JPH04301714A - ワークの外観検査装置 - Google Patents
ワークの外観検査装置Info
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- JPH04301714A JPH04301714A JP6697491A JP6697491A JPH04301714A JP H04301714 A JPH04301714 A JP H04301714A JP 6697491 A JP6697491 A JP 6697491A JP 6697491 A JP6697491 A JP 6697491A JP H04301714 A JPH04301714 A JP H04301714A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばアルミニウム
(その合金を含む)磁気ディスク基板等のワークの表面
欠陥の有無等を検査するワークの外観検査装置に関する
。
(その合金を含む)磁気ディスク基板等のワークの表面
欠陥の有無等を検査するワークの外観検査装置に関する
。
【0002】
【従来の技術】アルミニウム磁気ディスク基板等のワー
クには、その品質上鏡面ないしそれに近い状態の高度な
表面精度が要求され、局部的にもキズ、ピンホール、ふ
くれ等の表面欠陥のないことが要求される。このため、
精密切削、研磨、洗浄乾燥等の各工程を経て一般に製作
されるアルミニウム磁気ディスク基板の製造工程におい
ては、所定の工程の終了後あるいは全工程の終了後に表
面欠陥の有無等を検査する外観検査が行われている。
クには、その品質上鏡面ないしそれに近い状態の高度な
表面精度が要求され、局部的にもキズ、ピンホール、ふ
くれ等の表面欠陥のないことが要求される。このため、
精密切削、研磨、洗浄乾燥等の各工程を経て一般に製作
されるアルミニウム磁気ディスク基板の製造工程におい
ては、所定の工程の終了後あるいは全工程の終了後に表
面欠陥の有無等を検査する外観検査が行われている。
【0003】従来、かかる外観検査工程は次のような手
順で行われていた。即ち、前工程からケースに入れられ
送られてきたワークを外観検査機の保持部にチャッキン
グしたのち、ワークを回転させて片面の外観検査を行い
、次いでワークを反転して他面の外観検査を行い、検査
が終了すると該ワークを取外すとともに次のワークを該
保持部に装着して検査を行い、以後1枚ずつこの動作を
繰返すことにより行われていた。
順で行われていた。即ち、前工程からケースに入れられ
送られてきたワークを外観検査機の保持部にチャッキン
グしたのち、ワークを回転させて片面の外観検査を行い
、次いでワークを反転して他面の外観検査を行い、検査
が終了すると該ワークを取外すとともに次のワークを該
保持部に装着して検査を行い、以後1枚ずつこの動作を
繰返すことにより行われていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な方法では、ワークの着脱作業に時間を要するとともに
、1のワークの検査工程が終了するまで次のワークの外
観検査を行うことができないことから、単位時間あたり
のワークの検査処理数が少なく検査効率が悪いという欠
点があった。
な方法では、ワークの着脱作業に時間を要するとともに
、1のワークの検査工程が終了するまで次のワークの外
観検査を行うことができないことから、単位時間あたり
のワークの検査処理数が少なく検査効率が悪いという欠
点があった。
【0005】この発明はかかる欠点を解消し、ワークの
外観検査の効率向上を図ることを目的とする。
外観検査の効率向上を図ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にこの発明は、図面の符号を参照して示すと、複数のワ
ーク(A)を平面内において着脱自在に保持するワーク
保持部(2)を回転軸の周囲に有するターンテーブル(
1)が、回転、停止自在に配置されるとともに、該ター
ンテーブル(1)の回転まわりに少なくともワークの受
取ステージ(I)、外観検査ステージ(II)、取出ス
テージ(V)の各ステージが設定され、前記ワーク受取
ステージ(I)で前記ワーク保持部(2)に保持された
ワーク(A)が、ターンテーブル(1)の間欠的な回転
送りにより各ステージを巡って前記ワーク取出ステージ
(V)へと移送される過程において、前記外観検査ステ
ージ(II)で外観検査されるものとなされていること
を特徴とするワークの外観検査装置を提供するものであ
る。
にこの発明は、図面の符号を参照して示すと、複数のワ
ーク(A)を平面内において着脱自在に保持するワーク
保持部(2)を回転軸の周囲に有するターンテーブル(
1)が、回転、停止自在に配置されるとともに、該ター
ンテーブル(1)の回転まわりに少なくともワークの受
