JPH05294674A - 電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス - Google Patents
電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
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Abstract
(57)【要約】
【構成】透明なガラス基板の一方の表面上に、膜厚が76
〜150nm のTa又はTiSi或いはZrの窒化物薄膜又は窒素酸
化物薄膜を少なくとも１種以上選択し第１層として被膜
した後、その上に、膜厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Z
r、Snの酸化物薄膜を第２層として被膜した電波低反射
特性を有する熱線遮蔽ガラス。更に前記第１層の下地層
として、膜厚が１〜25nmのCrの窒化物薄膜又は窒素酸化
物薄膜をアンダーコート被膜した電波低反射特性を有す
る熱線遮蔽ガラス。並びに前記被膜した熱線遮蔽性能膜
の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上で、かつガラス面側から
の反射色調がブルー系色調を呈する電波低反射特性を有
する熱線遮蔽ガラス。 【効果】例えばガラスと同程度に電波を効率よく透過さ
せ、高層建築物等に用いてTV映像でのゴースト現象をな
くする等電波障害を防ぎ、しかも断熱性能を有し冷暖房
効果をより向上せしめ、かつガラス面反射色調がブルー
系色調でまた必要に応じて膜面反射色をニュートラル化
せしめることができ、比較的低透視性等、より美観を呈
し、環境に優しく、高居住性となる。
〜150nm のTa又はTiSi或いはZrの窒化物薄膜又は窒素酸
化物薄膜を少なくとも１種以上選択し第１層として被膜
した後、その上に、膜厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Z
r、Snの酸化物薄膜を第２層として被膜した電波低反射
特性を有する熱線遮蔽ガラス。更に前記第１層の下地層
として、膜厚が１〜25nmのCrの窒化物薄膜又は窒素酸化
物薄膜をアンダーコート被膜した電波低反射特性を有す
る熱線遮蔽ガラス。並びに前記被膜した熱線遮蔽性能膜
の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上で、かつガラス面側から
の反射色調がブルー系色調を呈する電波低反射特性を有
する熱線遮蔽ガラス。 【効果】例えばガラスと同程度に電波を効率よく透過さ
せ、高層建築物等に用いてTV映像でのゴースト現象をな
くする等電波障害を防ぎ、しかも断熱性能を有し冷暖房
効果をより向上せしめ、かつガラス面反射色調がブルー
系色調でまた必要に応じて膜面反射色をニュートラル化
せしめることができ、比較的低透視性等、より美観を呈
し、環境に優しく、高居住性となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、太陽輻射エネルギーを
遮蔽する主として建築物等の窓ガラスに用いる被膜付き
の熱線遮蔽ガラスであって、とりわけ冷暖房効果を向上
せしめるようにできるとともに比較的低い可視光透過率
を有するものであり、しかも電波の透過性が通常すなわ
ち未加工のフロート板ガラス並であって、ビル周囲の住
宅等においてTV画像でのゴースト現象等の電波の障害を
低減でき、さらにとりわけガラス面側からの反射色調が
ブルー系色調である、特に高層建築用窓ガラスとして有
用な電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスに関する。
遮蔽する主として建築物等の窓ガラスに用いる被膜付き
の熱線遮蔽ガラスであって、とりわけ冷暖房効果を向上
せしめるようにできるとともに比較的低い可視光透過率
を有するものであり、しかも電波の透過性が通常すなわ
ち未加工のフロート板ガラス並であって、ビル周囲の住
宅等においてTV画像でのゴースト現象等の電波の障害を
低減でき、さらにとりわけガラス面側からの反射色調が
ブルー系色調である、特に高層建築用窓ガラスとして有
用な電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスに関する。
【０００２】
【従来技術】近年、テレビ電波の受信にあたり、ビルの
反射によるゴースト障害が問題になり、ビルのコンクリ
ート壁などにフェライト電波吸収体を設けることが実用
化されつつあり、一方、省エネや冷暖房効率の向上等か
ら、例えば高層ビルなどの窓ガラスにおいても金属、金
属酸化物などの膜をコーティングしたり、このような膜
を有するフイルムを貼付けた断熱性能などの機能を付与
したものが増加しており、ガラスより電波に対して反射
率が高い膜をコーティングしたり、フイルムを貼付ける
と反射率が例えばかなりの高い値となり、ことにブルー
系色調を呈する熱線反射ガラスとしては電波障害は避け
られない面があった。
反射によるゴースト障害が問題になり、ビルのコンクリ
ート壁などにフェライト電波吸収体を設けることが実用
化されつつあり、一方、省エネや冷暖房効率の向上等か
ら、例えば高層ビルなどの窓ガラスにおいても金属、金
属酸化物などの膜をコーティングしたり、このような膜
を有するフイルムを貼付けた断熱性能などの機能を付与
したものが増加しており、ガラスより電波に対して反射
率が高い膜をコーティングしたり、フイルムを貼付ける
と反射率が例えばかなりの高い値となり、ことにブルー
系色調を呈する熱線反射ガラスとしては電波障害は避け
られない面があった。
【０００３】例えば、特開昭63ー190742号公報には熱線
反射ガラスの製法について記載されており、ガラス基板
からの反射色調がブルー色系を得るためには、第１層で
あるTiO2層の膜厚が５〜10nm、第２層であるTiN 層の膜
