JPS5990340A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5990340A JPS5990340A JP19886682A JP19886682A JPS5990340A JP S5990340 A JPS5990340 A JP S5990340A JP 19886682 A JP19886682 A JP 19886682A JP 19886682 A JP19886682 A JP 19886682A JP S5990340 A JPS5990340 A JP S5990340A
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- Japan
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- shadow mask
- hole
- hole forming
- small
- large hole
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラーブラウン管に使用されるシャドウマスク
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
カラーブラウン管に使用されるシャドウマスクは主とし
て写真製版法によって多く製造されている。そしてこの
写真製版法は大別するとシャドウマスク素材の両主面に
感光液を塗布する感光液塗布工程、この感光液を成膜化
して感光膜とする乾燥工程、露光工程、現隊工程、バー
ニング工程、及びエツチング工程などから構成されてい
る。
て写真製版法によって多く製造されている。そしてこの
写真製版法は大別するとシャドウマスク素材の両主面に
感光液を塗布する感光液塗布工程、この感光液を成膜化
して感光膜とする乾燥工程、露光工程、現隊工程、バー
ニング工程、及びエツチング工程などから構成されてい
る。
一方、カラー受像管は一般用、モニターやディスプレイ
用などその用途が多岐にわたっており、このうち一般家
庭用は別としてモニターやディスプレイ用のカラーブラ
ウン管は極めて微細な画質が要求されているため、これ
らに使用するシャドウマスクの電子ビーム通孔部は高精
度で且つ微細なものが要求されている。
用などその用途が多岐にわたっており、このうち一般家
庭用は別としてモニターやディスプレイ用のカラーブラ
ウン管は極めて微細な画質が要求されているため、これ
らに使用するシャドウマスクの電子ビーム通孔部は高精
度で且つ微細なものが要求されている。
次に本発明のシャドウマスクの製造方法に最も近い従来
例である特開昭５１−９０３４号公報により るシャドウマスクの製造方法を第１図乃至第２図により
説明すると、先ず第１図のように厚さくＴ１）のシャド
ウマスク素材（１）の両主面に感光膜（２１（３）を形
成し、次に大孔用ネガパターン、小孔用ネガパターンを
有するネガ原板を密接させたのち、露光、現像し、直径
（ｄ、）の小孔形成部と、直径（ｄ２）の大孔形成部の
感光膜＋２１ （３１を除去し次に第２図のように両面
からエツチング液を矢印方向にスプレィ方法により吹き
つけ、小孔部（４）の開口部径（Ｄ、）になる迄エツチ
ングする。勿論この場合には大孔形成部からも所定深さ
の孔部（５，）がエツチングされる。次に第３図のよう
に小孔部（４）内も含めて感光膜（２）上に腐蝕液の抵
抗層（６）を被着形成したのち、第４図に示すように孔
部（５，）側よりエツチング液を矢印方向にスプレィ方
法により吹きつけ、小孔部（４）に被着形成されたエツ
チング液の抵抗層（６）に達し、かつ小孔部（４）の開
口部径（ＤＩ ）を乱すことがないように孔部（５１）
を拡大し、大孔部１５）の開口部径（Ｄ、）になる迄エ