取ステージ(I)、外観検査ステージ(II)、取出ス
テージ(V)の各ステージが設定され、前記ワーク受取
ステージ(I)で前記ワーク保持部(2)に保持された
ワーク(A)が、ターンテーブル(1)の間欠的な回転
送りにより各ステージを巡って前記ワーク取出ステージ
(V)へと移送される過程において、前記外観検査ステ
ージ(II)で外観検査されるものとなされていること
を特徴とするワークの外観検査装置を提供するものであ
る。
【0007】
【作用】図2において、前工程から搬送装置(3)によ
ってワーク受取ステージ(I)に搬送されてきたワーク
(A)は、ターンテーブル(1)上の保持部(2)に渡
され、チャック部(2a)に装着される。次に、ターン
テーブル(1)が半時計方向に1/5回転して停止する
。 これにより受取ステージ(I)のワーク(A)は外観検
査ステージ(II)に移送される。外観検査ステージ(
II)では、移行されてきたワーク(A)に片面の表面
検査が実施される。この間、受取ステージ(I)では、
搬送装置(3)により次のワークが前工程から搬送され
、受取ステージ(I)に待機している次段の保持部(2
)に装着される。外観検査終了後、さらにターンテーブ
ル(1)が1/5回転し、受取ステージ(I)の次のワ
ーク(A)が外観検査ステージ(II)へと移送され、
外観検査が行われる。こうして、ターンテーブル(1)
の間欠的な回転送りによりワークが次々と外観検査ステ
ージ(II)へ移送され外観検査に供される。外観検査
されたワーク(A)はワーク取出ステージ(V)へと送
られ、待機している搬送装置(7)によって取出され次
工程に送られる。
ってワーク受取ステージ(I)に搬送されてきたワーク
(A)は、ターンテーブル(1)上の保持部(2)に渡
され、チャック部(2a)に装着される。次に、ターン
テーブル(1)が半時計方向に1/5回転して停止する
。 これにより受取ステージ(I)のワーク(A)は外観検
査ステージ(II)に移送される。外観検査ステージ(
II)では、移行されてきたワーク(A)に片面の表面
検査が実施される。この間、受取ステージ(I)では、
搬送装置(3)により次のワークが前工程から搬送され
、受取ステージ(I)に待機している次段の保持部(2
)に装着される。外観検査終了後、さらにターンテーブ
ル(1)が1/5回転し、受取ステージ(I)の次のワ
ーク(A)が外観検査ステージ(II)へと移送され、
外観検査が行われる。こうして、ターンテーブル(1)
の間欠的な回転送りによりワークが次々と外観検査ステ
ージ(II)へ移送され外観検査に供される。外観検査
されたワーク(A)はワーク取出ステージ(V)へと送
られ、待機している搬送装置(7)によって取出され次
工程に送られる。
【0008】
【実施例】以下、この発明を、図4に示すようなワーク
としてのアルミニウム磁気ディスク基板(A)の外観検
査を行う装置に適用した実施例に基いて説明する。
としてのアルミニウム磁気ディスク基板(A)の外観検
査を行う装置に適用した実施例に基いて説明する。
【0009】図1は縦型の外観検査装置を示している。
この外観検査装置において、(1)は回転軸を前後水平
方向に向けて配置された円板状の縦型ターンテーブルで
ある。このターンテーブル(1)の前面には周方向の5
等分位置に5個のワーク保持部(2)が設けられている
。各ワーク保持部(2)は拡径、縮径自在な前方突出状
のチャック部(2a)を有し、該チャック部(2a)が
基板(A)の軸孔に通された状態で拡径することにより
、基板(A)を内周からチャックする一方、チャック部
の縮径により基板(A)のャックを解除可能となされて
いる。そして各チャック部(2a)は自軸まわりで回転
を行いうるようになされており、この回転駆動によりチ
ャックした基板(A)を必要に応じて回転させるものと
なされている。
方向に向けて配置された円板状の縦型ターンテーブルで
ある。このターンテーブル(1)の前面には周方向の5
等分位置に5個のワーク保持部(2)が設けられている
。各ワーク保持部(2)は拡径、縮径自在な前方突出状
のチャック部(2a)を有し、該チャック部(2a)が
基板(A)の軸孔に通された状態で拡径することにより
、基板(A)を内周からチャックする一方、チャック部
の縮径により基板(A)のャックを解除可能となされて
いる。そして各チャック部(2a)は自軸まわりで回転
を行いうるようになされており、この回転駆動によりチ
ャックした基板(A)を必要に応じて回転させるものと
なされている。
【0010】前記ターンテーブル(1)の回転まわりの
5等分位置には、左上から半時計方向へ順にワーク受取
ステージ(I)、第1外観検査ステージ(II)、反転
ステージ(III )、第2外観検査ステージ(IV)
、ワーク取出ステージ(V)の5つのステージが設定さ
