JPH0430132B2 - - Google Patents
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- JPH0430132B2 JPH0430132B2 JP57176307A JP17630782A JPH0430132B2 JP H0430132 B2 JPH0430132 B2 JP H0430132B2 JP 57176307 A JP57176307 A JP 57176307A JP 17630782 A JP17630782 A JP 17630782A JP H0430132 B2 JPH0430132 B2 JP H0430132B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- shadow mask
- etching
- forming
- resistive layer
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラーブラウン管に使用されるシヤド
ウマスクの製造方法に関するものである。
ウマスクの製造方法に関するものである。
カラーブラウン管に使用されるシヤドウマスク
は主として写真製版法によつて製造される。その
写真製版法を大別すると、シヤドウマスク素材の
両主面に感光液を塗布する感光液塗布工程、この
感光液を成膜化して感光膜とする乾燥工程、この
感光膜上に大孔用ネガパターン、小孔用ネガパタ
ーンを有するネガ原板を密着して露光する露光工
程、未露光部を除去する現像工程、残存した感光
部の耐エツチング性及びシヤドウマスク素材との
密着性を向上させ、エツチング液による分解剥離
を防止するためのベーキング工程及びエツチング
工程などから構成されている。
は主として写真製版法によつて製造される。その
写真製版法を大別すると、シヤドウマスク素材の
両主面に感光液を塗布する感光液塗布工程、この
感光液を成膜化して感光膜とする乾燥工程、この
感光膜上に大孔用ネガパターン、小孔用ネガパタ
ーンを有するネガ原板を密着して露光する露光工
程、未露光部を除去する現像工程、残存した感光
部の耐エツチング性及びシヤドウマスク素材との
密着性を向上させ、エツチング液による分解剥離
を防止するためのベーキング工程及びエツチング
工程などから構成されている。
一方、カラーブラウン管は一般用、モニターや
デイスプレイ用など、その用途が多岐にわたつて
おり、このうち一般用は別として、モニターやデ
イスプレイ用のカラーブラウン管は極めて微細な
画質が要求されるため、これらに使用されるシヤ
ドウマスクの電子ビーム通過孔部は高精度かつ微
細なものが要求されている。
デイスプレイ用など、その用途が多岐にわたつて
おり、このうち一般用は別として、モニターやデ
イスプレイ用のカラーブラウン管は極めて微細な
画質が要求されるため、これらに使用されるシヤ
ドウマスクの電子ビーム通過孔部は高精度かつ微
細なものが要求されている。
次に本発明のシヤドウマスクの製造方法に最も
近い従来例である特公昭57−26345号公報による
シヤドウマスクの製造方法を第１図乃至第５図に
より説明すると、先ず、第１図のようにシヤドウ
マスク素材１の両主面に感光液を塗布乾燥して感
光膜２を形成したのち、大孔用ネガパターン、小
孔用ネガパターンを有するネガ原版を密接して、
露光したのち現像し、直径d1の小孔形成部と、直
径d2の大孔形成部の感光膜２を除去し、次に第２
図のように両面にエツチング液をスプレイ方法に
より吹きつけ、小孔部３の開口部径がD1になる
まで第１のエツチングを行なう。この場合、大孔
形成部からも所定深さの大孔部４がエツチングさ
れる。次に第３図のように小孔部３内も含めて感
光膜２上にエツチング液の抵抗層６を被着形成す
る。その後、第４図に示すように、主として大孔
部４側よりエツチング液をスプレイ方法により吹
きつけ、小孔部３内に被着形成されたエツチング
液の抵抗層５に達し、かつ小孔部３の開口部径
D1を乱すことがないように大孔部４の開孔部径
がD2になるまで第２のエツチングを行ない、水
洗、乾燥後、エツチング液の抵抗層６及び感光膜
２を除去し、シヤドウマスク素材１の板厚の40％
程度の孔径を有する第５図に示すシヤドウマスク
（実際にはフラツトマスク）を得る。
近い従来例である特公昭57−26345号公報による