ツチングし、水洗・乾燥後エツチング液の抵抗層（６）
及び感光膜＋２１ ＋３１を除去し、第５図に示すよう
に所定の電子ビーム通孔部（７）の穿設されたフラット
マスク（１１）が完成する。
例である特開昭５１−９０３４号公報により るシャドウマスクの製造方法を第１図乃至第２図により
説明すると、先ず第１図のように厚さくＴ１）のシャド
ウマスク素材（１）の両主面に感光膜（２１（３）を形
成し、次に大孔用ネガパターン、小孔用ネガパターンを
有するネガ原板を密接させたのち、露光、現像し、直径
（ｄ、）の小孔形成部と、直径（ｄ２）の大孔形成部の
感光膜＋２１ （３１を除去し次に第２図のように両面
からエツチング液を矢印方向にスプレィ方法により吹き
つけ、小孔部（４）の開口部径（Ｄ、）になる迄エツチ
ングする。勿論この場合には大孔形成部からも所定深さ
の孔部（５，）がエツチングされる。次に第３図のよう
に小孔部（４）内も含めて感光膜（２）上に腐蝕液の抵
抗層（６）を被着形成したのち、第４図に示すように孔
部（５，）側よりエツチング液を矢印方向にスプレィ方
法により吹きつけ、小孔部（４）に被着形成されたエツ
チング液の抵抗層（６）に達し、かつ小孔部（４）の開
口部径（ＤＩ ）を乱すことがないように孔部（５１）
を拡大し、大孔部１５）の開口部径（Ｄ、）になる迄エ
ツチングし、水洗・乾燥後エツチング液の抵抗層（６）
及び感光膜＋２１ ＋３１を除去し、第５図に示すよう
に所定の電子ビーム通孔部（７）の穿設されたフラット
マスク（１１）が完成する。
このようなシャドウマスクの製造方法によると、亀子ビ
ーム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（４）の開
口部径（ｎｔ ）も例えは１４０±５μｍのばらつきし
かなく、また小孔部（４）の深さく重、）も安定し、更
に小孔部（４）のサイドエツチング量も約２０〜３０μ
ｍと少なく５良好な電子ビーム通孔部を形成することが
可能であるが、この製造方法によると第２図に示す小孔
部（４）と孔部（５，）をエツチング液で穿設したのち
、水洗、乾燥後抵抗層＋６１を形成しており、この抵抗
層（６）の抵抗材料としてはアスファルト、パラフィン
、重合プラスチックなどが使用されているが、これら抵
抗材料をスプレィ法や浸漬法で少くとも小孔部（４）に
塗布しても、この小孔部（４）に均質に充填することは
出来ない。その最大の理由は小孔部（４１及び孔部（５
，）を穿設する場合サイドエツチングにより形成された
感光膜（２）の６ひさし部”（２Ｉ）が抵抗材料の小孔
部（４）への流れ込みに対して防壁の役割をし、特に、
”ひさし部”（２１）近傍では気泡ができやすく、小孔
部（４）を抵抗材料で完全に埋めるのを困難にしている
。この結果、抵抗層（６）を有する反対の主面から大孔
部（５）を穿設する場合、大孔部＋５）が抵抗層（６）
に達した際に抵抗層（６）が完全に埋まっていない箇所
ではエツチングが進行し寸法や形状がばらつくことにな
り品位の良好なシャドウマスクを得ることが出来ない問
題点がある。
ーム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（４）の開
口部径（ｎｔ ）も例えは１４０±５μｍのばらつきし
かなく、また小孔部（４）の深さく重、）も安定し、更
に小孔部（４）のサイドエツチング量も約２０〜３０μ
ｍと少なく５良好な電子ビーム通孔部を形成することが
可能であるが、この製造方法によると第２図に示す小孔
部（４）と孔部（５，）をエツチング液で穿設したのち
、水洗、乾燥後抵抗層＋６１を形成しており、この抵抗
層（６）の抵抗材料としてはアスファルト、パラフィン
、重合プラスチックなどが使用されているが、これら抵
抗材料をスプレィ法や浸漬法で少くとも小孔部（４）に