厚が25.5〜31.5nm、第３層であるTiO2層の膜厚が12.5〜
17.5nmであることが開示されている。
反射ガラスの製法について記載されており、ガラス基板
からの反射色調がブルー色系を得るためには、第１層で
あるTiO2層の膜厚が５〜10nm、第２層であるTiN 層の膜
厚が25.5〜31.5nm、第３層であるTiO2層の膜厚が12.5〜
17.5nmであることが開示されている。
【０００４】また例えば、本出願人が既に出願した特開
平３ー208837号公報では単板断熱ガラス板およびその色
ガラスを記載しており、ガラス基板からの反射色調がブ
ルー色系を得るためには、ガラス板のような透明板の一
方の表面に、第１層として膜厚が10〜30nmの SiOx また
はAl-SiO x膜、第２層として膜厚が10〜40nmのTiN
x膜、第３層として膜厚が０〜20nmのTiO x 膜、第４層
として膜厚が30〜50nmのSiO x またはAl-SiOx 膜をそれ
ぞれスパッタ法で成膜してなるものを開示している。
平３ー208837号公報では単板断熱ガラス板およびその色
ガラスを記載しており、ガラス基板からの反射色調がブ
ルー色系を得るためには、ガラス板のような透明板の一
方の表面に、第１層として膜厚が10〜30nmの SiOx また
はAl-SiO x膜、第２層として膜厚が10〜40nmのTiN
x膜、第３層として膜厚が０〜20nmのTiO x 膜、第４層
として膜厚が30〜50nmのSiO x またはAl-SiOx 膜をそれ
ぞれスパッタ法で成膜してなるものを開示している。
【０００５】さらに例えば、本出願人が既に出願した特
開平３ー252332号公報では電波低反射の熱線反射ガラス
を記載しており、電波障害を低減したブルー系色調を呈
する熱線反射ガラスを得るためには、透明なガラス基板
の一方の表面に、第１層ならびに第３層として有色誘電
体薄膜を積層し、第２層として表面抵抗値が200 Ω／口
以上の金属薄膜または金属窒化物薄膜を積層して成り、
該被膜面の反対側から見た反射色調がブルーあるいはゴ
ールド色であるもの等を開示している。
開平３ー252332号公報では電波低反射の熱線反射ガラス
を記載しており、電波障害を低減したブルー系色調を呈
する熱線反射ガラスを得るためには、透明なガラス基板
の一方の表面に、第１層ならびに第３層として有色誘電
体薄膜を積層し、第２層として表面抵抗値が200 Ω／口
以上の金属薄膜または金属窒化物薄膜を積層して成り、
該被膜面の反対側から見た反射色調がブルーあるいはゴ
ールド色であるもの等を開示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】前述したような、例
えば特開昭63ー190742号公報ならびに特開平３ー208837
号公報等では、ブルー色を得るために、TiN 層薄膜の膜
厚が比較的厚く、その結果、低抵抗な膜となり、高層建
築物の窓ガラスとして施工した際に、電波反射体となっ
て高層建築物と放送局の間にある一般家庭などで見られ
ているＴＶ画像におけるゴースト現象を発現することと
なる。また例えば特開平３ー252332号公報等では、金属
薄膜または金属窒化物薄膜の５〜13nm程度の超薄膜を、
酸化物薄膜等でサンドイッチしたものであって、電波低
反射ガラスではあるものの、表面抵抗値が比較的低く、
その電波低反射性能は鉄筋コンクリート以下ではあると
は言え、近年のさらなる電波低反射性能に優れるものが
望まれつつある。
えば特開昭63ー190742号公報ならびに特開平３ー208837
号公報等では、ブルー色を得るために、TiN 層薄膜の膜
厚が比較的厚く、その結果、低抵抗な膜となり、高層建
築物の窓ガラスとして施工した際に、電波反射体となっ
て高層建築物と放送局の間にある一般家庭などで見られ
ているＴＶ画像におけるゴースト現象を発現することと
なる。また例えば特開平３ー252332号公報等では、金属
薄膜または金属窒化物薄膜の５〜13nm程度の超薄膜を、
酸化物薄膜等でサンドイッチしたものであって、電波低
反射ガラスではあるものの、表面抵抗値が比較的低く、
その電波低反射性能は鉄筋コンクリート以下ではあると
は言え、近年のさらなる電波低反射性能に優れるものが
望まれつつある。
【０００７】さらに、金属等の導電性の高い膜について
は、断熱性を高めようとして膜厚を厚くすればするほど
低抵抗となって、電波低反射性能が損なわれることとな
り、逆に膜厚を薄くしたとしても大きな表面抵抗値とは
なりにくく、同様に上述の性能が充分得難い等の問題が
あり、ことにガラス面側の反射色調がブルー色でかつ単
板で使用できる熱線遮蔽ガラス、特に高層建築物用とし
て有用なものとは未だになり得ていないと言わざるを得
ない。
は、断熱性を高めようとして膜厚を厚くすればするほど
低抵抗となって、電波低反射性能が損なわれることとな
り、逆に膜厚を薄くしたとしても大きな表面抵抗値とは
なりにくく、同様に上述の性能が充分得難い等の問題が
あり、ことにガラス面側の反射色調がブルー色でかつ単
板で使用できる熱線遮蔽ガラス、特に高層建築物用とし
て有用なものとは未だになり得ていないと言わざるを得
ない。
【０００８】
【問題点を解決するための手段】本発明はこのような点
に鑑みてなされたものであり、特定膜厚で表面抵抗値が
例えば少なくとも10ＭΩ／口以上である特定した窒化物
薄膜または窒素酸化物薄膜を比較的厚い膜厚で被膜し、
あるいはその上に無色透明な誘電体薄膜を積層すること
で、光の干渉作用を巧みに利用することによってブルー
系色調を発現させたものであって、またさらにブルー系
色調を発現させることが可能な膜の下地層に、特定膜厚
のCr窒化物または窒素酸化物薄膜をアンダコートとして
用いる積層膜構成とすることで、可視光透過率等を特定
範囲、例えば５〜50％で任意に調整せしめることを可能
とし、さらにはそれらの膜を巧みに組み合わせることに
より、膜面の反射率を低くしかつ膜面の色調をニュート
ラル化させ、ガラス面の反射色調がブルー系色調であっ