シヤドウマスクの製造方法を第１図乃至第５図に
より説明すると、先ず、第１図のようにシヤドウ
マスク素材１の両主面に感光液を塗布乾燥して感
光膜２を形成したのち、大孔用ネガパターン、小
孔用ネガパターンを有するネガ原版を密接して、
露光したのち現像し、直径d1の小孔形成部と、直
径d2の大孔形成部の感光膜２を除去し、次に第２
図のように両面にエツチング液をスプレイ方法に
より吹きつけ、小孔部３の開口部径がD1になる
まで第１のエツチングを行なう。この場合、大孔
形成部からも所定深さの大孔部４がエツチングさ
れる。次に第３図のように小孔部３内も含めて感
光膜２上にエツチング液の抵抗層６を被着形成す
る。その後、第４図に示すように、主として大孔
部４側よりエツチング液をスプレイ方法により吹
きつけ、小孔部３内に被着形成されたエツチング
液の抵抗層５に達し、かつ小孔部３の開口部径
D1を乱すことがないように大孔部４の開孔部径
がD2になるまで第２のエツチングを行ない、水
洗、乾燥後、エツチング液の抵抗層６及び感光膜
２を除去し、シヤドウマスク素材１の板厚の40％
程度の孔径を有する第５図に示すシヤドウマスク
（実際にはフラツトマスク）を得る。
前記シヤドウマスクの製造方法では、第１のエ
ツチングのおいてシヤドウマスク素材１の両主面
より目的とする深さまでエツチングし、その後、
水洗、乾燥し、次いで小孔部３内も含めて感光膜
２上にエツチング液の抵抗層６を形成している。
ツチングのおいてシヤドウマスク素材１の両主面
より目的とする深さまでエツチングし、その後、
水洗、乾燥し、次いで小孔部３内も含めて感光膜
２上にエツチング液の抵抗層６を形成している。
しかし、一般の写真製版法では、孔形成部以外
は耐エツチング性を有する感光膜２が形成され、
この感光膜２が通常の露光、現像、乾燥、ベーキ
ング後、エツチング液または水に浸漬されたり、
スプレイされ、その後乾燥して第２のエツチング
を行なつた場合、この感光膜２の耐エツチング液
特性が低下する。つまり、第２のエツチングを行
なつたとき、感光膜２とシヤドウマスク素材１と
の付着力が低下することにより矢印７方向のサイ
ドエツチング量が大きくなることと、感光膜２の
浮きまたは剥離が発生し、孔寸法のばらつきや孔
欠陥を起し易いという問題がある。更のエツチン
グ液または水に浸漬、さらにスプレイを行なつた
のちの乾燥時に感光膜２の収縮が起き、サイドエ
ツチングにより生じた感光膜２のひさし部８の形
状が歪み、結果として孔寸法及び孔形状の不均一
を起し易いという問題もある。
は耐エツチング性を有する感光膜２が形成され、
この感光膜２が通常の露光、現像、乾燥、ベーキ
ング後、エツチング液または水に浸漬されたり、
スプレイされ、その後乾燥して第２のエツチング
を行なつた場合、この感光膜２の耐エツチング液
特性が低下する。つまり、第２のエツチングを行
なつたとき、感光膜２とシヤドウマスク素材１と
の付着力が低下することにより矢印７方向のサイ
ドエツチング量が大きくなることと、感光膜２の
浮きまたは剥離が発生し、孔寸法のばらつきや孔
欠陥を起し易いという問題がある。更のエツチン
グ液または水に浸漬、さらにスプレイを行なつた
のちの乾燥時に感光膜２の収縮が起き、サイドエ
ツチングにより生じた感光膜２のひさし部８の形
状が歪み、結果として孔寸法及び孔形状の不均一
を起し易いという問題もある。
本発明は前述した問題点に鑑みなされたもので
あり、シヤドウマスク素材の全面に均一な微細な
電子ビーム通過孔部を形成することが可能なシヤ
ドウマスクの製造方法を提供することを目的とし
ている。
あり、シヤドウマスク素材の全面に均一な微細な
電子ビーム通過孔部を形成することが可能なシヤ
ドウマスクの製造方法を提供することを目的とし
ている。
即ち、本発明はシヤドウマスク素材の両主面に
それぞれ大孔及び小孔形成部を除いた部分に感光
膜を形成する工程と、大孔及び小孔形成部の形成
されたいずれか一方の主面からのみエツチング液
により所望深さの第１の孔部を形成する第１のエ
ツチング工程と、水洗、第１の乾燥を行なつたの
ち第１の孔部内にエツチング液の抵抗層を充実状
態に形成する抵抗層形成工程と、抵抗層を乾燥す
る第２の乾燥を行なつたのち第１の孔部の形成さ
れたシヤドウマスク素材の反対面からエツチング
液により第１の孔部内に形成された抵抗層を露出
させ所望径の電子ビーム通過孔部を形成し得るま
で第２の孔部を形成する第２のエツチング工程