塗布しても、この小孔部（４）に均質に充填することは
出来ない。その最大の理由は小孔部（４１及び孔部（５
，）を穿設する場合サイドエツチングにより形成された
感光膜（２）の６ひさし部”（２Ｉ）が抵抗材料の小孔
部（４）への流れ込みに対して防壁の役割をし、特に、
”ひさし部”（２１）近傍では気泡ができやすく、小孔
部（４）を抵抗材料で完全に埋めるのを困難にしている
。この結果、抵抗層（６）を有する反対の主面から大孔
部（５）を穿設する場合、大孔部＋５）が抵抗層（６）
に達した際に抵抗層（６）が完全に埋まっていない箇所
ではエツチングが進行し寸法や形状がばらつくことにな
り品位の良好なシャドウマスクを得ることが出来ない問
題点がある。
本発明は前述した諸問題点に鑑みなされたものであり、
エツチング液の抵抗層を孔部内ｌこ形成するようになさ
れたシャドウマスクの製造方法において、抵抗材料を空
気などを含むことなく孔部内に形成することによって極
めて品位の良好なシャドウマスクを作ることが可能なシ
ャドウマスクの製造方法を提供することを目的としてい
る。
エツチング液の抵抗層を孔部内ｌこ形成するようになさ
れたシャドウマスクの製造方法において、抵抗材料を空
気などを含むことなく孔部内に形成することによって極
めて品位の良好なシャドウマスクを作ることが可能なシ
ャドウマスクの製造方法を提供することを目的としてい
る。
即ち、本発明はシャドウマスク素材の両主面にそれぞれ
小孔形成部及び大孔形成部を除いて感光膜を残存させる
工程と、小孔形成部及び大孔形成部のいずれか一方が形
成されたシャドウマスク素材の一十面からのみエツチン
グにより所定深さの第１の孔部を穿設する工程と、少く
とも第１の孔部内にエツチング液に対して抵抗性をＭす
る抵抗材料を塗布する工程と、真空系を利用した減圧チ
ャンバー内で抵抗材料の脱泡を行ない抵抗層を形成する
工程と、シャドウマスク素材の他主面から抵抗層に達す
る第２の孔部を穿設する工程と、抵抗層及び感光膜を除
去する工程とを具備することを待機とするシャドウマス
クの製造方法である。
小孔形成部及び大孔形成部を除いて感光膜を残存させる
工程と、小孔形成部及び大孔形成部のいずれか一方が形
成されたシャドウマスク素材の一十面からのみエツチン
グにより所定深さの第１の孔部を穿設する工程と、少く
とも第１の孔部内にエツチング液に対して抵抗性をＭす
る抵抗材料を塗布する工程と、真空系を利用した減圧チ
ャンバー内で抵抗材料の脱泡を行ない抵抗層を形成する
工程と、シャドウマスク素材の他主面から抵抗層に達す
る第２の孔部を穿設する工程と、抵抗層及び感光膜を除
去する工程とを具備することを待機とするシャドウマス
クの製造方法である。
次に本発明の一実施例を第６図乃至第１２図により説明
する。
する。
先ず第６図に示すように鉄やアンバーからなる厚さ（η
を有する平滑なシャドウマスク素材ｄｌｌの両主面に牛
乳カゼイングルーやポリビニルアルコールまたはポリビ
ニルピロリドンと重クロム酸アンモニウムや重クロム酸
ナトリウムやアジドまたはジアゾとから成る感光液を塗
布後、乾燥して感光膜０２１θ３）を形成し、次に大孔
用ネガパターン、小孔用ネガパターンを有するネガ原板
を密接させたのち、露光、現像し、直径（ｄ、）の小孔
形成部と直径（ｄ４）の大孔形成部の感光膜を除去し、
他の部分の感光膜（１２１（１３１を残存させる。次に
この残存させた感光膜＋１２１ ｆ＋、３１の耐エツチ
ング性及びシャドウマスク素材旧）との密着性を向上さ
せエツチング液による分解・剥離を防止するためにバー
ニングと呼ばれる高温熱処理を施す。
を有する平滑なシャドウマスク素材ｄｌｌの両主面に牛
乳カゼイングルーやポリビニルアルコールまたはポリビ
ニルピロリドンと重クロム酸アンモニウムや重クロム酸
ナトリウムやアジドまたはジアゾとから成る感光液を塗
