるもの
である。

【００１７】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。

【００１８】実施例１ 大きさ１００×１００ｍｍ２　、厚さ６ｍｍのクリアー
ガラス基板（ＦＬ６）を中性洗剤、水すすぎ、イソプロ
ピルアルコールで順次洗浄し、乾燥した後、ＤＣマグネ
トロンスパッタリング装置の真空槽内にセットしてある
ＴｉＳｉ（ＴｉＳｉの組成比はｗｔ％でＴｉ：Ｓｉ＝６
５：３５である。）ターゲットに対向して上方にセット
し、つぎに前記槽内を真空ポンプで約５×１０−６Ｔｏ
ｒｒまでに脱気した後、該真空槽内にＡｒ、Ｎ２　ガス
をガス流量比でＡｒ７０、Ｎ２　３０の量比の混合ガス
濃度になるよう調整し導入して真空度を約５×１０−３
Ｔｏｒｒに保持し、前記ＴｉＳｉターゲット（直径約１
２７ｍｍ）に約１８０Ｗの電力を印加し、前記二つの混
合ガスによるＤＣマグネトロンスパッタの中に約８秒程
度の滞留させること（成膜速度約１５０Å／ｍｉｎ程度
）で、約２０Å厚さのＴｉＳｉＮ薄膜を第１層として前
記ガラス基板表面に成膜した。成膜が完了した後、Ｔｉ
Ｓｉターゲットへの印加を停止する。

【００１９】次いで、前記ガラス基板を前記真空槽内に
おいたまま、前記したと同様に脱気し、Ａｒ、Ｏ２　、
Ｎ２　ガスをガス流量比でＡｒ７５、Ｏ２　２０、Ｎ２
　５の量比の混合ガスを導入して真空度を約５×１０−
３Ｔｏｒｒに保持し、前記ＴｉＳｉターゲットに約１８
０Ｗの電力を印加し、前記三つの混合ガスによるＤＣマ
グネトロンスパッタの中に約２４分程度の滞留させるこ
と（成膜速度約４１Å／ｍｉｎ程度）で、約１０００Å
厚さのＴｉＳｉＯＮ薄膜を第２層、すなわち最外表層と
して前記ＴｉＳｉＮ薄膜表面上に成膜した。成膜が完了
した後、ＴｉＳｉターゲットへの印加を停止する。

【００２０】得られた２層の多層薄膜被覆層を有するＴ
ｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスについて、可視光透過率（３
８０〜７８０ｎｍ）ならびに日射透過率（３４０〜１８
００ｎｍ）は、３４０型自記分光光度計（日立製作所製
）とＪＩＳＺ８７２２、ＪＩＳＲ３１０６によってそれ
ぞれその光学的特性を求めた。さらにテーバー試験によ
るヘイズ（曇り具合）値の変化量（△Ｈ％）は、テーバ
ー試験機（ＭＯＤＥＬ５０３、ＴＹＢＥＲ社製）に膜面
を上にした１０ｃｍ角の試験片をセットし、膜面に荷重
５００ｇのかかった摩耗輪（ＣＳー１０Ｆ）が２ケ所で
当たるようになっているもので、１０００回回転した後
、ヘイズメーター（日本電色工業製、ＮＤＨー２０Ｄ）
によって測定し、試験前の測定値と対比し、その変化量
（△Ｈ％）をもって表わした数値である。

【００２１】次に、耐薬品性のうち耐酸試験は、常温で
１規定のＨＣｌ溶液中に前記試験片を約６時間浸漬した
後、膜の劣化状態を見て判断したものであり、耐アルカ
リ試験は、常温で１規定のＮａＯＨ溶液に試験片を約６
時間浸漬した後、膜の劣化状態を見て判断したものであ
り、それぞれ○印は劣化がないもの、△印は多少の劣化
があるようになるもの、×印は劣化が明らかに目立った
ものである。