れている。そして、前記ターンテーブル(1)は、図示
しない駆動装置によって鉛直面内で回転停止自在に制御
可能となされるとともに、半時計方向に1/5回転ごと
に回転送りと停止を繰返し、ワーク保持部(2)に装着
した基板(A)を各ステージを巡って移送するものとな
されている。
5等分位置には、左上から半時計方向へ順にワーク受取
ステージ(I)、第1外観検査ステージ(II)、反転
ステージ(III )、第2外観検査ステージ(IV)
、ワーク取出ステージ(V)の5つのステージが設定さ
れている。そして、前記ターンテーブル(1)は、図示
しない駆動装置によって鉛直面内で回転停止自在に制御
可能となされるとともに、半時計方向に1/5回転ごと
に回転送りと停止を繰返し、ワーク保持部(2)に装着
した基板(A)を各ステージを巡って移送するものとな
されている。
【0011】上記各ステージについて説明すると次のと
おりである。即ち、前記ワーク受取ステージ(I)は、
搬送装置(3)によって前工程から搬送されてきた磁気
ディスク基板(A)を保持部(2)に装着するステージ
である。なお、搬送装置(3)から保持部(2)へのデ
ィスク基板(A)の装着は搬送装置に設けられた外周チ
ャック方式のチャッカーを介して行われるものとなされ
ている。
おりである。即ち、前記ワーク受取ステージ(I)は、
搬送装置(3)によって前工程から搬送されてきた磁気
ディスク基板(A)を保持部(2)に装着するステージ
である。なお、搬送装置(3)から保持部(2)へのデ
ィスク基板(A)の装着は搬送装置に設けられた外周チ
ャック方式のチャッカーを介して行われるものとなされ
ている。
【0012】前記第1外観検査ステージ(II)は、磁
気ディスク基板(A)の片面について表面のキズやピン
ホール等の表面欠陥の有無の検査を行うものであり、こ
のための外観検査装置(4)が設置されている。かかる
外観検査装置(4)の構成は特に限定されることはない
が、この実施例では図3に示すように、磁気ディスク基
板表面に向けて光を間欠的に照射する光源(41)と、
該照射光に同期して磁気ディスク基板からの反射光を受
領するCCDカメラ等の撮像装置(42)と、該撮像装
置によって撮影された画像の濃淡から表面欠陥の有無を
電気的に検出する表面欠陥検出装置(43)を備えたも
のが用いられている。そして、チャック部(2a)の回
転駆動による磁気ディスク基板の回転と要すれば光源及
び撮像装置の半径方向への移動とによって、磁気ディス
ク基板(A)の片面全面の外観検査を行うものとなされ
ている。
気ディスク基板(A)の片面について表面のキズやピン
ホール等の表面欠陥の有無の検査を行うものであり、こ
のための外観検査装置(4)が設置されている。かかる
外観検査装置(4)の構成は特に限定されることはない
が、この実施例では図3に示すように、磁気ディスク基
板表面に向けて光を間欠的に照射する光源(41)と、
該照射光に同期して磁気ディスク基板からの反射光を受
領するCCDカメラ等の撮像装置(42)と、該撮像装
置によって撮影された画像の濃淡から表面欠陥の有無を
電気的に検出する表面欠陥検出装置(43)を備えたも
のが用いられている。そして、チャック部(2a)の回
転駆動による磁気ディスク基板の回転と要すれば光源及
び撮像装置の半径方向への移動とによって、磁気ディス
ク基板(A)の片面全面の外観検査を行うものとなされ
ている。
【0013】前記反転ステージ(III )は磁気ディ
スク基板(A)を表裏反転させてワーク保持部(2)に
再装着するものであり、このための反転装置(5)が設
置されている。この反転装置(5)は、基板(A)の外
周をチャックするアーム部を有し、このアーム部で反転
ステージ(III )に移送されてきた基板(A)の外
周部をチャックして側方に移動することにより基板(A
)をチャック部(2a)から一旦外したのち、アーム部
を180度回転させることにより基板(A)を裏返して
再度ワーク保持部(2)のチャック部(2a)に装着す
る動作を行うものである。
スク基板(A)を表裏反転させてワーク保持部(2)に
再装着するものであり、このための反転装置(5)が設
置されている。この反転装置(5)は、基板(A)の外
周をチャックするアーム部を有し、このアーム部で反転
ステージ(III )に移送されてきた基板(A)の外
周部をチャックして側方に移動することにより基板(A
)をチャック部(2a)から一旦外したのち、アーム部
を180度回転させることにより基板(A)を裏返して
再度ワーク保持部(2)のチャック部(2a)に装着す
る動作を行うものである。
【0014】前記第2外観検査ステージ(IV)は、反
転ステージ(III )で反転された磁気ディスク基板
(A)の他面側について外観検査を行うものであり、第
1外観検査ステージ(II)と同様の外観検査装置(6
)が設置されている。
