JPH0430308A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体上に記録または再生するための磁
気ヘッドに関する０％に、ビデオテープレコーダ（ＶＴ
Ｒ）やデジタルオーディオテープレコーダ（ＤＡＴ）な
どに用いる高保磁力媒体に適し九磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力（Ｈａ）を高くすることが有利であることは良く知
られている。そのため、近年ＶＴＲなどでは、Ｈａが１
２００〜１５００エルステツド（０８）の鉄系合金粉末
テープが実用化されている。このような高Ｈｅテープに
信号を記録・再生するには、Ｆｅ−８ｉ−Ａ１（センダ
スト）やＣ。

−！ｌ’ｂ　−Ｚｒ　アモルファス合金など高飽和磁束
密度の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドが提案されてい
る。（＃開昭５８−１５５５１！Ｓ号公報　特開昭６０
−３２１０７号公報等、） 特に１磁気記碌の高密度化に伴って、磁気記録媒体に記
録される記録トラックの狭小化が進められておシ、これ
に対応して磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが
要求されている。

そこで従来、例えば磁気コア部がフェライト等の強磁性
酸化物からなシ、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形
成面に強磁性金属膜を被着した複合型磁気ヘッドが提案
されている。（４Ｉ開昭６２−１５８１１０号公報、４
１開昭６２−１５７５０６号公報等、） この磁気ヘッドは、第１６図に示すようと、Ｍｎ−Ｚｎ
　フェライトなどの強磁性酸化物によシ形成される一対
の磁気コア部１０１，１０２の突き合わせ面をそれぞれ
斜めに切〕欠いて強磁性金属膜形成面１０５，１０４を
形成し、この強磁性金属膜１０５，１０４上に真空薄膜
形成技術によシ？６−Ａｌ−８ｉ系合金（センダスト）
勢の強磁性金属膜１０５，１０６を被着形成し、これら
強磁性金属膜１０５，１０６を当接することにより磁気
ギャップ１０７を形成し、さらにトラック幅規制溝内に
摩耗を防止するために低融点ガラス１０８゜１０９ある
いは高融点ガラス１１０，１１１を充填して構成される
ものである。

さらに、従来の磁気ヘッドの製造方法の一例を工程順序
にしたがって図面を参照しながら説明する。

複合型磁気ヘッドを炸裂するには、第１７図（ａ）およ
び第１７図（１））に示すようと、例えばＭｎ　−Ｚｎ
フェライト等の酸化物磁性基板１２０の上面１２０ａ、
すなわちこの酸化物磁性基板１２０１Ｃおける磁気コア
半休突き合わせ時の接合面に、回転砥石とよ）断面路Ｖ
字状の第一の切夛溝１２１を全幅にわたって複数平行に
形成し、磁性薄膜形成面１２１ａを形成する。

次に、第１８図に示すように、磁性薄膜形成面１２１ａ
を含む基板１２０の上面１２０ａ全面にわたってＦｓ　
−Ａｌ　−Ｓｉ系合金や、非晶質合金をスパッタリング
等の真空薄膜形成技術を用いて被着し、磁性金属薄膜１
２２を形成する。

次いで、第１９図（ａ）、第１９図０）に示すように、
磁性金属薄膜１２２が被着された第一の７字状溝１２１
内に、非磁性材料１２５を充填した後、上記基板１２０
の上面１２０ａを平面研削し、平滑度よく面出しを行い
、上記基板１２０の上面１２０　ａｌｆｃ上記磁性薄膜
形成面１２１ａ上忙稙着される磁性金属薄膜１２２の端
面１２２ａを露出させる。

次に、第２０図（ａ）、第２０図（ｂ）に示すように１
上記磁性金属薄罠１２２が被着された磁性薄膜形成面１
２１ａに！ｉＩ接して、上記第一の切シ溝１２１と平行
に断面略円弧状の第二の切り溝１２４を切削加工する。

ここで、前記磁性金属膜の厚みがトラック幅！Ｗとほぼ
同一の場合には、第２０図（ｂ）に示すよう金属磁性ｓ
、１２２の端部に接するように断面略円弧状の第二の切
シ溝１２４を切削加工する。