【００２２】さらに、表面抵抗は、１０５　Ω／□以下
のものでは四探針抵抗測定装置ＲＴーＳ（ＮＡＰＳＯＮ
社製）によって、１０５　Ω／□〜１０５　ＭΩ／□の
ものでは三菱油化製表面高抵抗計（ＨＩＲＥＳＴＡ　　
ＨＴー２１０）によって測定したものである。またさら
に、電波反射率については、大型導波管法によって測定
することで得た。なお、ガラス面の色調は前記分光光度
計で測定した結果より求めた主波長および色見本標準ガ
ラス板との目視対比で求めた。

【００２３】表１に示すように、そのヘイズ値△Ｈ％は
２．３となり、自動車窓用等の単板ガラス等に充分採用
でき得るヘイズ値△Ｈ％である４．０以下、好ましくは
３．５以下を充分クリアし、保護膜として優れているだ
けではなく接着力も優れ、多層薄膜における接着層的な
役目も果たし、耐摩耗性や耐擦傷性等に優れ、さらに高
電気抵抗であって、高耐薬品性でガラスに近い電波低反
射性を示すものであり、しかもＤＣスパッタリング法で
そのままの装置において高い成膜レートで安定して高効
率で優れた経済性をもって成膜し得、所期の目指すもの
となって、単板で使用できる有用性の高いＴｉＳｉＮ系
薄膜被覆ガラスを得ることができる。

【００２４】実施例２〜２３ 実施例１と同様の方法によって、表１および表２に示す
ような２、３、４、５層の各多層薄膜被覆層およびその
各膜厚を得て、その多層薄膜被覆層において実施例１で
示したと同様の測定法等によって、同様の評価手段で行
い、その結果を表１および表２にそれぞれ示す。

【００２５】表１より明らかなように、ヘイズ値△Ｈ％
が１．６〜３．４となって、各実施例共、実施例１と同
様のものが得られ、従来例である比較例の各薄膜層に比
して、ことに耐摩耗性や耐擦傷性が格段に向上し、高耐
薬品性や電波低反射性はもちろん、帯電防止性を充分有
する、単板ガラスとして充分採用でき得るＴｉＳｉＮ系
薄膜被覆ガラスと成り、建築用あるいは自動車用の窓材
はもちろん、フォトリソグラフィ用イエロールームの窓
材、各種光学材料品や電子材料品、ことに単板以外等に
も幅広い分野に採用し得る有用なＴｉＳｉＮ系薄膜被覆
ガラスと成り、しかも実施例１と同様に、高成膜レート
で安定して、高効率で優れた経済性をもって成膜し得、
所期の物性を有するものとすることができる。

【００２６】なお、例えばＳｎＯｘ薄膜については、Ｄ
Ｃマグネトロンスパッタで、Ａｒ７５、Ｏ２　２５の量
比の導入混合ガス、真空度を約５×１０−３Ｔｏｒｒに
、Ｓｎターゲットに約１８０Ｗの印加電力、前記Ａｒと
Ｏ２　ガスによるＤＣマグネトロンスパッタの中に約１
４分程度の滞留（成膜速度約５０Å／ｍｉｎ程度）で、
約７００Å厚さのＳｎ０ｘ薄膜を第２、３、４の各層と
して前記ＴｉＳｉＯＮ薄膜で包み込むように成膜した。 またＴｉＮｘ薄膜については、同様に、導入ガス条件を
Ａｒ７０、Ｎ２　３０の量比、Ｔｉターゲットに約１８
０Ｗの印加電力、成膜速度約８０Å／ｍｉｎ程度で成膜
した。さらにＴｉＯｘ薄膜については、同様に、導入ガ
ス条件をＡｒ７０、Ｏ２　３０の量比、Ｔｉターゲット
に約１８０Ｗの印加電力、成膜速度約１８Å／ｍｉｎ程
度で成膜した。さらにまたＴａ薄膜については、同様に
、導入ガス条件をＡｒ１００の量比、Ｔａターゲットに
約１８０Ｗの印加電力、成膜速度約２５０Å／ｍｉｎ程
度で成膜した。