転ステージ(III )で反転された磁気ディスク基板
(A)の他面側について外観検査を行うものであり、第
1外観検査ステージ(II)と同様の外観検査装置(6
)が設置されている。
【0015】前記ワーク取出ステージ(V)は、外観検
査を終えて該ステージへ移送されてきた磁気ディスク基
板(A)をワーク保持部(2)から取出すとともに、取
出した磁気ディスク基板を搬送装置(7)によって次工
程へ搬送するものである。かかる磁気ディスク基板(A
)の取外しも搬送装置(7)に設けた図示しないチャッ
カーを介して行われるものとなされている。
査を終えて該ステージへ移送されてきた磁気ディスク基
板(A)をワーク保持部(2)から取出すとともに、取
出した磁気ディスク基板を搬送装置(7)によって次工
程へ搬送するものである。かかる磁気ディスク基板(A
)の取外しも搬送装置(7)に設けた図示しないチャッ
カーを介して行われるものとなされている。
【0016】次に、図1に示す外観検査装置の動作をそ
の制御方式と併せて図2に基いて説明する。
の制御方式と併せて図2に基いて説明する。
【0017】前工程例えば洗浄乾燥工程から搬送装置(
3)によってワーク受取ステージ(I)に移送されてき
た磁気ディスク基板(A)は、搬送装置(3)のチャッ
カーからターンテーブル(1)上のワーク保持部(2)
に渡され、チャック部(2a)に装着される。
3)によってワーク受取ステージ(I)に移送されてき
た磁気ディスク基板(A)は、搬送装置(3)のチャッ
カーからターンテーブル(1)上のワーク保持部(2)
に渡され、チャック部(2a)に装着される。
【0018】次に、搬送装置(3)は次の磁気ディスク
基板を搬送すべく前工程側に移動する一方、ターンテー
ブル(1)が半時計方向に1/5回転して停止する。こ
のターンテーブル(1)の回転送りにより、前段のステ
ージに位置していた各ワーク保持部(2)は次段のステ
ージへと移行する。即ち、受取ステージ(I)で磁気デ
ィスク基板(A)を装着された保持部(2)は第1外観
検査ステージ(II)に移行し、取出ステージ(V)に
位置していた保持部(2)は受取ステージ(I)へと移
行し、そこで停止する。
基板を搬送すべく前工程側に移動する一方、ターンテー
ブル(1)が半時計方向に1/5回転して停止する。こ
のターンテーブル(1)の回転送りにより、前段のステ
ージに位置していた各ワーク保持部(2)は次段のステ
ージへと移行する。即ち、受取ステージ(I)で磁気デ
ィスク基板(A)を装着された保持部(2)は第1外観
検査ステージ(II)に移行し、取出ステージ(V)に
位置していた保持部(2)は受取ステージ(I)へと移
行し、そこで停止する。
【0019】第1外観検査ステージ(II)では、移送
されてきた磁気ディスク基板(A)に片面側の表面検査
が実施され、キズ、ピンホール等の表面欠陥の有無や個
数が判定される。この間、受取ステージ(I)では、搬
送装置(3)により次の磁気ディスク基板が前工程から
搬送され、受取ステージ(I)に待機している次段の保
持部(2)に装着される。
されてきた磁気ディスク基板(A)に片面側の表面検査
が実施され、キズ、ピンホール等の表面欠陥の有無や個
数が判定される。この間、受取ステージ(I)では、搬
送装置(3)により次の磁気ディスク基板が前工程から
搬送され、受取ステージ(I)に待機している次段の保
持部(2)に装着される。
【0020】上記の外観検査終了後、さらにターンテー
ブル(1)が1/5回転する。これにより第1外観検査
ステージ(II)の磁気ディスク基板(A)は反転ステ
ージ(III )へ、受取ステージ(I)の磁気ディス
ク基板(A)は第1外観検査ステージ(II)へと移送
され、取出ステージ(V)に位置していたワーク保持部
(2)は受取ステージ(I)へと移行する。反転ステー
ジ(III )へ移送された磁気ディスク基板は、反転
装置(5)でチャック部(2a)から一旦外されて表裏
が反転されたのち、ワーク保持部(2)へ再装着される
。この間に、第1外観検査ステージ(II)では2番目
の磁気ディスク基板の外観検査が行われ、受取ステージ
(I)では3番目の磁気ディスク基板の装着が行われる
。
ブル(1)が1/5回転する。これにより第1外観検査
ステージ(II)の磁気ディスク基板(A)は反転ステ
ージ(III )へ、受取ステージ(I)の磁気ディス
ク基板(A)は第1外観検査ステージ(II)へと移送
され、取出ステージ(V)に位置していたワーク保持部
(2)は受取ステージ(I)へと移行する。反転ステー
ジ(III )へ移送された磁気ディスク基板は、反転
装置(5)でチャック部(2a)から一旦外されて表裏
が反転されたのち、ワーク保持部(2)へ再装着される
。この間に、第1外観検査ステージ(II)では2番目
の磁気ディスク基板の外観検査が行われ、受取ステージ