さらｋ、上述のような工程によ）作製される一対の磁気
コアブロック１５０．ｔ４０のうち、−方の磁気コアブ
ロック１４０に対して、第２１図に示すように、上記第
二の切夛溝１２１および第二の切）溝１２４と直交する
方向に溝加工を施し、巻線溝１２５を形成する。

続いて、上記磁気コアブロック１３０の接合面１５０ａ
ｋ：ギャップスペーサを被着し、第２０図に示すように
、これら磁気コアブロック１５ｏ。

１４０を上記強磁性金属薄膜１２２の端面１２２ａ同士
が突き合わされるようｉＩＣ接合配置する。

そして、これら磁気コアブロック１３０、および１４Ｑ
をガラスによシ溶着すると同時に、上記第２の切シ溝１
２４内に上記非磁性材１２６を充填する。

最後に、第２２図中Ａ−Ａ線訃よび人１−ＡＩ線の位置
でスライシング加工し、複数個のへラドチップを切夛出
した後、磁気テープ摺接面を円筒研磨して第２５図およ
び第２４図に示す磁気ヘッドコア１５０が完成する。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、前述の第１６図に示す磁気ヘッドを作製する
には、例えば強磁性酸化物よりなる基板に対して第１の
溝加工を施し強磁性薄膜形成面に相当する斜面を形成し
、強磁性金属薄膜を上記斜面上に被着した後、平面研削
し、さらに第２の溝加工を施して、この第２の溝の溝入
れ位置の精度によ、９）ラック幅を規定するという方法
が考えられている。

しかしながら、このような方法によった場合には、トラ
ック幅精度は、強磁性金属膜０膜厚精度や、上記第１０
溝の溝ピッチ精實、第２の溝の溝ピツチ精度、さらには
鏡面研磨までの加工精度によシコントロールされ、その
バラツキは非常に大きいものとなる１例えば、上記第一
の溝のピッチのバラツキは５〜７μｍ１強磁性金属膜の
膜厚のバラツキは２〜４μｍ１第２０溝のピッチのバラ
ツキは２〜３μｍ程度にもなり、総合的に±１μｍ。

あるいは±２μｍといったトラック精度を実現すること
は難しい。さらに１一対の磁気コアを突き合わせて磁気
ギャップを形成する工程において、２０μｍ以下の狭ト
ラツクの場合、突き合わせ精度も厳しくなる。

また、上述の製造工程に訃いて、２度のガラス充填工程
による気泡の発生や工程の煩雑さによって歩留まシが低
下するという問題もある。さらに、構成材料が多種類の
ためテープ摺接面に偏摩耗が起シヘッド特性が劣化する
という問題が生ずる。

そこで本発明は、前記の実情に鑑みて提案されたもので
あって、トラック幅精度の向上が可能で、またそのバラ
ツキも極めて少ない磁気ヘッドおよびその製造方法の提
供を目的とし、さらに偏摩耗による特性劣化や製造プロ
セスの簡略化により歩′Ｍまシ低下を抑光、量産性に富
んだ製造方法の提供を目的とする。

〔課題を解決する丸めの手段〕

本発明の磁気ヘッドは、上記目的を達成するために、少
なくとも一方にコイル巻線用の＃Ｉ″に有する２個のコ
ア基体の突き合わせ部分に金属磁性膜を配し、該突き合
わせ面にギャップ材を介して接合一体化してなる磁気ヘ
ッドコアにおいて、突き合わせ面における金属磁性膜の
幅をトラック幅より広く形成し、該磁気コアの磁気テー
プ対接面において、少なくともギャップ深さまでトラッ
ク幅を残して平行に除去し、該トラック幅側面に非磁性
セラミック材を配した構成としている。

特に好ましくは、前記非磁性セラミック材を７オルステ
ライト（２ＭｇＯ−５ｉＯｚ　）もしくはステアタイト
（ＭｇＯ−８ｉＯ，）とする。

磁気ヘッドの構成としては、コア基体がＭｎＺｎフェラ
イトからなり、金属磁性合金がＣｏ系非晶質合金婁から
なっている。さらに、コア基体がαＦｅ２０３からカブ
、金属磁性合金がＣＯ系非晶質合金膜からなっている。