て、しかも電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz
付近において約３％以下とフロートガラス並に低くする
ことができ、断熱性能を保持しつつ、ことに特定酸化物
をオーバーコートしているので耐摩耗性や耐久性をより
頑固に向上せしめるものとなり、かつ色調を微妙にコン
トロールできることを可能とした、単板で充分使用する
ことができる電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスを
提供するものである。
に鑑みてなされたものであり、特定膜厚で表面抵抗値が
例えば少なくとも10ＭΩ／口以上である特定した窒化物
薄膜または窒素酸化物薄膜を比較的厚い膜厚で被膜し、
あるいはその上に無色透明な誘電体薄膜を積層すること
で、光の干渉作用を巧みに利用することによってブルー
系色調を発現させたものであって、またさらにブルー系
色調を発現させることが可能な膜の下地層に、特定膜厚
のCr窒化物または窒素酸化物薄膜をアンダコートとして
用いる積層膜構成とすることで、可視光透過率等を特定
範囲、例えば５〜50％で任意に調整せしめることを可能
とし、さらにはそれらの膜を巧みに組み合わせることに
より、膜面の反射率を低くしかつ膜面の色調をニュート
ラル化させ、ガラス面の反射色調がブルー系色調であっ
て、しかも電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz
付近において約３％以下とフロートガラス並に低くする
ことができ、断熱性能を保持しつつ、ことに特定酸化物
をオーバーコートしているので耐摩耗性や耐久性をより
頑固に向上せしめるものとなり、かつ色調を微妙にコン
トロールできることを可能とした、単板で充分使用する
ことができる電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスを
提供するものである。
【０００９】すなわち、本発明は、透明なガラス基板の
一方の表面上に、膜厚が76〜150nmのTaまたはTiSiある
いはZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を少なくとも
１種以上選択し第１層として被膜した後、該第１層の上
に、膜厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄
膜を第２層として被膜したことを特徴とする電波低反射
特性を有する熱線遮蔽ガラス。ならびに前記第１層の下
地層として、前記ガラス基板表面と前記第１層薄膜の間
に、膜厚が１〜25nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物
薄膜をアンダーコート被膜したことを特徴とする上述し
た電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス。および前記
電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスにおいて、前記
被膜した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上
で、かつ該ガラスのガラス面側からの反射色調がブルー
系色調を呈することを特徴とする上述した電波低反射特
性を有する熱線遮蔽ガラスをそれぞれ提供するものであ
る。
一方の表面上に、膜厚が76〜150nmのTaまたはTiSiある
いはZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を少なくとも
１種以上選択し第１層として被膜した後、該第１層の上
に、膜厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄
膜を第２層として被膜したことを特徴とする電波低反射
特性を有する熱線遮蔽ガラス。ならびに前記第１層の下
地層として、前記ガラス基板表面と前記第１層薄膜の間
に、膜厚が１〜25nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物
薄膜をアンダーコート被膜したことを特徴とする上述し
た電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス。および前記
電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスにおいて、前記
被膜した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上
で、かつ該ガラスのガラス面側からの反射色調がブルー
系色調を呈することを特徴とする上述した電波低反射特
性を有する熱線遮蔽ガラスをそれぞれ提供するものであ
る。
【００１０】ここで、前記膜厚が76〜150nm のTaまたは
TiSiあるいはZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を少
なくとも１種以上選択し第１層として被膜したのは、表
面抵抗値が10ＭΩ／口以上であり、かつガラス面からの
反射色調がブルー系色調を発現させることが可能な耐久
性に優れる膜であるからであり、好ましくは膜厚は80〜
120nm 程度である。
TiSiあるいはZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を少
なくとも１種以上選択し第１層として被膜したのは、表
面抵抗値が10ＭΩ／口以上であり、かつガラス面からの
反射色調がブルー系色調を発現させることが可能な耐久
性に優れる膜であるからであり、好ましくは膜厚は80〜
120nm 程度である。
【００１１】また、前記第１層の上に、第２層として膜
厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜を被
膜したのは、光の干渉作用を巧みに組み合わせること