(I)では3番目の磁気ディスク基板の装着が行われる
。
【0021】反転ステージ(III )での反転工程終
了後ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し、各磁
気ディスク基板(A)はそれぞれ次段のステージへと移
送されるとともに、取出ステージ(V)に位置していた
ワーク保持部(2)は受取ステージ(I)へ移行する。 反転ステージ(III )から第2外観検査ステージ(
IV)へと移送された磁気ディスク基板(A)には、次
いで外観検査装置(4)により他面側の外観検査が行わ
れ、表面欠陥の有無や個数が判定される。この間に、反
転ステージ(III )、第1外観検査ステージ(II
)、受取ステージ(I)では、それぞれ磁気ディスク基
板の反転動作、片面外観検査、受取動作が行われる。
了後ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し、各磁
気ディスク基板(A)はそれぞれ次段のステージへと移
送されるとともに、取出ステージ(V)に位置していた
ワーク保持部(2)は受取ステージ(I)へ移行する。 反転ステージ(III )から第2外観検査ステージ(
IV)へと移送された磁気ディスク基板(A)には、次
いで外観検査装置(4)により他面側の外観検査が行わ
れ、表面欠陥の有無や個数が判定される。この間に、反
転ステージ(III )、第1外観検査ステージ(II
)、受取ステージ(I)では、それぞれ磁気ディスク基
板の反転動作、片面外観検査、受取動作が行われる。
【0022】第2外観検査ステージ(IV)での外観検
査終了後、ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し
、各磁気ディスク基板は次段のステージへと移送される
。 取出ステージ(V)へ移送された磁気ディスク基板は、
搬送装置(7)のチャッカーによってワーク保持部(2
)から取出される。この間に、第2外観検査ステージ(
IV)、反転ステージ(III )、第1外観検査ステ
ージ(II)、受取ステージ(I)では、それぞれ磁気
ディスク基板の他面外観検査、反転動作、片面外観検査
、受取動作が行われる。
査終了後、ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し
、各磁気ディスク基板は次段のステージへと移送される
。 取出ステージ(V)へ移送された磁気ディスク基板は、
搬送装置(7)のチャッカーによってワーク保持部(2
)から取出される。この間に、第2外観検査ステージ(
IV)、反転ステージ(III )、第1外観検査ステ
ージ(II)、受取ステージ(I)では、それぞれ磁気
ディスク基板の他面外観検査、反転動作、片面外観検査
、受取動作が行われる。
【0023】取出ステージ(V)での磁気ディスク基板
(A)の取出し終了後、ターンテーブル(1)がさらに
1/5回転し、各磁気ディスク基板は次段のステージへ
と移送されるとともに、取出ステージ(V)の空き状態
となったワーク保持部(2)は受取ステージ(I)へと
移行し、以下同様の動作が繰返される。
(A)の取出し終了後、ターンテーブル(1)がさらに
1/5回転し、各磁気ディスク基板は次段のステージへ
と移送されるとともに、取出ステージ(V)の空き状態
となったワーク保持部(2)は受取ステージ(I)へと
移行し、以下同様の動作が繰返される。
【0024】このように、ターンテーブル(1)の1/
5回転ずつの送りと停止により、各ステージを順次的に
巡らせながら磁気ディスク基板を移送していくから、多
数の磁気ディスク基板を次々と連続的かつ自動的に外観
検査に供することができる。なお、取出ステージ(V)
で取出された磁気ディスク基板(A)は、搬送装置(3
)によって例えば良否選別工程等に送られ、第1、第2
外観検査ステージ(II)(IV)での外観検査結果に
基いて、良品、不良品、再加工品の別に仕分けされる。
5回転ずつの送りと停止により、各ステージを順次的に
巡らせながら磁気ディスク基板を移送していくから、多
数の磁気ディスク基板を次々と連続的かつ自動的に外観
検査に供することができる。なお、取出ステージ(V)
で取出された磁気ディスク基板(A)は、搬送装置(3
)によって例えば良否選別工程等に送られ、第1、第2
外観検査ステージ(II)(IV)での外観検査結果に
基いて、良品、不良品、再加工品の別に仕分けされる。
【0025】なお、図示実施例に係る外観検査装置は、
ターンテーブル(1)が垂直に配置されかつ鉛直面内に
おいて回転する縦型のものとしてこれを示したが、ター
ンテーブル(1)が水平に配置されかつ水平面内におい
て回転する横型のものとして構成しても良いし、またタ
ーンテーブルを任意角度に傾斜させて配置しても良い。 而して、縦型の装置として構成した場合には、ターンテ