これらの構成は、それぞれの材料との熱１＃張係数の整
合、および磁気テープと接触した時の相性、耐摩耗性な
どから選択される。

次に、本発明の磁気ヘッドコアの製造方法は、コア基体
の突き合わせ面に１該突合せ面に対して傾斜し丸溝を形
成し、波溝に被着された金属磁性膜の突合せ面を磁気ギ
ャップとする磁気ヘッドにおいて、上記コア基体となる
ブロックに形成した溝に金属磁性膜を被着する工程、前
記溝にガラスを充填する工程、突合せ面を研磨し余分な
ガラスおよび金属磁性膜を除去する工程、少なくとも一
方のコア基体にコイル巻線用の溝を、前記傾斜溝に直交
して形成する工程、ギャップ形成材を介して金属磁性膜
を突き合わせて接合し、接合ブロックを形成する工程、
所定のギャップ深さまでテープ対接面を円筒状に成形す
る工程、しかる後、トラック幅を残して両端に平行な溝
を形成する工程、前記溝にスパッタもしくは蒸着によっ
てセラミック材を充填する工程、所定のギャップ深さま
でテープ対接面を円筒状に成形する工程、しかる後所定
のボア幅に切断する工程、を有することを特徴とする。

さらに、本発明の他の磁気ヘッドコアの製造方法は、前
記接合ブロックのテープ対接面を、所定のギャップ深さ
まで円筒状に成形し、テープ対接面にトラック幅を残し
て両端和平行な溝を形成する工程を経た後、波溝に非磁
性金属膜を形成する工程、しかる後、波溝にスパッタも
しくは蒸着とよってセラミック材を充填する工程を有す
る。

〔作用〕

本発明において、２個のコア基体の突合せ面に対して傾
斜した溝を形成し、この＃に金属磁性膜を配し、ギャッ
プ材を介して接合一体化した後に１磁気コアの磁気テー
プ対接面からトラック幅加工を行えばよく、砥石の摩耗
〈よる溝ピッチのずれや、金属磁性膜の膜厚のバラツキ
によるトラックずれの発生を防止することができる。ま
た、金属磁性膜の膜厚をトラック幅よ）も淳く形成して
おくことによ）ギャップ突き合わせ接合工程で、多少の
ずれが生じても問題とならない。

さら（、前記トラック幅加工を行った後、トラックの両
端の溝にセラミックを充填することとよって、ガラスな
どを充填するよ）も気泡の発生やコア形状に切断する際
の欠け、チッピングが極１に低減する。特に、セラミッ
ク材の中で７オルステライト（２ＭｇＯ−５ｉＯｚ　）
　もしく　Ｆｉ、（テア／イト（Ｍｇｏ−５ｉｏ、）　
Ｆｉココア体とすル１ｌｎ−Ｚｎ７エライトやαＦｅ２
０．と熱膨張係数かはぼ一致し、欠は中剥離を生じない
。また、磁気テープとの摺動くおいてコア基体よりも若
干摩耗しゃすい性質を持っているためテープタッチが良
好で、偏摩耗も少ない。

また、磁気ヘッドの磁気テープ摺接面において、金属磁
性膜がトラック幅よシ外１１にはみ出しても、磁気テー
プ摺接面側からトラック幅加工を行う構造となっている
九めＶｃ＠接、隣々接記録トラックからのクロストーク
が抑制され、記録再生特性の債れた磁気ヘッドとなる。

〔実施例〕

以下、本発明に係る磁気ヘッドおよびその製造方法の実
施例を図面に従って説明する。

〈実施例１〉 第１図（ａ）および第１図（ｂ）は本発明とより得られ
る磁気ヘッドの斜視図および磁気テープ摺接面の拡大図
である。

この磁気ヘッドにおいては、コア基体部１１゜１２が酸
化物磁性体、例えばＭｎ　−Ｚｎフェライトで形成され
、このコア基体部１１．１−２の接合面を斜めに切り欠
いた金属磁性膜形成面１１ａ。

１２ａには磁気ギャップとなる前部突合せ面から後部突
合せ面に至まで連続して高飽和磁束密度の金属磁性膜、
例えばＧｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非晶質合金膜よシなる金属磁性
膜１５．１４がスパッタ法により形成され、それぞれ磁
気コア半休２１．２２が構成されている。