で、ブルー色をより強く効果的に発現させるためであ
り、さらに耐久性等が頑固に向上し、かつガラス面から
の反射色調を微妙にコントロールできることが可能とで
き得るものとなるものであり、好ましくは10〜40nm程度
である。
厚が０〜50nmのTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜を被
膜したのは、光の干渉作用を巧みに組み合わせること
で、ブルー色をより強く効果的に発現させるためであ
り、さらに耐久性等が頑固に向上し、かつガラス面から
の反射色調を微妙にコントロールできることが可能とで
き得るものとなるものであり、好ましくは10〜40nm程度
である。
【００１２】さらに、前記膜厚が１〜25nmのCrの窒化物
薄膜または窒素酸化物薄膜を下地層としてアンダーコー
トしたのは、ことに可視光透過率を例えば５〜50％の範
囲内で任意に調整せしめることを可能とするためであっ
て、膜の密着性を高めかつ電波障害を起こさない膜厚の
範囲内で室内の居住性を考え、膜面の反射率を低減し、
膜面の色調をニュートラル化するためであり、好ましく
は膜厚は１〜20nm程度である。
薄膜または窒素酸化物薄膜を下地層としてアンダーコー
トしたのは、ことに可視光透過率を例えば５〜50％の範
囲内で任意に調整せしめることを可能とするためであっ
て、膜の密着性を高めかつ電波障害を起こさない膜厚の
範囲内で室内の居住性を考え、膜面の反射率を低減し、
膜面の色調をニュートラル化するためであり、好ましく
は膜厚は１〜20nm程度である。
【００１３】さらにまた、前記被膜した熱線遮蔽性能膜
の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上で、かつ該ガラスのガラ
ス面側からの反射色調がブルー系色調を呈するものとし
たのは、充分な電波低反射性能を有し、TV映像でのゴー
スト現象等の電波障害をより確実に発現しないようにす
るためであり、またガラス面側からの反射色調がブルー
系色調を呈することにより、ビル等が意匠性に優れ環境
に優しいものとなるためである。
の表面抵抗値が10ｋΩ／口以上で、かつ該ガラスのガラ
ス面側からの反射色調がブルー系色調を呈するものとし
たのは、充分な電波低反射性能を有し、TV映像でのゴー
スト現象等の電波障害をより確実に発現しないようにす
るためであり、またガラス面側からの反射色調がブルー
系色調を呈することにより、ビル等が意匠性に優れ環境
に優しいものとなるためである。
【００１４】つぎに、ガラス基板としては、無機質はも
ちろん有機質でも透明ガラスであればよく、無色あるい
は着色等でもガラス面側から見た反射色調がブルー系色
調を得やすいものであればより好ましいものである。ま
た単板で使用できることはもとより、複層ガラスあるい
は合せガラス、強化ガラス等各種板ガラス製品として使
用できることは言うまでもない。
ちろん有機質でも透明ガラスであればよく、無色あるい
は着色等でもガラス面側から見た反射色調がブルー系色
調を得やすいものであればより好ましいものである。ま
た単板で使用できることはもとより、複層ガラスあるい
は合せガラス、強化ガラス等各種板ガラス製品として使
用できることは言うまでもない。
【００１５】
【作用】前述したとおり、本発明の電波低反射特性を有
する熱線遮蔽ガラスは、特定膜厚のTaまたはTiSiあるい
はZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を第１層として
被膜し、該第１層の上に、オーバーコートしない場合を
含む特定膜厚のTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜を第
２層として被膜積層し、該第１層と第２層を巧みに組み
合わせるものとしたもので、また必要に応じて、前記第
１層の下地層として特定膜厚のCrの窒化物薄膜または窒
素酸化物薄膜をアンダーコートしたものでなるものとし
たので、その表面抵抗値が10ｋΩ／口以上と高く、可視
光透過率を５％〜50％程度の範囲内で任意にコントロー
ルすることができ、しかも膜面からの反射を低くかつそ
の反射色調のニュートラル化を可能にせしめ、とりわけ
ガラス面側からの反射色調がブルー系色調を呈すること
となり、各薄膜の密着性を高め、積層した多層膜全体の
耐摩耗性ならびに耐食性が向上し、耐久性に優れ、単板
として充分採用できるものとなることはもちろん、TV帯
での電波低反射性能が格段に優れて通常のフロートガラ
ス並であることから、高層建築物等に使用されても、そ
の周囲において従来発現していたTV画像におけるゴース
ト現象等の電波障害を低減することができ、さらに適度
の干渉効果でもって熱線反射を持たせて断熱機能を充分
有するものとなって冷暖房の効果を高め、透視性を適宜
抑えてより色調に富むものとすることができる等、建築
物内外の居住性ならびに景観性等環境をより優れたもの
とすることができる、有用な電波低反射特性を有する熱
線遮蔽ガラスを提供するものである。
する熱線遮蔽ガラスは、特定膜厚のTaまたはTiSiあるい
はZrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜を第１層として
被膜し、該第１層の上に、オーバーコートしない場合を
含む特定膜厚のTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜を第
２層として被膜積層し、該第１層と第２層を巧みに組み
合わせるものとしたもので、また必要に応じて、前記第
１層の下地層として特定膜厚のCrの窒化物薄膜または窒
素酸化物薄膜をアンダーコートしたものでなるものとし
たので、その表面抵抗値が10ｋΩ／口以上と高く、可視
光透過率を５％〜50％程度の範囲内で任意にコントロー
ルすることができ、しかも膜面からの反射を低くかつそ
の反射色調のニュートラル化を可能にせしめ、とりわけ
ガラス面側からの反射色調がブルー系色調を呈すること