と、エツチング液の抵抗層及び感光膜を除去する
工程とからなり、第１のエツチング工程と抵抗層
形成工程において第１の孔部を形成するシヤドウ
マスク素材の反対面にエツチング液やエツチング
液の抵抗層を形成するときの抵抗剤が回り込まな
いようにシヤドウマスク素材の幅方向の端部を覆
う遮蔽体からなる液密手段を設けてなることを特
徴としている。
それぞれ大孔及び小孔形成部を除いた部分に感光
膜を形成する工程と、大孔及び小孔形成部の形成
されたいずれか一方の主面からのみエツチング液
により所望深さの第１の孔部を形成する第１のエ
ツチング工程と、水洗、第１の乾燥を行なつたの
ち第１の孔部内にエツチング液の抵抗層を充実状
態に形成する抵抗層形成工程と、抵抗層を乾燥す
る第２の乾燥を行なつたのち第１の孔部の形成さ
れたシヤドウマスク素材の反対面からエツチング
液により第１の孔部内に形成された抵抗層を露出
させ所望径の電子ビーム通過孔部を形成し得るま
で第２の孔部を形成する第２のエツチング工程
と、エツチング液の抵抗層及び感光膜を除去する
工程とからなり、第１のエツチング工程と抵抗層
形成工程において第１の孔部を形成するシヤドウ
マスク素材の反対面にエツチング液やエツチング
液の抵抗層を形成するときの抵抗剤が回り込まな
いようにシヤドウマスク素材の幅方向の端部を覆
う遮蔽体からなる液密手段を設けてなることを特
徴としている。
次に本発明のシヤドウマスクの製造方法を第６
図乃至第１２図により説明する。
図乃至第１２図により説明する。
まず平滑な鉄などの金属板からなるシヤドウマ
スク素材１１の両主面に牛乳カゼインまたはポリ
ビニルアルコールと重クロム酸アンモニウム、重
クロム酸ナトリウム、ジアゾまたはアジド化合物
の少くとも一種とからなる感光液を塗布乾燥し、
感光膜１２を形成したのち、目的とする電子ビー
ム通過孔部を得るために両主面に所定のネガ像を
有するネガ原版を密着し、紫外線などの光源を使
用してネガ像を感光膜１２に焼付ける。次いで温
水などにより未露光未硬化部の感光膜を溶解除去
し、シヤドウマスク素材１１の両主面に直径d3の
小孔形成部及び直径d4の大孔形成部にあたるシヤ
ドウマスク素材１１の金属面を露出させる。即
ち、シヤドウマスク素材１１の両主面に感光膜１
２を小孔形成部及び大孔形成部を除いた部分に形
成する。次にこの感光膜１２の耐エツチング性及
びシヤドウマスク素材１１との密着性を向上させ
てエツチング液による分解、剥離を防止するた
め、ベーキングと呼ばれる高温熱処理を施し、シ
ヤドウマスク部材１０とする（第６図）。
スク素材１１の両主面に牛乳カゼインまたはポリ
ビニルアルコールと重クロム酸アンモニウム、重
クロム酸ナトリウム、ジアゾまたはアジド化合物
の少くとも一種とからなる感光液を塗布乾燥し、
感光膜１２を形成したのち、目的とする電子ビー
ム通過孔部を得るために両主面に所定のネガ像を
有するネガ原版を密着し、紫外線などの光源を使
用してネガ像を感光膜１２に焼付ける。次いで温
水などにより未露光未硬化部の感光膜を溶解除去
し、シヤドウマスク素材１１の両主面に直径d3の
小孔形成部及び直径d4の大孔形成部にあたるシヤ
ドウマスク素材１１の金属面を露出させる。即
ち、シヤドウマスク素材１１の両主面に感光膜１
２を小孔形成部及び大孔形成部を除いた部分に形
成する。次にこの感光膜１２の耐エツチング性及
びシヤドウマスク素材１１との密着性を向上させ
てエツチング液による分解、剥離を防止するた
め、ベーキングと呼ばれる高温熱処理を施し、シ
ヤドウマスク部材１０とする（第６図）。
次に、このシヤドウマスク部材１０を第１１図
に示すエツチング装置の第１のエツチング槽２１
に送り込む。このエツチング装置の第１のエツチ
ング槽２１、続く水洗槽２２、次の乾燥槽２３に
続く抵抗層形成槽２４にはそれぞれ第１２図に示
すようにシヤドウマスク部材１０の幅方向の端部
即ち走行部に当たる側面部にほぼ断面Ｌ字形のエ
ツチングなどの遮蔽体３２が設けられており、第
１のエツチング槽２１に送り込まれたシヤドウマ
スク部材１０はその第１のエツチング槽２１の遮
蔽体３２により大孔形成部側にエツチング液が回
り込まないように液密に遮蔽される。この状態で
第７図に示すように所定径D3、所定深さの小孔
部１３が形成されるまでエツチングを行なう。
に示すエツチング装置の第１のエツチング槽２１
に送り込む。このエツチング装置の第１のエツチ