ここで、各磁気コア半休２１．２２に形成される金属磁
性膜１３，１４の膜厚ｓＦｉ、その磁気コア半体２１．
２２の突合せ’ｍ−ｔ’ある接合面、すｉわち磁気ギャ
ップ形成面に露出し、トラック＠うより広く形成する。

すなわち、金属磁性膜の厚みバラツキや金属磁性膜同志
の多少の突合せずれが起こってもトラック幅Ｔｖ以上の
突合せ面を確保できるようにするためである。

そして、上述のごとく構成された一対の磁気コア半休２
１．２２をＳｉＯ□膜などのギャップ材を介し、金属磁
性膜同志を突合せ、磁気ギャップ１５となるように構成
される。

なお、一方の磁気コア半体１１にはコイル巻線用の窓１
９が形成されている。

また、接合面を斜めで切シ欠いた金属磁性膜形成７ｉｊ
１１ａ、１２ａに金属磁性膜１３，１４が形成され九残
シの部分には一対の磁気コア半体１１゜１２を接合する
丸めのガラス１６が充填されている。

本実施例では、さらに上述磁気ギャップ１５を形成した
磁気テープ対接面の両端部には、トラック輻〒ｖＹｃ残
して平行にトラック幅規制溝１７が形成され、この溝に
非磁性のセラミック１８が充填されてお）、金属磁性膜
ｊ３．１４の摩耗を防止するように構成されている。

このように、一対の磁気コア半休を接合後に、磁気テー
プ対接面からトラック幅加工を行うことによって、金属
磁性膜の厚みバフツキャ金属ｉ性膜同志の多少の突合せ
ずれが起こっても所望のトラック幅を高精度に規定でき
る。また、トラック＠Ｏ外儒の金属磁性膜部１３ａ、１
４ａが磁気テープ対接面Ｖｃｊｌ出しないため、隣接や
隣々接記録トラックからのクロストークが抑制され、配
分再生特性に優れた磁気ヘッドとなる。トラック幅規制
溝１７に充填されるセラミック１８はコア基体１１．１
２や金属磁性膜１５．１４との熱膨張係数の整合、密着
性および摩耗特性を考慮して選ばれる。

本実施例では、コア基体である１ｄｎ−Ｚｎ７ｚライト
の熱膨張係数が１１５〜１２　Ｑｘ　１０−’　／　℃
、硬度が６４０〜６７０ｋｇ／ｍｍ２のＭｎ−Ｚｎ７ｚ
ライト、金属磁性膜として用い之（：：Ｏ−Ｎ’）　−
Ｚｒ非晶貫合金震ＯＳ膨張係数が１１８〜１２０　Ｘ　
ｊ　Ｏ−’／℃、硬度が８５０〜９００　ｋｇ／　１ｍ
２である。

これだ対してトラック幅規制溝１７だ充填されるセラミ
ック１８は熱膨張係数が９０〜１２０Ｘ１０−’／℃、
硬度が５００〜８００　ｋｇ　／　ｍｍ’が適していた
。熱膨張係数についてはコア基体材料と同程度のものが
好ましいが、実験の結果低い方は８０ＸｔＯ−７／’Ｃ
程度まで適用可能であることがわかった。一方、硬度は
摩耗特性とは直接関連が見られなかったが、種々のセラ
ミック材では５００〜８００ｋｇ／ｍｍ’が適していた
。

具体的な材料としてはフォルステライト（２Ｍｇ○−５
ｔＯ，）をターゲットとしてスバッメした薄漢材料が適
していることを見出した。形成された漢はステアタイト
（ｋｇ　０−３ｉ　Ｏ□）が支配的で非晶質であった。

この非磁性保護膜はＭｎ−ｚｎ７エライトや非晶質磁性
合金と密着性もよく、磁気テープによる摩耗が磁気コア
基体よう若干速い材料となっている丸めテープタッチが
良好で、構成材料による備摩耗も少なかつ九。また、透
明な膜であるため磁気ヘッドコアの側面からギャップ深
さを容易１ｃ測定できる利点もある。他だ、適用できる
材料として、Ｔ１０．−ＣａＯ系、τ１ｏ２−　ＮｉＯ
系。

