JPH04307443A - 光ディスク用原盤およびその製造方法 - Google Patents
光ディスク用原盤およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04307443A JPH04307443A JP3072915A JP7291591A JPH04307443A JP H04307443 A JPH04307443 A JP H04307443A JP 3072915 A JP3072915 A JP 3072915A JP 7291591 A JP7291591 A JP 7291591A JP H04307443 A JPH04307443 A JP H04307443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- optical disc
- optical disk
- optical
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
- B29C45/2632—Stampers; Mountings thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオディスク、ディ
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク用原盤および
その製造方法に関するものである。
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク用原盤および
その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に光ディスクは、その情報密度が極
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、ビデオディスクと
して商品化され、ディジタル信号記録、再生する光ディ
スクとしても近年研究開発が行なわれている。
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、ビデオディスクと
して商品化され、ディジタル信号記録、再生する光ディ
スクとしても近年研究開発が行なわれている。
【０００３】以下、図面を参照しながら上述した従来の
光ディスク用原盤およびその製造方法について説明する
。図３は従来の光ディスク用原盤およびその光ディスク
用原盤を用いての光ディスクの製造方法を示す工程の断
面図、図４は光ディスクの製造工程ブロック図、図５は
従来の光ディスク用原盤の表面を示す断面図である。 図３において１はガラス基板、２はレジスト膜、３は記
録用レーザ光、４は記録された信号部、５は導電金属薄
膜、６はメッキ被膜、７は樹脂基板、８は反射膜、９は
保護膜であり、図５において１０はニッケル金属分子で
ある。
光ディスク用原盤およびその製造方法について説明する
。図３は従来の光ディスク用原盤およびその光ディスク
用原盤を用いての光ディスクの製造方法を示す工程の断
面図、図４は光ディスクの製造工程ブロック図、図５は
従来の光ディスク用原盤の表面を示す断面図である。 図３において１はガラス基板、２はレジスト膜、３は記
録用レーザ光、４は記録された信号部、５は導電金属薄
膜、６はメッキ被膜、７は樹脂基板、８は反射膜、９は
保護膜であり、図５において１０はニッケル金属分子で
ある。
【０００４】光ディスク用原盤および光ディスクを作製
するには、図３および図４に示すようにまず基台となる
ガラス基板１の洗浄を行い、その上にスピン法により感
光剤となるレジスト膜２を形成ａし、記録装置のレーザ
光３で信号を露光記録し、現像ｂを行なうことにより信
号部４を形成する。次に蒸着法等によりメッキを施すた
めのニッケルあるいは銀等の導電金属薄膜５を５０〜１
００ｎｍの厚みで形成ｃし、その上から無電解あるいは
電解メッキ等によりメッキ被膜を０．２ 〜０．４ ｍ
ｍの厚みで形成ｄし、これをガラス基板から剥離し洗浄
等によりレジスト膜を取り除くことによりスタンパーと
呼ばれる光ディスク原盤（ｅ） が出来る。このスタン
パーを成形金型に取り付け射出成形や射出・圧縮成形を
行なうことにより樹脂基板７に信号を転写ｆし、蒸着法
等により信号面側に金やアルミニュウム等の反射膜ある
いは記録膜８を形成ｇし、その上に傷防止のための保護
膜９を形成ｈすることにより、光ディスク用原盤ならび
に光ディスクが出来上がるものである。
するには、図３および図４に示すようにまず基台となる
ガラス基板１の洗浄を行い、その上にスピン法により感
光剤となるレジスト膜２を形成ａし、記録装置のレーザ
光３で信号を露光記録し、現像ｂを行なうことにより信
号部４を形成する。次に蒸着法等によりメッキを施すた
めのニッケルあるいは銀等の導電金属薄膜５を５０〜１
００ｎｍの厚みで形成ｃし、その上から無電解あるいは
電解メッキ等によりメッキ被膜を０．２ 〜０．４ ｍ
ｍの厚みで形成ｄし、これをガラス基板から剥離し洗浄
等によりレジスト膜を取り除くことによりスタンパーと
呼ばれる光ディスク原盤（ｅ） が出来る。このスタン
パーを成形金型に取り付け射出成形や射出・圧縮成形を
行なうことにより樹脂基板７に信号を転写ｆし、蒸着法
等により信号面側に金やアルミニュウム等の反射膜ある
いは記録膜８を形成ｇし、その上に傷防止のための保護
膜９を形成ｈすることにより、光ディスク用原盤ならび