ング槽２１、続く水洗槽２２、次の乾燥槽２３に
続く抵抗層形成槽２４にはそれぞれ第１２図に示
すようにシヤドウマスク部材１０の幅方向の端部
即ち走行部に当たる側面部にほぼ断面Ｌ字形のエ
ツチングなどの遮蔽体３２が設けられており、第
１のエツチング槽２１に送り込まれたシヤドウマ
スク部材１０はその第１のエツチング槽２１の遮
蔽体３２により大孔形成部側にエツチング液が回
り込まないように液密に遮蔽される。この状態で
第７図に示すように所定径D3、所定深さの小孔
部１３が形成されるまでエツチングを行なう。
次に水洗槽２２、第１の乾燥槽２３を通過させ
たのち、抵抗層形成槽２４内でノズル２４ａから
小孔部１３を含む感光膜１２にパラフイン、コー
ルタール、ラツカーなどのエツチング液の抵抗剤
をスプレイし、第８図に示すように小孔部１３内
に充実状態に抵抗層１６を形成する。
たのち、抵抗層形成槽２４内でノズル２４ａから
小孔部１３を含む感光膜１２にパラフイン、コー
ルタール、ラツカーなどのエツチング液の抵抗剤
をスプレイし、第８図に示すように小孔部１３内
に充実状態に抵抗層１６を形成する。
次に第２の乾燥槽２５により抵抗層を乾燥させ
る。その後、第２のエツチング槽２６において、
ノズル２６ａからエツチング液を吹き付け、第９
図に示すように直径D4を有し、抵抗層１６を露
出して所望径の電子ビーム通過孔部を形成し得る
大孔部１４が形成されるまでエツチングを行な
う。最後に抵抗層１６、感光膜１２を除去し、第
１０図のようなフラツトマスク１１1を形成する。
る。その後、第２のエツチング槽２６において、
ノズル２６ａからエツチング液を吹き付け、第９
図に示すように直径D4を有し、抵抗層１６を露
出して所望径の電子ビーム通過孔部を形成し得る
大孔部１４が形成されるまでエツチングを行な
う。最後に抵抗層１６、感光膜１２を除去し、第
１０図のようなフラツトマスク１１1を形成する。
本実施例のシヤドウマスクの製造方法によれ
ば、シヤドウマスク素材１１の板厚の半分以下の
寸法を有する電子ビーム通過孔部も容易に形成で
きる。また感光膜１２のシヤドウマスク素材１１
への付着が強固となり、かつ歪がないため、孔寸
法や孔形状のばらつきのないシヤドウマスクを得
ることができる。
ば、シヤドウマスク素材１１の板厚の半分以下の
寸法を有する電子ビーム通過孔部も容易に形成で
きる。また感光膜１２のシヤドウマスク素材１１
への付着が強固となり、かつ歪がないため、孔寸
法や孔形状のばらつきのないシヤドウマスクを得
ることができる。
なお遮蔽体３２1としては、第１３図に示すよ
うに断面Ｕ字状にして更に液密効果を上げた遮蔽
体３２2や、第１４図に示すように内部にローラ
３３を内装し、液密効果を上げると共にシヤドウ
マスク部材１０の送りを良好にしたものなどが用
いられる。
うに断面Ｕ字状にして更に液密効果を上げた遮蔽
体３２2や、第１４図に示すように内部にローラ
３３を内装し、液密効果を上げると共にシヤドウ
マスク部材１０の送りを良好にしたものなどが用
いられる。
なお前記実施例では小孔部側に抵抗層を形成し
たが、これは先に大孔部を形成し、大孔部側に抵
抗層を形成してもよいことは勿論である。
たが、これは先に大孔部を形成し、大孔部側に抵
抗層を形成してもよいことは勿論である。
上述のように本発明のシヤドウマスクの製造方
法によれば、感光膜の歪やシヤドウマスク素材か
らの剥離が皆無となり、極めて品位の良好な微細
な電子ビーム通過孔部を形成することが可能であ
り、その工業的価値は極めて大である。
法によれば、感光膜の歪やシヤドウマスク素材か
らの剥離が皆無となり、極めて品位の良好な微細
な電子ビーム通過孔部を形成することが可能であ
り、その工業的価値は極めて大である。
第１図乃至第５図は従来のシヤドウマスクの製
造方法を工程順に示す説明用断面図、第６図乃至
第１２図は本発明のシヤドウマスクの製造方法を
示す図であり、第６図乃至第１０図は製造方法を
工程順に示す説明用断面図、第１１図はエツチン
グ装置の線図、第１２は遮蔽体の説明用斜視図、
第１３図及び第１４図は遮蔽体のそれぞれ異なる
例を示す説明用斜視図である。 １，１１……シヤドウマスク素材、２，１２…
…感光膜、３，１３……小孔、４，１４……大
孔、６，１６……抵抗層、１０……シヤドウマス
ク部材、２１……第１のエツチング槽、２２……
水洗槽、２３……第１の乾燥槽、２４……抵抗層