となり、各薄膜の密着性を高め、積層した多層膜全体の
耐摩耗性ならびに耐食性が向上し、耐久性に優れ、単板
として充分採用できるものとなることはもちろん、TV帯
での電波低反射性能が格段に優れて通常のフロートガラ
ス並であることから、高層建築物等に使用されても、そ
の周囲において従来発現していたTV画像におけるゴース
ト現象等の電波障害を低減することができ、さらに適度
の干渉効果でもって熱線反射を持たせて断熱機能を充分
有するものとなって冷暖房の効果を高め、透視性を適宜
抑えてより色調に富むものとすることができる等、建築
物内外の居住性ならびに景観性等環境をより優れたもの
とすることができる、有用な電波低反射特性を有する熱
線遮蔽ガラスを提供するものである。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
【００１７】実施例１ 大きさ 600mmｘ600 mm、厚さ６mmのクリアーガラス（Fl
６）を中性洗剤、水すすぎ、イソプロピルアルコールで
順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンスパッタリン
グ装置の真空槽内にセットしてあるTaのターゲットに対
向して上方を往復できるようセットし、つぎに前記槽内
を真空ポンプで約５ｘ10-6Torr以下までに脱気した後、
該真空槽内にN2ガス（但し、ArとN2の流量比は１：１か
ら０：１の範囲にあればよい。）を導入して真空度を約
２ｘ10-3Torrに保持し、前記Taのターゲットに約3.4kw
の電力を印加し、N2ガスによるDCマグネトロン反応スパ
ッタの中を、前記Taターゲット上方においてスピード約
30mm／min で前記板ガラスを搬送することによって約10
0nm 厚さの TaNx 薄膜を第１層として成膜した。成膜が
完了した後、Taターゲットへの印加を停止する。
６）を中性洗剤、水すすぎ、イソプロピルアルコールで
順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンスパッタリン
グ装置の真空槽内にセットしてあるTaのターゲットに対
向して上方を往復できるようセットし、つぎに前記槽内
を真空ポンプで約５ｘ10-6Torr以下までに脱気した後、
該真空槽内にN2ガス（但し、ArとN2の流量比は１：１か
ら０：１の範囲にあればよい。）を導入して真空度を約
２ｘ10-3Torrに保持し、前記Taのターゲットに約3.4kw
の電力を印加し、N2ガスによるDCマグネトロン反応スパ
ッタの中を、前記Taターゲット上方においてスピード約
30mm／min で前記板ガラスを搬送することによって約10
0nm 厚さの TaNx 薄膜を第１層として成膜した。成膜が
完了した後、Taターゲットへの印加を停止する。
【００１８】得られた１層膜を有する電波低反射特性を
有する熱線遮蔽ガラスについて、可視光透過率（380 〜
780nm ）、可視光反射率（380 〜780nm ）ならびに日射
透過率（340 〜1800nm）についてはU-4000型自記分光光
度計（日立製作所製）とJISZ8722、JISR3106によってそ
れぞれその光学的特性を求めた。さらにテーバー試験に
よるヘーズ（曇り具合）値の変化量（△Ｈ％）について
は、テーバー試験機（MODEL 503 、TYBER 社製）に膜面
を上にした10cm角の試験片をセットし、膜面に荷重500g
のかかった摩耗輪（CSー10F ）が２箇所で当たるように
なっているもので、300 回回転した後、ヘーズメーター
（日本電色工業製、NDH-20D ）によって測定し、試験前
の測定値と対比し、その変化量（△Ｈ％）をもって表し
た数値である。
有する熱線遮蔽ガラスについて、可視光透過率（380 〜
780nm ）、可視光反射率（380 〜780nm ）ならびに日射
透過率（340 〜1800nm）についてはU-4000型自記分光光
度計（日立製作所製）とJISZ8722、JISR3106によってそ
れぞれその光学的特性を求めた。さらにテーバー試験に
よるヘーズ（曇り具合）値の変化量（△Ｈ％）について
は、テーバー試験機（MODEL 503 、TYBER 社製）に膜面
を上にした10cm角の試験片をセットし、膜面に荷重500g
のかかった摩耗輪（CSー10F ）が２箇所で当たるように
なっているもので、300 回回転した後、ヘーズメーター
（日本電色工業製、NDH-20D ）によって測定し、試験前
の測定値と対比し、その変化量（△Ｈ％）をもって表し
た数値である。
【００１９】次に、耐薬品性のうち耐酸試験について
は、常温で１規定の HCl溶液中に前記試験片を約６時間
浸漬した後、膜の劣化状態を見て判断したものであり、
耐アルカリ試験については、常温で１規定のNaOH溶液に
試験片を約６時間浸漬した後、膜の劣化状態を見てJISR
3221により判断したものであり、それぞれ○印はほとん
ど劣化が見られなかったもの、×印は劣化が明らかに目
立ったものである。
は、常温で１規定の HCl溶液中に前記試験片を約６時間
浸漬した後、膜の劣化状態を見て判断したものであり、
耐アルカリ試験については、常温で１規定のNaOH溶液に
試験片を約６時間浸漬した後、膜の劣化状態を見てJISR
3221により判断したものであり、それぞれ○印はほとん
ど劣化が見られなかったもの、×印は劣化が明らかに目
立ったものである。
【００２０】さらに表面抵抗値については、105 Ω／口
以下のものは四探針抵抗測定装置RT-8（NAPSON社製）に
よって、105 Ω／口〜105 ＭΩ／口のものは三菱油化製
表面高抵抗計（HIRESTA HTー210 ）によって測定したも
のである。
以下のものは四探針抵抗測定装置RT-8（NAPSON社製）に
よって、105 Ω／口〜105 ＭΩ／口のものは三菱油化製
表面高抵抗計（HIRESTA HTー210 ）によって測定したも
のである。
【００２１】またさらに、電波反射率については、大型