布後、乾燥して感光膜０２１θ３）を形成し、次に大孔
用ネガパターン、小孔用ネガパターンを有するネガ原板
を密接させたのち、露光、現像し、直径（ｄ、）の小孔
形成部と直径（ｄ４）の大孔形成部の感光膜を除去し、
他の部分の感光膜（１２１（１３１を残存させる。次に
この残存させた感光膜＋１２１ ｆ＋、３１の耐エツチ
ング性及びシャドウマスク素材旧）との密着性を向上さ
せエツチング液による分解・剥離を防止するためにバー
ニングと呼ばれる高温熱処理を施す。
次に第７図に示すように大孔形成部側をポリエチレンや
ポリプロピレンまたは塩化ビニル等の保護フィルム（Ｉ
ＦＱにより遮蔽し、小孔形成部（１４１側からのみ、エ
ツチング液を矢印方向にスゲレイ法により吹き付は開口
部径（Ｄ、）の小孔部０４を穿設し、水洗乾燥する。
ポリプロピレンまたは塩化ビニル等の保護フィルム（Ｉ
ＦＱにより遮蔽し、小孔形成部（１４１側からのみ、エ
ツチング液を矢印方向にスゲレイ法により吹き付は開口
部径（Ｄ、）の小孔部０４を穿設し、水洗乾燥する。
次に第８図に示すように大孔形成部側を保護フィルム（
１８１により遮蔽したまま、小孔部（１４１側からのみ
抵抗材料を塗布して抵抗層θＧ）を形成するが、この場
合、抵抗材料としてパラフィンを使用するときは第１１
図に示すようにシャドウマスク素材（１１１の小孔部（
１４１側を下にして接地し、流動床３１；上に微粒子の
パラフィンＣ３２１をのせ、これに矢印（３３）方向か
らマイナスに帯電した空気を送ることにより、パラフィ
ン０２１粒子表面がマイナスに帯電し、シャドウマスク
素材１１１）の特に金属面が露出している小孔部（１４
１内に微粒子のパラフィンが均一に付着する流動浸漬と
静電塗装を組み合せた方法を使用する。
１８１により遮蔽したまま、小孔部（１４１側からのみ
抵抗材料を塗布して抵抗層θＧ）を形成するが、この場
合、抵抗材料としてパラフィンを使用するときは第１１
図に示すようにシャドウマスク素材（１１１の小孔部（
１４１側を下にして接地し、流動床３１；上に微粒子の
パラフィンＣ３２１をのせ、これに矢印（３３）方向か
らマイナスに帯電した空気を送ることにより、パラフィ
ン０２１粒子表面がマイナスに帯電し、シャドウマスク
素材１１１）の特に金属面が露出している小孔部（１４
１内に微粒子のパラフィンが均一に付着する流動浸漬と
静電塗装を組み合せた方法を使用する。
次にパラフィンの尚融に適した温度雰囲気例えば１００
〜１５０℃が得られるインフラスタイン等の熱源を持つ
チャンバー中にてパラフィンを溶融させる。
〜１５０℃が得られるインフラスタイン等の熱源を持つ
チャンバー中にてパラフィンを溶融させる。
次に第１２図に示すように矢印（４１Ｊ方向に真空系と
してのバキュームポンプを具備する減圧チャンバー（４
り内にパラフィンを塗布した面を上にした状態でシャド
ウマスク素材Ｑｌｌを通すことにより、小孔部（１４１
に抵抗材料を脱気した状態で充填させ、抵抗層（１６）
が形成される。
してのバキュームポンプを具備する減圧チャンバー（４
り内にパラフィンを塗布した面を上にした状態でシャド
ウマスク素材Ｑｌｌを通すことにより、小孔部（１４１
に抵抗材料を脱気した状態で充填させ、抵抗層（１６）
が形成される。
次に第９図に示すように大孔形成部側の保護膜（国を除
去し、大孔形成部からスプレィ法などにより矢印方向に
エツチング液を吹き付は開口部径（Ｄ４）を有し、抵抗
層（１θに達する大孔部（１５）を穿設する。
去し、大孔形成部からスプレィ法などにより矢印方向に
エツチング液を吹き付は開口部径（Ｄ４）を有し、抵抗
層（１θに達する大孔部（１５）を穿設する。
次に第１０図に示すように抵抗層（１１感光膜０２１０
３＋を除去し所定形状の電子ビーム通孔部０ηの穿設さ
れたフラットマスク（１１１）が完成する。