に光ディスクが出来上がるものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、光ディスク用原盤の表面がニッケル等の
単一金属分子で構成されるため、硬度が低く傷つき易い
。また表面の摩擦が大きいため成形時の溶解樹脂が流れ
難く、従って成形時のガス等の巻き込みにより光ディス
ク基板の複屈折が大きくなり、また信号面上に断層等の
不良が発生しやすい。
うな構成では、光ディスク用原盤の表面がニッケル等の
単一金属分子で構成されるため、硬度が低く傷つき易い
。また表面の摩擦が大きいため成形時の溶解樹脂が流れ
難く、従って成形時のガス等の巻き込みにより光ディス
ク基板の複屈折が大きくなり、また信号面上に断層等の
不良が発生しやすい。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、光デ
ィスク用原盤の信頼性を向上し、寿命を長くするだけで
なく、成形時の光ディスク基板の品質を著しく向上する
ことが出来る光ディスク用原盤およびその製造方法を提
供するものである。
ィスク用原盤の信頼性を向上し、寿命を長くするだけで
なく、成形時の光ディスク基板の品質を著しく向上する
ことが出来る光ディスク用原盤およびその製造方法を提
供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光ディスク用原盤およびその製造方法は、光
ディスク用原盤作製工程において、メッキ被膜作製のた
めの導電金属薄膜形成時に、２種類以上の異種金属を同
時に蒸着法等により形成するものである。
に本発明の光ディスク用原盤およびその製造方法は、光
ディスク用原盤作製工程において、メッキ被膜作製のた
めの導電金属薄膜形成時に、２種類以上の異種金属を同
時に蒸着法等により形成するものである。
【０００８】
【作用】本発明は上記した構成によって、光ディスク用
原盤の表面硬度を上げることにより、光ディスク用原盤
表面を傷つき難く、また成形時の光ディスク用原盤表面
の溶解樹脂の流れを流れ易くしたため、光ディスク用原
盤の寿命を延ばし、かつ転写効率を向上することにより
光ディスクの品質を向上させることが出来る。
原盤の表面硬度を上げることにより、光ディスク用原盤
表面を傷つき難く、また成形時の光ディスク用原盤表面
の溶解樹脂の流れを流れ易くしたため、光ディスク用原
盤の寿命を延ばし、かつ転写効率を向上することにより
光ディスクの品質を向上させることが出来る。
【０００９】
【実施例】以下本発明の光ディスク用原盤およびその製
造方法の実施例について、図１および図２を参照しなが
ら詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施例におけ
る光ディスク用原盤の製造のための蒸着装置のブロック
図であり、図２は本発明の第１の実施例における光ディ
スク用原盤の表面断面図である。図１および図２におい
て１１は蒸着装置のカバー、１２はガラス基板を回転す
るための回転用モータ、１３はガラス基板を取り付ける
ためのターンテーブル、１４はガラス基板、１５はシャ
ッター、１６は蒸着装置のチャンバー、１７はニッケル
ターゲット、１８はクロムターゲット、１９はニッケル
金属分子、２０はクロム金属分子である。
造方法の実施例について、図１および図２を参照しなが
ら詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施例におけ
る光ディスク用原盤の製造のための蒸着装置のブロック
図であり、図２は本発明の第１の実施例における光ディ
スク用原盤の表面断面図である。図１および図２におい
て１１は蒸着装置のカバー、１２はガラス基板を回転す
るための回転用モータ、１３はガラス基板を取り付ける
ためのターンテーブル、１４はガラス基板、１５はシャ
ッター、１６は蒸着装置のチャンバー、１７はニッケル
ターゲット、１８はクロムターゲット、１９はニッケル
金属分子、２０はクロム金属分子である。
【００１０】以下図面を用いてその説明を行なう。本発
明の光ディスク用原盤は、露光記録および現像した後の
導電薄膜形成工程において、図２に示すようにニッケル
金属分子にクロム金属分子を混在して形成するものであ
る。すなわち、信号を露光記録し現像した後のガラス基
板１４を図１に示すような蒸着装置のターンテーブル１
３に取り付け、チャンバー１６内を１０−２パスカル以
上の真空にした後、アルゴンガス等の注入により１０−
１パスカル程度にし、ガラス基板１４とニッケルターゲ
ット１７およびクロムターゲット１８間に各々電圧を加
えシャッター１５を開けることにより、ガラス基板１４
上に図２に示すようなニッケル金属分子１９に対しクロ
ム金属分子２０が３０％以上を占める金属薄膜を形成す
るものである。この金属薄膜形成後に従来と同じように
無電解あるいは電解メッキを施すことにより、スタンパ
ーと呼ばれる光ディスク用原盤を作製するものである。
明の光ディスク用原盤は、露光記録および現像した後の
導電薄膜形成工程において、図２に示すようにニッケル
金属分子にクロム金属分子を混在して形成するものであ
る。すなわち、信号を露光記録し現像した後のガラス基
板１４を図１に示すような蒸着装置のターンテーブル１
３に取り付け、チャンバー１６内を１０−２パスカル以
上の真空にした後、アルゴンガス等の注入により１０−
１パスカル程度にし、ガラス基板１４とニッケルターゲ
ット１７およびクロムターゲット１８間に各々電圧を加
えシャッター１５を開けることにより、ガラス基板１４