導波管法によって測定することで得た。表１より明らか
なように、従来の熱線反射ガラスとほぼ同等の断熱性能
を示し、優れた居住性をもって、耐摩耗性、耐食性、耐
候性、耐久性を有し、電波を充分透過するものであっ
て、電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスとして高層
建築物等の窓ガラスに有用なものとなり、ことにガラス
面側からの反射色調がブルー系色調で所期のめざすもの
を得た。
導波管法によって測定することで得た。表１より明らか
なように、従来の熱線反射ガラスとほぼ同等の断熱性能
を示し、優れた居住性をもって、耐摩耗性、耐食性、耐
候性、耐久性を有し、電波を充分透過するものであっ
て、電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスとして高層
建築物等の窓ガラスに有用なものとなり、ことにガラス
面側からの反射色調がブルー系色調で所期のめざすもの
を得た。
【００２２】実施例２ 実施例１と同様の方法で、処理したガラスを使用し、DC
マグネトロンスパッタリング装置内にTaとTiのターゲッ
トをセットし、前記槽内を真空ポンプで約５ｘ10-6Torr
以下までに脱気した後、該真空槽内にN2ガス（但し、Ar
とN2の流量比は１：１から０：１の範囲にあればよ
い。）を導入して、実施例１と同真空度、同N2ガス、同
印加電力にて、DCマグネトロン反応スパッタの中を、前
記Taターゲット上方においてスピード約37mm／min で前
記板ガラスを搬送することによって約80nm厚さの TaNx
薄膜を第１層として成膜した。
マグネトロンスパッタリング装置内にTaとTiのターゲッ
トをセットし、前記槽内を真空ポンプで約５ｘ10-6Torr
以下までに脱気した後、該真空槽内にN2ガス（但し、Ar
とN2の流量比は１：１から０：１の範囲にあればよ
い。）を導入して、実施例１と同真空度、同N2ガス、同
印加電力にて、DCマグネトロン反応スパッタの中を、前
記Taターゲット上方においてスピード約37mm／min で前
記板ガラスを搬送することによって約80nm厚さの TaNx
薄膜を第１層として成膜した。
【００２３】次に前記板ガラスを前記真空槽内に置いた
まま、該真空槽内を約５ｘ10-6Torr以下までに脱気した
後、該真空槽内にO2ガス（但し、ArとO2の流量比は１：
１から０：１の範囲にあればよい。）を導入して真空度
を約２ｘ10-3Torrに保持し、Tiターゲットに約1.9kw の
電力を印加し、前記Tiターゲット上方においてスピード
約37mm／min で前記板ガラスを搬送することによって、
前記板ガラスの TaNx薄膜表面上に約30nm厚さの TiOx
薄膜を第２層として積層成膜した。
まま、該真空槽内を約５ｘ10-6Torr以下までに脱気した
後、該真空槽内にO2ガス（但し、ArとO2の流量比は１：
１から０：１の範囲にあればよい。）を導入して真空度
を約２ｘ10-3Torrに保持し、Tiターゲットに約1.9kw の
電力を印加し、前記Tiターゲット上方においてスピード
約37mm／min で前記板ガラスを搬送することによって、
前記板ガラスの TaNx薄膜表面上に約30nm厚さの TiOx
薄膜を第２層として積層成膜した。
【００２４】表１に示すように、得られた２層膜を有す
る電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスは、その膜構
成において実施例１で示した測定法等によって同様の評
価手段で行い、その結果は実施例１と同様に優れた所期
の光学特性等各物性を示すものであった。
る電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスは、その膜構
成において実施例１で示した測定法等によって同様の評
価手段で行い、その結果は実施例１と同様に優れた所期
の光学特性等各物性を示すものであった。
【００２５】実施例３〜14 前記実施例と同様の方法で、表１に示す２層膜または３
層膜およびその各膜厚を得て、その膜構成において実施
例１で示した測定法等によって同様の評価手段で行い、
その結果を表１に示す。
層膜およびその各膜厚を得て、その膜構成において実施
例１で示した測定法等によって同様の評価手段で行い、
その結果を表１に示す。
【００２６】得られた２〜３層膜を有する電波低反射特
性を有する熱線遮蔽ガラスは、実施例１と同様に優れた
所期の光学特性等各物性を示した。なお、TiSix N y 薄
膜については同DCマグネトロン反応スパッタ装置でTiSi
ターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加電力2.8kw
において、例えば板ガラス搬送スピード約48mm／min で
膜厚約100nm のTiSix N y 薄膜を得た。またZrN X薄膜
についてはDCマグネトロン反応スパッタ装置でZrターゲ
ットを用い、同真空度、前記N2ガス、印加電力3.0kw 、
例えば板ガラス搬送スピード約25mm／min で膜厚約120n
m のZrN X 薄膜を得た。
性を有する熱線遮蔽ガラスは、実施例１と同様に優れた
所期の光学特性等各物性を示した。なお、TiSix N y 薄
膜については同DCマグネトロン反応スパッタ装置でTiSi
ターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加電力2.8kw
において、例えば板ガラス搬送スピード約48mm／min で
膜厚約100nm のTiSix N y 薄膜を得た。またZrN X薄膜
についてはDCマグネトロン反応スパッタ装置でZrターゲ
ットを用い、同真空度、前記N2ガス、印加電力3.0kw 、
例えば板ガラス搬送スピード約25mm／min で膜厚約120n
m のZrN X 薄膜を得た。
【００２７】また、TiSix O y 薄膜については同装置で
TiSiターゲットを用い、同真空度、O2ガス、印加電力1.