Ｍｎ０−Ｎｉ０系のスパッメ属などがある。

磁気ヘッドの構造としては、第１図Ａ、Ｈに示すように
、円弧状の磁気テープ摺接面Ｆｉ１０〜２５μｍのトラ
ック幅！Ｗからなり、磁気ギャップ１５を介して菱形の
金属磁性膜１５．１４と１ｉｉｎ−Ｚｎ　７エライト１
１，１２からなっている。その側部にセラミック１８が
充填され、コア幅　〒は１２０〜１８０４ｍ　Ｋ切断さ
れ、コイル巻線窓１９をとうしてコイルが巻装され磁気
ヘッドが完成する。なお、切５ｊｌ＄２０はコイル固定
用の溝である。

く実施例２〉 第２図（ａ）および第２図０）は本発明の他の実施例を
示す磁気ヘッドコアの斜視図ンよび磁気テープ摺接面拡
大図である。磁気ヘッドの構成は実施例１とほぼ同じで
ある。

本実施例では、磁気ヘッドのコア厚みが、トラック＠？
Ｗ％磁気テープ摺接面のニア幅Ｔ′および後部コア幅！
から構成されている。このよう表構造とすることで、磁
気テープとの接触をさらに好適ＫＬ、テープ・ヘッド間
のコンタクトが大幅に改善され、記録再生特性が向上す
る。トラック幅は、＠に広い方は制限なく、狭ｉ方でも
切）込み深さを３０〜５０μｍとすれば、５μｍ程度ま
で可能である。磁気テープ摺接面のコアＩＩ　Ｔ’は６
０〜１００μｍが好適である。６０μｍ以下にするとテ
ープ摺動摩耗が激しくなシ、ヘッド寿命が短く々りて好
ま′シ＜ない、１００μｍ以上にするとテープタッチが
徐々に悪く々る。後部コア幅は１２０〜２００μｍが好
適である。１２０μｍ以下にすると、磁気コア全体の磁
気抵抗が増加し、効率が悪くなる。また、機械的強度も
劣化する。

２００μｍ以上にすると、コアのインダクタンスが必要
以上に大きくなるため好ましくない。

〈実施例３〉 第５図は本発明のさらに他の磁気ヘッドコアの斜視図で
ある０本実施例はコア基体Ｉｆ、１２として、非磁性材
料を用い、金属磁性材料１５．１４のみで磁気回路を構
成するものである。このような構造にすれば、コア基体
をフェライトとした場合に比べ、摺動雑音がないためＳ
／Ｎが向上する。

非磁性材料としては、αＦｅｄ、Ｍｎ０−Ｎｉｐ。

テ１０２−）Ｊｉｏ、Ｍｇ０−Ｎｉｐ、ＣａＯ・３！１
０などが用いられる。熱膨張係数は１００〜１３０×１
０−’／’Ｃの範囲が好ましい。

一方、磁気回路が金属磁性膜で構成されるため、効率を
確保するために、磁性膜くの厚さＳは３０μｍ以上とす
るのが良い。

〈実施例４〉 第４図から第７図は、本発明のその他の実施例を示すヘ
ッド摺接面拡大図である。

第４図は金属磁性膜１５（１４）と非磁性絶縁膜２４を
交互に多層化して、金属磁性膜における渦電流損失を低
減し、高周波領域まで適用できる構造としたものである
。

第５図はトラック幅規制溝に非磁性金属膜２５を形成し
た後、非磁性セラミック材１８を充填した構造を示す。

これは金属磁性１［１３，１４とセラミック材１ａとの
密着性の改善、あるいは反応防止の効果がある。

Ｉｇ６図円筒状の磁気テープ摺接面に非磁性セライック
１８を形成し、磁気ギャップ１５の近傍のみをテープ・
ラッピングして露出した構造を示す。

この構造は磁気テープとの摺動特性、耐摩耗特性向上に
効果がある。

第７図は基体１１，１２の金属磁性膜形成面１１ａ、１
２ａを山形に加工して金属磁性膜１３．１４を形成した
構造を示す、このように、斜面形状は種々の形をとるこ
とができる。

〈実施例５〉 次に、第８図から第１５図によって本発明よる磁気ヘッ
ドの製造方法の一例を工程順序にしたがって説明する。

１）第８図（ａ）および第８図（’ｂ）は、例えばＭｎ
−Ｚｎフェライト等の酸化物磁性基板５ｏの上面３０　
ａ、すなわちこの酸化物磁性基、［５０Ｋシける磁気コ
ア半休突き合わせた時の接合面に１回転砥石だよシ断面
略Ｖ字状の切シ溝３１を全幅にわたって複数平行に形成
し、磁性薄膜形成面３１ａを形成し、磁気コア半休ブロ
ック４０とする工程である。