３＋を除去し所定形状の電子ビーム通孔部０ηの穿設さ
れたフラットマスク（１１１）が完成する。
この減圧チャンバー（４２１を使用する場合、その前に
パラフィンが固る場合には減圧チャンバー（４２１内体
を１００〜１５０℃の温度雰囲気にすることが適当であ
る。
パラフィンが固る場合には減圧チャンバー（４２１内体
を１００〜１５０℃の温度雰囲気にすることが適当であ
る。
上述のシャドウマスクの製造方法によれば抵抗＃ （１
６）は脱泡され小孔部圓内壁と隙間なく密接しているの
で、第９図に示す大孔部Ｑ５１の穿設工程でエツチング
液が抵抗層θｅと小孔部１４１間に入り込むことが皆無
となり極めて品位の良好なシャドウマスクを得ることが
できる。
６）は脱泡され小孔部圓内壁と隙間なく密接しているの
で、第９図に示す大孔部Ｑ５１の穿設工程でエツチング
液が抵抗層θｅと小孔部１４１間に入り込むことが皆無
となり極めて品位の良好なシャドウマスクを得ることが
できる。
前記実施例ではパラフィンを第１１図に示す流動浸漬と
静電塗装とを組み合せた方法を利用したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えば第１３図に示すよ
うに容器６υにパラフィン６４を予め溶融しておき、ヒ
ートローラ１５（支）とプレスローラ（５４）間をシャ
ドウマスク素材１ｕｌｌを通すことによりハラフィンを
転写し、途中にパラフィンの塗布量をコントロールする
ためのドクターブレード６５）の如き、かき落し刃をお
いて塗布後、第１２図の減圧チャンバー（４渇を通して
もよいし、第１４図に示すように容器（６１）にパラフ
ィン（６渇を予め溶融しておき、ローラ（［ｉ３１ （
６４） （６６）を通過させ、途中にドクターブレード
（６５）を設けて塗布後第１２図の減圧千ヤンハ−（４
２１を通してもよいことは説明するまでもない。
静電塗装とを組み合せた方法を利用したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えば第１３図に示すよ
うに容器６υにパラフィン６４を予め溶融しておき、ヒ
ートローラ１５（支）とプレスローラ（５４）間をシャ
ドウマスク素材１ｕｌｌを通すことによりハラフィンを
転写し、途中にパラフィンの塗布量をコントロールする
ためのドクターブレード６５）の如き、かき落し刃をお
いて塗布後、第１２図の減圧チャンバー（４渇を通して
もよいし、第１４図に示すように容器（６１）にパラフ
ィン（６渇を予め溶融しておき、ローラ（［ｉ３１ （
６４） （６６）を通過させ、途中にドクターブレード
（６５）を設けて塗布後第１２図の減圧千ヤンハ−（４
２１を通してもよいことは説明するまでもない。
また、ラッカーや水溶性レジスト・エマルジョンを使用
する場合にはスプレィ法や第１３図、第１４図に示す方
法で抵抗材料をシャドウマスク素材の小孔部に塗布した
のち第１２図の減圧チャンバー（４２１を通すことによ
り抵抗層を形成する方法が優れている。
する場合にはスプレィ法や第１３図、第１４図に示す方
法で抵抗材料をシャドウマスク素材の小孔部に塗布した
のち第１２図の減圧チャンバー（４２１を通すことによ
り抵抗層を形成する方法が優れている。
更に前記実施例では大孔形成部側に保護フィルムを張付
は小孔部に抵抗層を形成したがこれは小孔形成部側に保
護フィルムを張付け、大孔部に抵抗層を形成しても良い
ことは勿論である。
は小孔部に抵抗層を形成したがこれは小孔形成部側に保
護フィルムを張付け、大孔部に抵抗層を形成しても良い
ことは勿論である。
上述のように本発明によれば抵抗層と、この抵抗層を設
ける孔部の密着性を良くし、この孔部に対設するシャド
ウマスク素材の他の面から抵抗層に達する他の孔部を穿
設する時抵抗層と孔部内壁間にエツチング液が入り込む