8kw において、例えば板ガラス搬送スピード約55mm／mi
n で膜厚約25nmのTiSix O y 薄膜を得た。またTaO x 薄
膜については同装置でTaターゲットを用い、同真空度、
O2ガス、印加電力約2.0kw において、例えば板ガラス搬
送スピード約227mm ／min で膜厚10nmのTaO x 薄膜を得
た。
TiSiターゲットを用い、同真空度、O2ガス、印加電力1.
8kw において、例えば板ガラス搬送スピード約55mm／mi
n で膜厚約25nmのTiSix O y 薄膜を得た。またTaO x 薄
膜については同装置でTaターゲットを用い、同真空度、
O2ガス、印加電力約2.0kw において、例えば板ガラス搬
送スピード約227mm ／min で膜厚10nmのTaO x 薄膜を得
た。
【００２８】さらに、ZrO x 薄膜については同装置でZr
ターゲットを用い、同真空度、O2ガス、印加電力約1.9k
w において、例えば板ガラス搬送スピード約55mm／min
で膜厚40nmのZrO x 薄膜を得た。またSnO x 薄膜につい
ては同装置でSnターゲットを用い、同真空度、O2ガス、
印加電力約0.8kw において、例えば板ガラス搬送スピー
ド約76mm／min で膜厚30nmのSnO x 薄膜を得た。
ターゲットを用い、同真空度、O2ガス、印加電力約1.9k
w において、例えば板ガラス搬送スピード約55mm／min
で膜厚40nmのZrO x 薄膜を得た。またSnO x 薄膜につい
ては同装置でSnターゲットを用い、同真空度、O2ガス、
印加電力約0.8kw において、例えば板ガラス搬送スピー
ド約76mm／min で膜厚30nmのSnO x 薄膜を得た。
【００２９】さらにまた、下地層であるCrN x 薄膜につ
いては同装置でCrターゲットを用い、同真空度、前記N2
ガス、印加電力1.2kw において、例えば板ガラス搬送ス
ピード約219mm ／min で膜厚約20nmのCrN x 薄膜を得
た。
いては同装置でCrターゲットを用い、同真空度、前記N2
ガス、印加電力1.2kw において、例えば板ガラス搬送ス
ピード約219mm ／min で膜厚約20nmのCrN x 薄膜を得
た。
【００３０】
【表１】
【００３１】比較例１〜５ 実施例１と同様に処理したガラスを用い、同装置にSUS
ターゲットを２本セットし、真空槽内を約５ｘ10-6Torr
以下に脱気した後、該真空槽内にO2ガスを導入し、真空
度を約２ｘ10-3Torrに保持し、前記SUS のターゲットに
約1.5kw の電力を印加し、板ガラス搬送スピード約300m
m ／min で膜厚約10nmのSUSOX 薄膜を第１層として成膜
した。次いでもう一方のSUS ターゲットを使用し、Arガ
ス圧約２ｘ10-3Torrで印加電力約1.0kw において、板ガ
ラス搬送スピード約500mm ／minで膜厚約６nmのSUS 薄
膜を得た。さらに第１層と同様にして板ガラス搬送スピ
ード約100mm ／min で膜厚約30nmのSUSOX 薄膜を第３層
として成膜積層した。
ターゲットを２本セットし、真空槽内を約５ｘ10-6Torr
以下に脱気した後、該真空槽内にO2ガスを導入し、真空
度を約２ｘ10-3Torrに保持し、前記SUS のターゲットに
約1.5kw の電力を印加し、板ガラス搬送スピード約300m
m ／min で膜厚約10nmのSUSOX 薄膜を第１層として成膜
した。次いでもう一方のSUS ターゲットを使用し、Arガ
ス圧約２ｘ10-3Torrで印加電力約1.0kw において、板ガ
ラス搬送スピード約500mm ／minで膜厚約６nmのSUS 薄
膜を得た。さらに第１層と同様にして板ガラス搬送スピ
ード約100mm ／min で膜厚約30nmのSUSOX 薄膜を第３層
として成膜積層した。
【００３２】また、SnO X 薄膜については、前記実施例
と同様の方法で板ガラス搬送スピードを所望の膜厚とな
るよう調整して得た。またTiN X 薄膜については、同装
置でTiターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加電力
約1.5kw において、例えば板ガラス搬送スピード約100m
m ／min で膜厚約30nmのTiN X 薄膜を得た。
と同様の方法で板ガラス搬送スピードを所望の膜厚とな
るよう調整して得た。またTiN X 薄膜については、同装
置でTiターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加電力
約1.5kw において、例えば板ガラス搬送スピード約100m
m ／min で膜厚約30nmのTiN X 薄膜を得た。
【００３３】このような方法によって、表２に示すよう
な１〜３層の積層膜を得、その膜構成において、実施例
１と同様の測定法、同様の評価手段で行い、その結果を
表２にそれぞれ示す。
な１〜３層の積層膜を得、その膜構成において、実施例
１と同様の測定法、同様の評価手段で行い、その結果を
表２にそれぞれ示す。
【００３４】それぞれ、各実施例に比して、従来の熱線
反射ガラスであるこれらにおいては、例えば表面抵抗値
が低く、450 Ω／口以下であって、電波反射率も９％以
上となり、従来のフロートガラスの電波反射率より悪
く、建築物の周辺に電波障害を発現し易いものまたはす
るものである。
反射ガラスであるこれらにおいては、例えば表面抵抗値
が低く、450 Ω／口以下であって、電波反射率も９％以
上となり、従来のフロートガラスの電波反射率より悪
く、建築物の周辺に電波障害を発現し易いものまたはす
るものである。
【００３５】
【表２】
【００３６】
【発明の効果】以上前述したように、本発明はスパッタ
法で、特定膜厚の高表面抵抗値を有するTaまたはTiSiあ
るいはZrの窒化物または窒素酸化物薄膜と、該薄膜のみ
もしくは特定膜厚のTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜
を特異に適宜巧みに組み合わせることで、また必要に応
じてガラス基板と第１層との間に下地層としてCr窒化物
薄膜または窒素酸化物薄膜をアンダーコートすることで
構成せしめたことにより、断熱ガラスであって、耐摩耗
性、耐食性ならびに耐久性に優れ、適宜膜面の反射色調
をニュートラル化することができ、電波透過のよく、通
常のフロートガラス並の電波低反射率であり、高層建築
物周辺に対し電波障害を発現するようなこともなく、ガ
ラス面側からの反射色調がブルー系色調を呈する居住性
のよい、単板ガラスはもちろん合せガラスあるいは複層
ガラス等として使用し得る、有用な電波低反射特性を有
する熱線遮蔽ガラスを効率よく提供するものである。
法で、特定膜厚の高表面抵抗値を有するTaまたはTiSiあ
るいはZrの窒化物または窒素酸化物薄膜と、該薄膜のみ
もしくは特定膜厚のTi、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜
を特異に適宜巧みに組み合わせることで、また必要に応
じてガラス基板と第１層との間に下地層としてCr窒化物
薄膜または窒素酸化物薄膜をアンダーコートすることで
構成せしめたことにより、断熱ガラスであって、耐摩耗
性、耐食性ならびに耐久性に優れ、適宜膜面の反射色調
をニュートラル化することができ、電波透過のよく、通
常のフロートガラス並の電波低反射率であり、高層建築