鵬）第９図（ａ）および第９図（ｂ）は、磁性薄膜形成
面３１ａを含む基板３ａの上面５０ａ全面にわたって７
９−　Ａｘ　−Ｓｉ系合金や、非晶質合金をスパッタリ
ング等の真空薄膜形成技術を用いて被着し、磁性金属薄
膜３２を形成する工程である。

上記金属磁性膜３２の材質としては非晶質磁性合金、例
えば、ｒ・、　　Ｃｏ、　　Ｎｉの少なくとも一種の元
素ＶＣＺｒ、　Ｗｂ、　　テａ、　　Ｈちテｉ、　Ｗ、
　Ｃｒ、　　Ｍ。

を含んだメタル−メタル系非晶質磁性合金からなる。あ
るいは、Ｆｅ−９ｉ−に１系合金、Ｆｅ−Ｃ−Ｍ　（Ｍ
＝Ｈｆ、　Ｚｒ、　　Ｔａ、　Ｔｉ、　Ｎｂ　）系から
なる微細な多結晶合金からなる。

置）第１０図（＆）および第１０図（ｂ）は、磁性金属
薄膜５２が被着されたＶ字状溝３１内に接合用ガラス３
３を溶職して充填した後、上記基板３，１０上面３０ａ
を平面研削し、平滑度よく面出しを行い、上記基板５０
の上面５０ｔｓに上記磁性薄膜形成面３１ａ上Ｉｆ−黴
着される磁性金属薄膜３２の１面３２ａを露出させる工
程である。

ｌｖ）第１１図は、一方の磁気コア半休ブロックＳＯ＜
前記７字状溝５１に直交する方向にコイル巻線溝５５を
設ける工程である。コイル巻線溝３５は前記７字状溝５
１よりも深く形成される。この時溝部の金属磁性膜３２
の一部は削シ取られる。

なお、この工程を、工程１）の前か、もしくは工程１）
の直後に行えば、コイル巻線溝の内壁に金属磁性膜を残
すことが可能である。このような工程は、コア基体に非
磁性材料を用いる場合に適している。このようにすれば
、金属磁性材料のみで磁気回路を形成できる。

次に、上述のような工程忙よシ作製される一対の磁気コ
アブロック４０．５０のうち、少なくとも一方の磁気コ
アブロックの接合面Ｂｏａに磁気ギャップ形成用の非磁
性薄膜が被着される。例えば、ｓｉ　ｏ２．＾１．０３
．　ＺｒＯ２，〒ｉｏｎ、Ｃｒをスパッタ法だよ〕形成
する。（図示せず、）Ｖ）続いて、第１２図（ａ）およ
び第１２図（ｂ）に示すようと、これら磁気コアブロッ
ク４０．５０を上記金属薄膜３２の端面３２ａ同士が突
き合わされるように接合配置する。そして、７字状溝に
充填されているガラス５Ｓにより、これら磁気コアブロ
ック４０、および５０を溶着し、接合ブロック６０を得
る。

このとき、磁気ギャップ３６の幅ｔは最終的なトラック
幅′ｒＷよシも広くしておけば、第１２図（ｂ）　ｌｔ
ｃ示すように突合せずれがあってもよい。

Ｖｌ）８１５図は、前記工程■）で得られた接合ブロッ
クの磁気テープ摺接面を所定のギャップ深さＤｔで円筒
状に成形する工程である。ここで、円筒の曲率Ｒは４〜
８ｍｍとした。また、ギャップ深さＤは最終のギャップ
深さｄよりも若干深く残しておく。例えば、最終ギャッ
プ深さｄを１５μｍとする場合には３０〜４０μｍＫ（
、ておくと良い。

ｖｉ）第１４図は、工程ｖｌ）で得られた接合ブロック
の磁気テープ摺接面疋おいて、磁気ギャップ部に、所定
のトラック＠Ｔｖを残して、両１部に平行な＃１１３７
を形成する工程である。この時の溝深さはキャップ深さ
Ｄより若干（数十ミクロン）深くしてシく。