上に図２に示すようなニッケル金属分子１９に対しクロ
ム金属分子２０が３０％以上を占める金属薄膜を形成す
るものである。この金属薄膜形成後に従来と同じように
無電解あるいは電解メッキを施すことにより、スタンパ
ーと呼ばれる光ディスク用原盤を作製するものである。
【００１１】ここで金属薄膜がクロム金属分子３０％、
ニッケル金属分子７０％から成る光ディスク用原盤と、
ニッケル金属分子のみで構成される従来の光ディスク用
原盤との成形結果の違いを表１に示す。本発明の光ディ
スク用原盤は、従来の光ディスク用原盤に比べ表面硬度
が５割以上硬くなり、また複屈折率を５０％下げること
が出来たとともに光ディスク原盤の寿命を著しく延ばす
ことが出来た。
ニッケル金属分子７０％から成る光ディスク用原盤と、
ニッケル金属分子のみで構成される従来の光ディスク用
原盤との成形結果の違いを表１に示す。本発明の光ディ
スク用原盤は、従来の光ディスク用原盤に比べ表面硬度
が５割以上硬くなり、また複屈折率を５０％下げること
が出来たとともに光ディスク原盤の寿命を著しく延ばす
ことが出来た。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明は、光ディスク用原
盤作製工程において、メッキ被膜作製のための導電金属
薄膜形成時に、２種類以上の異種金属を同時に蒸着法等
により形成するため、光ディスク用原盤の表面硬度を上
げることが出来、従って光ディスク用原盤表面を傷つき
難く、また成形時の光ディスク用原盤表面の溶解樹脂の
流れが流れ易くなり、従って光ディスク用原盤の寿命を
延ばし、かつ成形時の転写効率の向上により、光ディス
クの品質を向上させることが出来ようにしたものである
。
盤作製工程において、メッキ被膜作製のための導電金属
薄膜形成時に、２種類以上の異種金属を同時に蒸着法等
により形成するため、光ディスク用原盤の表面硬度を上
げることが出来、従って光ディスク用原盤表面を傷つき
難く、また成形時の光ディスク用原盤表面の溶解樹脂の
流れが流れ易くなり、従って光ディスク用原盤の寿命を
延ばし、かつ成形時の転写効率の向上により、光ディス
クの品質を向上させることが出来ようにしたものである
。
【図１】本発明の第１の実施例における光ディスク用原
盤作製のための蒸着装置のブロック図
盤作製のための蒸着装置のブロック図
【図２】本発明の第１の実施例における光ディスク用原
盤の表面の断面図
盤の表面の断面図
【図３】従来の光ディスク用原盤およびその光ディスク
用原盤を用いての光ディスクの製造方法を示す工程の断
面図
用原盤を用いての光ディスクの製造方法を示す工程の断
面図
【図４】光ディスクの製造工程ブロック図
【図５】従来
の光ディスク用原盤の表面を示す断面図
の光ディスク用原盤の表面を示す断面図
１１ カバー
１２ 回転用モータ
１３ ターンテーブル
１４ ガラス基板
１５ シャッター
１６ 蒸着装置のチャンバー
１７ ニッケルターゲット
１８ クロムターゲット
１９ ニッケル金属分子
２０ クロム金属分子
Claims (3)
- 【請求項１】 光ディスク用原盤すなわちスタンパー
の信号表面に膜厚５０〜１００ｎｍの２種類以上の分子
が混在する金属薄膜を設けた光ディスク用原盤。 - 【請求項２】 光ディスク用原盤の製造工程において
、露光記録および現像した後に記録面上に蒸着法等によ
り同時に２種類以上の金属分子が混在する導電金属薄膜
を形成し、その上からメッキ被膜を形成することを特徴
とした請求項１の光ディスク用原盤の製造方法。 - 【請求項３】 蒸着法等で使用する２種類以上の金属
として、ニッケル金属とクロム金属を用い、薄膜形成時
の分子比率をクロムが３０％以上とすることを特徴とす
る請求項２の光ディスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072915A JPH04307443A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 光ディスク用原盤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072915A JPH04307443A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 光ディスク用原盤およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04307443A true JPH04307443A (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=13503127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3072915A Pending JPH04307443A (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 光ディスク用原盤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04307443A (ja) |
-
1991
- 1991-04-05 JP JP3072915A patent/JPH04307443A/ja active Pending
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