【００２７】比較例１〜９ 実施例１と同様の方法によって表２に示すような単層〜
３層薄膜層を得、その薄膜層において、実施例１と同様
の測定法、同様の評価手段で行い、その結果を表２にそ
れぞれ示す。

【００２８】それぞれ、例えば表面抵抗が１０２　ｋΩ
／□以上の高電気抵抗のものは、ヘイズ値△Ｈ％がＴｉ
ＳｉＮ薄膜を除き４．０を超えており、必ずしも耐摩耗
性や耐擦傷性に優れるものとは言い難く劣るもの、また
は耐酸性において多少劣化がみられるもの等であり、電
波低反射性や帯電防止性を有し、かつ建築用単板ガラス
、自動車窓用単板ガラス、クリーンルーム用単板ガラス
等に充分単板で採用でき得るものとは言い難いものであ
る。

【００２９】なお、例えばＨＦＬ６／ＴｉＳｉＮ（１５
００Å）／ＴｉＳｉＯＮ（３０Å）、またＦＬ６／Ｔｉ
ＳｉＯＮ（１００Å）／ＴｉＳｉＮ（１６００Å）／Ｔ
ｉＳｉＯＮ（３０Å）等のように、最外表層が薄くなっ
てくれば特に耐酸性において多少の劣化がみられるよう
になるものである。

【００３０】

【表１】

【００３１】

【表２】

【００３２】

【発明の効果】以上前述したように、本発明は通常のＤ
Ｃマグネトロン反応性スパッタリング法でＴｉＳｉター
ゲット等を用い、所定成膜条件で反応性スパッタするこ
とで、長時間安定して高成膜レートで、しかも大面積基
板に安価で効率良く、ＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉ
Ｎを主成分とする複合薄膜とＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいは
ＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜とを、場合によっ
ては金属薄膜、酸化物薄膜、窒化物薄膜ならびに窒素酸
化物薄膜を特定厚みで巧みに配して組み合わせ、しかも
該薄膜による多層薄膜被層の表面抵抗が１０２　ｋΩ／
□以上の高電気抵抗とするように成膜することで、多層
薄膜被覆層自体が高接着で高強度となって、高耐薬品性
、高耐擦傷性、高耐摩耗性ならびに高耐久性となり、し
かも屈折率ならびに色調を適宜巧みに制御でき、場合に
よってはさらに各種機能を組み合わせてより優れた断熱
性、電波低反射性あるいは帯電防止性またはその複合化
したものなど多機能な多層薄膜被覆層とし、単板で充分
使用できて、各種ディスプレー基板、各種フィルターな
どの光学材料品、電子材料品、ならびに建築用あるいは
自動車用窓材等に採用できるものとなり、幅広い分野に
おいて有用なＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスを提供するも
のである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　透明ガラス基板の表面に、膜厚が１０
   〜３０００ÅであるＴｉＳｉＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＮ
   を主成分とする複合薄膜を少なくとも一層被覆成膜し、
   膜厚が５０〜３０００ÅであるＴｉＳｉＯＮ薄膜あるい
   はＴｉＳｉＯＮを主成分とする複合薄膜を少なくとも常
   に最外表層に被覆積層して多層薄膜被覆層を形成して成
   り、多層薄膜被覆層の表面抵抗が１０２　ｋΩ／□以上
   の高抵抗であることを特徴とするＴｉＳｉＮ系薄膜被覆
   ガラス。
2. 【請求項２】　　前記ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスにお
   いて、偶数層目または奇数層目に、膜厚が１０〜２００
   ０ÅであるＴｉＳｉＯＮ薄膜あるいはＴｉＳｉＯＮを主
   成分とする複合薄膜を被覆積層して多層薄膜被覆層を形
   成して成ることを特徴とする請求項１記載のＴｉＳｉＮ
   系薄膜被覆ガラス。
3. 【請求項３】　　前記ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラスにお
   いて、その反射色が少なくともイエロー色系ならびにゴ
   ールド色系色調であることを特徴とする請求項１記載の
   ＴｉＳｉＮ系薄膜被覆ガラス。