Ｖｉｌ）第１５図は、前記溝３７にセラミック材３８を
スパッタ法によシ充填する工程である。なお、セラミッ
ク材５Ｂは磁気テープ摺接面の全面にわたって形成され
る。

次に、点線示す部分で切断すること忙よって、厚さＴＯ
複数個の磁気ヘッドコアを得る。

しかる後、ギャップ深さｄまで磁気テープ摺接面を研磨
テープでラッピングすることによって、不用のセラミッ
ク部を除去しながら所要の形状に成形し、第１図のよう
な磁気ヘッドを完成する。

なお、このとき磁気コアブロック４０および５０に対す
る切断方向を突合せ面に対して傾斜させることにより、
アジマス記録層の磁気ヘッドを作製することができる。

以上、製造工程の一例を工程厭序によって説明したが、
必ずしも同一でなくとも製造可能である７例えば、工程
ｖｌ）のトラック幅規制の形成を工程Ｖｌ）Ｃ１円筒状
研削の前に行い、工程ｖｉｄ）のセラミック材３８を形
成した後に工程ｖｌ）を行ってもよい。

〔発明の効果〕

以上に説明したごとく、本発明は２個のコア基体の突合
せ面に対して傾斜した溝を形成し、この溝に金属磁性膜
を配し、ギャップ材を介して接合一体化した後に１磁気
２アの磁気テープ対接面からトラック幅加工を行った構
造となっているので、前工程での溝ピッチや金属磁性膜
の等のバラツキにかかわらずトラック幅精度の高い磁気
ヘッドを得ることができる。

また、前記トラック幅加工を行った後、トラックの両端
の溝にセラミックを充填することによって、ガラスなど
を充填するよりも気泡の発生やコア形状に切断する際の
欠け、チッピングが極端に低減する。特に、セラミック
材の中でフォルステライト（２ＭｇＯ−３１０□）もし
くはステアメイト（ＭｇＯ−５ｉｎ２）はコア基体とす
るｕｎ−ＺｎフェライトやαＦ′、２０３　と熱膨張係
数がほぼ一致し、欠けや剥離を生じない、さらに、磁気
テープとの摺動においてコア基体よ）も若干摩耗しやす
い性質を持っているためテープタッチが良好で、偏摩耗
も少ない、また、作用は明らかでないが、塗布型のａ気
テープ、蒸着テープ共に走行性に優れているという効果
がある。

また、磁気テープ摺接面において、トラック幅以外の部
分に溝を形成し、この溝にセラミックが充填されている
のでトラック幅の外側にはみ出している磁性体部だよる
隣接、隣々接トラックからのクロストークの発生が抑制
される。また、本発明によれば、光学トラック幅＝実効
トラック幅（記録時、再生時の実効トラック＠）となる
。