形成槽、２５……第２の乾燥槽、２６……第２の
エツチング槽、３２1，３２2，３２3……遮蔽体。
造方法を工程順に示す説明用断面図、第６図乃至
第１２図は本発明のシヤドウマスクの製造方法を
示す図であり、第６図乃至第１０図は製造方法を
工程順に示す説明用断面図、第１１図はエツチン
グ装置の線図、第１２は遮蔽体の説明用斜視図、
第１３図及び第１４図は遮蔽体のそれぞれ異なる
例を示す説明用斜視図である。 １，１１……シヤドウマスク素材、２，１２…
…感光膜、３，１３……小孔、４，１４……大
孔、６，１６……抵抗層、１０……シヤドウマス
ク部材、２１……第１のエツチング槽、２２……
水洗槽、２３……第１の乾燥槽、２４……抵抗層
形成槽、２５……第２の乾燥槽、２６……第２の
エツチング槽、３２1，３２2，３２3……遮蔽体。
Claims (1)
- １ シヤドウマスク素材の両主面にそれぞれ大孔
及び小孔形成部を除いた部分に感光膜を形成する
工程と、前記大孔及び小孔形成部の形成されたい
ずれか一方の主面からのみエツチング液により所
望深さの第１の孔部を形成する第１のエツチング
工程と、水洗、第１の乾燥を行なつたのち前記第
１の孔部内に前記エツチング液の抵抗層を充実状
態に形成する抵抗層形成工程と、前記抵抗層を乾
燥する第２の乾燥を行なつたのち前記第１の孔部
の形成された前記シヤドウマスク素材の反対面か
らエツチング液により前記第１の孔部内に形成さ
れた前記抵抗層を露出させ所望径の電子ビーム通
過孔部を形成し得るまで第２の孔部を形成する第
２のエツチング工程と、前記エツチング液の抵抗
層及び前記感光膜を除去する工程とからなり、前
記第１のエツチング工程と前記抵抗層形成工程に
おいて前記第１の孔部を形成する前記シヤドウマ
スク素材の反対面にエツチング液や前記エツチン
グ液の抵抗層を形成するときの抵抗剤が回り込ま
ないように前記シヤドウマスク素材の幅方向の端
部を覆う遮蔽体からなる液密手段を設けてなるこ
とを特徴とするシヤドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17630782A JPS5968147A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17630782A JPS5968147A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5968147A JPS5968147A (ja) | 1984-04-18 |
| JPH0430132B2 true JPH0430132B2 (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=16011292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17630782A Granted JPS5968147A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5968147A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6160889A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-28 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423556B2 (ja) * | 1972-11-30 | 1979-08-14 | ||
| JPS5726346A (en) * | 1980-07-22 | 1982-02-12 | Kubota Ltd | Hot water feeder |
| JPS57141645A (en) * | 1981-02-25 | 1982-09-02 | Canon Inc | Manufacture of image retaining member |
-
1982
- 1982-10-08 JP JP17630782A patent/JPS5968147A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5968147A (ja) | 1984-04-18 |
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