ことが皆無となり、極めて品位の良好なシャドウマスク
を得ることが可能であり、その工業的価値は極めて大で
ある。
ける孔部の密着性を良くし、この孔部に対設するシャド
ウマスク素材の他の面から抵抗層に達する他の孔部を穿
設する時抵抗層と孔部内壁間にエツチング液が入り込む
ことが皆無となり、極めて品位の良好なシャドウマスク
を得ることが可能であり、その工業的価値は極めて大で
ある。
第１図乃至第５図は従来のシャドウマスクの製造方法を
工程順に示す説明用断面図、第６図乃至第１２図は本発
明のシャドウマスクの製造方法ノー実施例を示す図であ
り、第６図乃至第１０図は製造方法を工程順に示す説明
用断面図、第１１図は抵抗材料の流動浸漬と静電塗装を
組み合せた方法による塗布方法を示す説明図、第１２図
は減圧チャンバーを示す説明図、第１３図及び第１４図
は抵抗材料のそれぞれ異なる塗布方法を示す説明図であ
る。 １．１１・・・シャドウマスク素材 ２，３，１２．１
３・・感光膜４．１４・・・小孔部 ５，１５
・・・大孔部６．１６・・抵抗層 ７，１７
・・・電子ビーム通孔部３１・・・流動床
４２・・・減圧チャンバー代理人 弁理士 井 上 −
男
工程順に示す説明用断面図、第６図乃至第１２図は本発
明のシャドウマスクの製造方法ノー実施例を示す図であ
り、第６図乃至第１０図は製造方法を工程順に示す説明
用断面図、第１１図は抵抗材料の流動浸漬と静電塗装を
組み合せた方法による塗布方法を示す説明図、第１２図
は減圧チャンバーを示す説明図、第１３図及び第１４図
は抵抗材料のそれぞれ異なる塗布方法を示す説明図であ
る。 １．１１・・・シャドウマスク素材 ２，３，１２．１
３・・感光膜４．１４・・・小孔部 ５，１５
・・・大孔部６．１６・・抵抗層 ７，１７
・・・電子ビーム通孔部３１・・・流動床
４２・・・減圧チャンバー代理人 弁理士 井 上 −
男
Claims (1)
- シャドウマスク素材の両主面にそれぞれ小孔形成部及び
大孔形成部を除いて感光膜を残存させる工程と、前記小
孔形成部及び大孔形成部のいずれか一方が形成された前
記シャドウマスク素材の一主面からのみエツチングによ
り所定深さの第１の孔部を穿設する工程と、少くとも前
記第１の孔部内にエツチング液に対して抵抗性を有する
抵抗材料を塗布する工程と、真空系を利用した減圧チャ
ンバー内で前記抵抗材料の脱泡を行ない抵抗層を形成す
る工程と、前記シャドウマスク素材の他主面から前記抵
抗層に達する第２の孔部を穿設する工程と、前記抵抗層
及び前記感光膜を除去する工程とを具備することを特徴
とするシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19886682A JPS5990340A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19886682A JPS5990340A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5990340A true JPS5990340A (ja) | 1984-05-24 |
Family
ID=16398222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19886682A Pending JPS5990340A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5990340A (ja) |
-
1982
- 1982-11-15 JP JP19886682A patent/JPS5990340A/ja active Pending
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