また、本発明によれば磁気ヘッドの製造工程が簡略化さ
れ、歩留まりも大幅に向上する。

【図面の簡単な説明】

第」図（ａ）および（ｂ）Ｆｉ本発明の磁気ヘッドの一
実施例を示す外観斜視図、および磁気ヘッド摺接面を示
す要部拡大平面図、第２図（＆）および０）は本発明の
他の磁気ヘッドの一実施例を示す外観斜視図、および磁
気ヘッド摺接面管示す要部拡大平面図、第３図は本発明
のさらに他０磁気ヘッドの一実施例を示す外観斜視図、
第４図から第７図は本発明で得られる他のｉ々の磁気ヘ
ッド摺接面管示す要部拡大平面図、第８因から第１５図
は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一例を工程順序に従
って示すものであシ、第８図（ａ）はコア基体に傾斜し
た磁性膜を形成するために略Ｖ字状の溝の形成工程を示
す概略斜視図、第８図（ｂ）は７字状溝の側面を示す拡
大断面図、第９図（ａ）は金属磁性簾形成工程を示す概
略斜視図、第９図（ｂ）は７字状溝の側面を示す拡大断
面図、第１０図（ａ）は金属磁性膜の端面を出すための
平面研削、研磨工程を示す概略斜視図、第１０図（ｂ）
は７字状溝の側面を示す拡大平面図、第１１図はコイル
巻線溝を形成工程を示す概略斜視図、第１２１１（ａ）
＃ｉ−対ノ対気磁気コアブロックラスによって接合し、
接電ブロックを得る工程を示すｆｉ絡斜視因、第１２因
Ｃｂ＞は磁気ギャップ部の接合状態を示す磁気テープ摺
接面の拡大平面図、第１３茗は磁気テープｍ接面を円筒
状に成形する工程を示す磁気ヘッド生磁路平面図、第１
４図は磁気テープ摺接面において所足のトラック幅形成
工程を示す概略斜視図、第１５図は第１４図で形成した
トラック幅側面の溝にセラミック材を充填すると共に１
点伝部で切断し、複数個の磁気ヘッドコアを得る工程を
示す概略斜視図、第１６図は従来の磁気ヘッドＯ斜視図
、第１７図から第２４図は従来Ｏ磁気ヘッドの製造方法
を一例を工程順序に従って示す工程概略図である。 １１．１２・・・コア基体、　１１．　１２．　５１．
　３１・・・金属磁性膜形成面（傾斜溝）、１５．　　
［４，５２・・・金属磁性膜、１５．５６・・・磁気ギ
ャップ、１６゜５５・・・ガラス、１７．５７・・・ト
ラック幅規制溝、ＴＷ・・・トラック幅％　１Ｂ、５訃
・−セラミック材、１９．３５・・・コイル壱ｉ溝、２
０・・・コイル固定溝、２１．２２，４０．５０　・・
・　磁気コア半休、ギャップ深さ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方にコイル巻線用の溝を有する２個の
   コア基体の突き合わせ部分に金属磁性膜を配し、該突き
   合わせ面にギャップ材を介して接合一体化してなる磁気
   ヘッドコアにおいて、前記コア基体突き合わせ面に傾斜
   した溝を設け、該溝に金属磁性膜を形成し、該金属磁性
   膜の厚みをトラック幅より広く形成し、２個のコア基体
   の金属磁性膜面を突き合わせ磁気コアとし、該磁気コア
   の磁気テープ対接面において、少なくともギャップ深さ
   までトラック幅を残して平行に除去し、該トラック幅側
   面に非磁性セラミック材を配してなることを特徴とする
   磁気ヘッド。 ２、前記非磁性セラミック材がフォルステライト（２Ｍ
   ｇＯ−ＳｉＯ＿２）もしくはステアタイト（ＭｇＯ−Ｓ
   ｉＯ＿２）であることを特徴とする請求項１記載の磁気
   ヘッド。 ３、コア基体がＭｎ−Ｚｎフェライトからなり、金属磁
   性合金がＣｏ系非晶質合金膜からなっていることを特徴
   とする請求項１または２記載の磁気ヘッド。 ４、コア基体がαＦｅ＿２Ｏ＿３からなり、金属磁性合
   金がＣｏ系非晶質合金膜からなっていることを特徴とす
   る請求項１または２記載の磁気ヘッド。 ５、コア基体の突き合わせ面に、該突合せ面に対して傾
   斜した溝を形成し、該溝に被着された金属磁性膜の突合
   せ面を磁気ギャップとする磁気ヘッドにおいて、上記コ
   ア基体となるブロックに形成した傾斜溝に金属磁性膜を
   被着する工程、前記溝にガラスを充填する工程、突合せ
   面を研磨し余分なガラスおよび金属磁性膜を除去する工
   程、少なくとも一方のコア基体ブロックにコイル巻線用
   の溝を、前記傾斜溝に直交して形成する工程、ギャップ
   形成材を介して金属磁性膜を突き合わせて接合し、接合
   ブロックを形成する工程、所定のギャップ深さまでテー
   プ対接面を円筒状に成形する工程、しかる後、トラック
   幅を残して両端に平行な溝を形成する工程、前記溝にス
   パッタもしくは蒸着によってセラミック材を充填する工
   程、しかる後所定のコア幅に切断する工程を有すること
   を特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法。 ６、前記接合ブロックのテープ対接面を、所定のギャッ
   プ深さまで円筒状に成形し、テープ対接面にトラック幅
   を残して両端に平行な溝を形成する工程を経た後、該溝
   に非磁性金属膜を形成する工程、しかる後、該溝にスパ
   ッタもしくは蒸着によってセラミック材を充填する工程
   を有することを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの
   製造方法。