ーブル(1)上で磁気ディスク基板(A)の表面にほこ
りやごみが付着しにくく、また付着した場合も容易に落
下し易いため、確度の高い検査結果を得ることができる
利点がある。しかも、装置の設置に必要な床面積を少な
くすることができ、設置空間の有効利用を図りうるとい
う利点もある。一方、横型の装置として構成した場合に
は、ワーク保持部(2)に装着保持した際に磁気ディス
ク基板(A)の自重安定作用により該基板の水平面を得
やすいことから、基板(A)を回転させたときのぶれの
発生を防止でき、ひいては外観検査装置(4)(6)に
おける光源(41)や撮像装置(42)と基板(A)と
の距離を常時一定に保持しえて精度の高い外観検査結果
が得られるという利点がある。
ターンテーブル(1)が垂直に配置されかつ鉛直面内に
おいて回転する縦型のものとしてこれを示したが、ター
ンテーブル(1)が水平に配置されかつ水平面内におい
て回転する横型のものとして構成しても良いし、またタ
ーンテーブルを任意角度に傾斜させて配置しても良い。 而して、縦型の装置として構成した場合には、ターンテ
ーブル(1)上で磁気ディスク基板(A)の表面にほこ
りやごみが付着しにくく、また付着した場合も容易に落
下し易いため、確度の高い検査結果を得ることができる
利点がある。しかも、装置の設置に必要な床面積を少な
くすることができ、設置空間の有効利用を図りうるとい
う利点もある。一方、横型の装置として構成した場合に
は、ワーク保持部(2)に装着保持した際に磁気ディス
ク基板(A)の自重安定作用により該基板の水平面を得
やすいことから、基板(A)を回転させたときのぶれの
発生を防止でき、ひいては外観検査装置(4)(6)に
おける光源(41)や撮像装置(42)と基板(A)と
の距離を常時一定に保持しえて精度の高い外観検査結果
が得られるという利点がある。
【0026】
【発明の効果】この発明は上述の次第で、複数のワーク
を平面内において着脱自在に保持するワーク保持部を回
転軸の周囲に有するターンテーブルが、回転、停止自在
に配置されるとともに、該ターンテーブルの回転まわり
に少なくともワークの受取ステージ、外観検査ステージ
、取出ステージの各ステージが設定され、前記ワーク受
取ステージで前記ワーク保持部に保持されたワークが、
ターンテーブルの間欠的な回転送りにより各ステージを
巡って前記ワーク取出ステージへと至る過程において、
前記外観検査ステージで外観検査されるものとなされて
いることを特徴とするものである。従って、1のワーク
の外観検査工程の終了を待つことなく、多数のワークを
次々と連続的に外観検査できることになり、従来のよう
に、1のワークの検査工程終了を待って次のワークの外
観検査を行う場合に較べて、単位時間に外観検査できる
ワークの数を各段に増加することができ、外観検査効率
の著しい向上を図りうる。
を平面内において着脱自在に保持するワーク保持部を回
転軸の周囲に有するターンテーブルが、回転、停止自在
に配置されるとともに、該ターンテーブルの回転まわり
に少なくともワークの受取ステージ、外観検査ステージ
、取出ステージの各ステージが設定され、前記ワーク受
取ステージで前記ワーク保持部に保持されたワークが、
ターンテーブルの間欠的な回転送りにより各ステージを
巡って前記ワーク取出ステージへと至る過程において、
前記外観検査ステージで外観検査されるものとなされて
いることを特徴とするものである。従って、1のワーク
の外観検査工程の終了を待つことなく、多数のワークを
次々と連続的に外観検査できることになり、従来のよう
に、1のワークの検査工程終了を待って次のワークの外
観検査を行う場合に較べて、単位時間に外観検査できる
ワークの数を各段に増加することができ、外観検査効率
の著しい向上を図りうる。
【図1】この発明の一実施例に係る外観検査装置の正面
図である。
図である。
【図2】ワークの外観検査を実際に行っている状態の正
面図である。
面図である。
【図3】外観検査装置の概略構成図である。
【図4】実施例に用いたワークとしてのアルミニウム磁
気ディスク基板を示す斜視図である。
気ディスク基板を示す斜視図である。
A…アルミニウム磁気ディスク基板(ワーク)1…ター
ンテーブル、 2…ワーク保持部 I…ワークの受取ステージ II、IV…外観検査ステージ V…ワーク取出ステージ
ンテーブル、 2…ワーク保持部 I…ワークの受取ステージ II、IV…外観検査ステージ V…ワーク取出ステージ
Claims (1)
- 【請求項1】 複数のワーク(A)を平面内において
着脱自在に保持するワーク保持部(2)を回転軸の周囲
に有するターンテーブル(1)が、回転、停止自在に配
置されるとともに、該ターンテーブル(1)の回転まわ
りに少なくともワークの受取ステージ(I)、外観検査
ステージ(II)、取出ステージ(V)の各ステージが