物周辺に対し電波障害を発現するようなこともなく、ガ
ラス面側からの反射色調がブルー系色調を呈する居住性
のよい、単板ガラスはもちろん合せガラスあるいは複層
ガラス等として使用し得る、有用な電波低反射特性を有
する熱線遮蔽ガラスを効率よく提供するものである。
Claims (3)
- 【請求項１】透明なガラス基板の一方の表面上に、膜厚
が76〜150nm のTaまたはTiSiあるいはZrの窒化物薄膜ま
たは窒素酸化物薄膜を少なくとも１種以上選択し第１層
として被膜した後、該第１層の上に、膜厚が０〜50nmの
Ti、Ta、TiSi、Zr、Snの酸化物薄膜を第２層として被膜
したことを特徴とする電波低反射特性を有する熱線遮蔽
ガラス。 - 【請求項２】前記第１層の下地層として、前記ガラス基
板表面と前記第１層薄膜の間に、膜厚が１〜25nmのCrの
窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜をアンダーコート被膜
したことを特徴とする請求項１記載の電波低反射特性を
有する熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項３】前記電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラ
スにおいて、前記被膜した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗値
が10ｋΩ／口以上で、かつ該ガラスのガラス面側からの
反射色調がブルー系色調を呈することを特徴とする請求
項１あるいは２記載の電波低反射特性を有する熱線遮蔽
ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9277792A JPH05294674A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9277792A JPH05294674A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05294674A true JPH05294674A (ja) | 1993-11-09 |
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ID=14063856
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|---|---|---|---|
| JP9277792A Pending JPH05294674A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05294674A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0738694A1 (en) * | 1995-04-18 | 1996-10-23 | SOCIETA' ITALIANA VETRO - SIV - S.p.A. | Process for the improvement of the abrasion resistance features and the chemical inertia of transparent thin coatings |
| WO2004046058A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-06-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with zirconium or zirconium nitride layer and methods of making same |
| FR2889182A1 (fr) * | 2005-07-29 | 2007-02-02 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire |
| CN114369795A (zh) * | 2022-01-17 | 2022-04-19 | 中山市气相科技有限公司 | 一种具有多层复合结构的TaTiN多层薄膜的制备方法及其薄膜的应用 |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP9277792A patent/JPH05294674A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0738694A1 (en) * | 1995-04-18 | 1996-10-23 | SOCIETA' ITALIANA VETRO - SIV - S.p.A. | Process for the improvement of the abrasion resistance features and the chemical inertia of transparent thin coatings |
| US5800684A (en) * | 1995-04-18 | 1998-09-01 | Societa Italiana Vetro - Siv - S.P.A. | Process for the improvement of the abrasion resistance features and of the chemical inertia of transparent thin coatings |
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| US6881487B2 (en) | 2002-11-15 | 2005-04-19 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with zirconium or zirconium nitride layer and methods of making same |
| FR2889182A1 (fr) * | 2005-07-29 | 2007-02-02 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire |
| WO2007028913A1 (fr) * | 2005-07-29 | 2007-03-15 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire |
| JP2009502566A (ja) * | 2005-07-29 | 2009-01-29 | サン−ゴバン グラス フランス | 太陽放射に作用する薄膜積層を備えたグレージング |
| US7935423B2 (en) | 2005-07-29 | 2011-05-03 | Saint-Gobain Glass France | Glazing provided with a stack of thin films acting on the sunlight |
| CN114369795A (zh) * | 2022-01-17 | 2022-04-19 | 中山市气相科技有限公司 | 一种具有多层复合结构的TaTiN多层薄膜的制备方法及其薄膜的应用 |
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