設定され、前記ワーク受取ステージ(I)で前記ワーク
保持部(2)に保持されたワーク(A)が、ターンテー
ブル(1)の間欠的な回転送りにより各ステージを巡っ
て前記ワーク取出ステージ(V)へと移送される過程に
おいて、前記外観検査ステージ(II)で外観検査され
るものとなされていることを特徴とするワークの外観検
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3066974A JP2597763B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ワークの外観検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3066974A JP2597763B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ワークの外観検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04301714A true JPH04301714A (ja) | 1992-10-26 |
| JP2597763B2 JP2597763B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=13331506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3066974A Expired - Lifetime JP2597763B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | ワークの外観検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2597763B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5909117A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-01 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Apparatus and method for inspecting disks |
| JP2003002430A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品検査方法とその装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01116439A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-09 | Toshiba Corp | 光学的情報記憶媒体検査装置 |
| JPH01291110A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Kanebo Ltd | 検査装置 |
| JPH0260860U (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP3066974A patent/JP2597763B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01116439A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-09 | Toshiba Corp | 光学的情報記憶媒体検査装置 |
| JPH01291110A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Kanebo Ltd | 検査装置 |
| JPH0260860U (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5909117A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-01 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Apparatus and method for inspecting disks |
| JP2003002430A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品検査方法とその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2597763B2 (ja) | 1997-04-09 |
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