JPH0630172B2 - 光デイスク用スタンパの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （ａ）発明の技術分野 本発明は欠陥密度の少ない光ディスク用スタンパの製造
方法に関する。

（ｂ）技術の背景 光ディスクは大容量の情報記録が可能であり、情報の記
録と再生をディスク面と非接触の状態で行うことがで
き、また塵埃の影響を受けにくいなどの特徴を備えたメ
モリである。

すなわち磁気ディスクや磁気テープでは１ビットの情報
記録に数10平方μｍの面積を要するのに対し、光ディス
クの場合はレーザ光を直径約１μｍの微少スポットに集
光して記録を行うため、記録面積は１平方μｍ程度で足
りることになり、大容量記録が可能となる。

また対物レンズによつて絞り込まれるレーザ光のレンズ
端面からディスク面までの距離は１乃至２mmあるので磁
気ディスクで問題となるヘッドクラッシュの危険性は避
けることができ、従って長寿命化が可能となる。

また記録再生用のレーザ光は厚さが１mm程度の透明なカ
バーを通して絞り込まれるため記録媒体が露出しておら
ず、そのため汚染が避けられると共に、直径が１μｍ程
度のスポットも透明カバー上では直径が１mm程度の光ビ
ームであるため塵埃の存在が殆ど影響を及ぼさなくな
る。

本発明はかかる特徴をもつ光ディスクを製造する際に使
用するスタンパの製造方法に関するものである。

（ｃ）従来技術と問題点 第１図は光ディスク用スタンパの製造工程を示すもので
ある。

すなわち良く研磨した厚さが約５mmで直径が20乃至40cm
のガラス円板を基板とし、同図（Ａ）に示すようにこの
基板１の上にスピンコート法を用いてレジスト膜２を形
成する。

次にレーザ光をプリグルーブ位置およびトラックNo.や
セクタNo.などのアドレス位置に選択照射してレジスト
膜２を感光せしめ、これを現像することにより同図
（Ｂ）に示すようなプリグルーブ原盤３ができあがる。

次に同図（Ｃ）に示すように真空蒸着法によりプリグル
ーブ原盤３の上に厚さ数100 Åのニッケル（Ｎi ）蒸着
膜４を作り、更にこの蒸着膜４の上に同図（Ｄ）で示す
ように電解鍍金（以下略してメッキ）法により厚さ約30
0 μｍのＮi 層５を形成する。

このようにして作られたＮi 層５を同図（Ｂ）に示すプ
リグルーブ原盤３から剥離することで同図（Ｅ）に示す
ようなスタンパ６が完成する。

このようにして作られたスタンパ６はこれを鋳型とし、
レコード製作と類似の方法で合成樹脂を成型し、この合
成樹脂板の上に記録媒体層を形成することにより光ディ
スクが作られている。

本発明はかかる光ディスクの形成に使用するスタンパの
製造方法に関するものである。

ここでスタンパ６の必要条件は第１図（Ｂ）に示すよう
にレジスト膜２に形成されているプリグルーブやアドレ
スなどの情報が高精度に再現されていると共に、これか
ら情報の書込みが行われる位置例えばプリグルーブ位置
は平坦であつて欠陥の無いことが必要である。

その理由は記録媒体面に凹凸が存在すると読出しに当た
ってレーザ光が乱反射してノイズが増大すると共に情報
品質が著しく損なわれる。

そこでガラス基板１は平滑に研磨したものを使用すると
共に第１図（Ｃ）で示すレジスト膜２の上にＮi 蒸着膜
４を形成する工程においてもレジスト膜２との密着性を
向上するために基板１を加熱することが行われている。

然し、このように基板加熱を行いつつＮi の蒸着を行う
とレジスト膜２から揮発成分が発生してＮi 蒸着膜４の
中に混入すること、レジスト膜２とＮi 蒸着膜４とが何
らかの反応を起こすことなどが原因してＮi 蒸着膜が撥
水性を帯び、その次のＮi メッキ工程においてＮi 層５
とＮi 蒸着膜４との密着性が不完全となる。そのためス
タンパ６の形成のためにＮi 層５をプリグループ原盤３
から剥離するに当たつてＮi 蒸着膜４の一部がレジスト
２の上に残存し、そのためスタンパ６の欠陥数が多いと
云う問題がある。

この解決法としてＮi 蒸着膜４を形成した後に溶剤を使
用して膜面を洗浄することが考えられるが、Ｎi 蒸着膜
４の厚さが薄く、またレジストが一般の溶剤に対し容易
に溶解するため、洗浄などの表面処理を行えないと云う
問題があつた。

（ｄ）発明の目的 本発明の目的は光ディスク用スタンパの製作に当たって
プリグルーブ原盤の上に形成されているＮi 蒸着膜の撥
水性を除去してＮi メッキ層を形成する方法を提供する
にある。

（ｅ）発明の構成 本発明の目的は光ディスクのプリグルーブ原盤上にニッ
ケル蒸着膜を形成したる後、該原盤をニッケル鍍金液に
浸漬して回転させ、前記ニッケル蒸着膜の濡れ性を回復
させる前処理を行って後、ニッケルの電気鍍金を行うこ
とを特徴とする光ディスク用スタンパの製造方法により
達成することができる。

（ｆ）発明の実施例 スタンパ６の製作に当たっては成型面における欠陥は出
来うる限り少なくすることが必要であり、この見地から
Ｎi 蒸着膜４の形成に当たって密着性向上のための基板
１の加熱は必要である。

然りこの加熱処理によりＮi 蒸着膜４に撥水性を生じて
しまう。

発明者等は溶剤処理を行うことなく撥水性を除去する方
法として第１図（Ｃ）に示すＮi 蒸着膜４を形成したプ
リグルーブ原盤（以下略して蒸着基板）をＮi メッキ液
の中に浸漬し、回転処理を行うことにより撥水性が除去
できることを見いだした。

然しこの撥水性の除去は本質的なものではなく、水洗洗
浄を行ったのち乾燥処理を施せば再び元の撥水性が現れ
てくる。この理由は明瞭ではないが恐らくＮi 蒸着膜と
メッキ液との電位差および回転による撹拌効果に依って
メッキ液に添加してある界面活性剤が蒸着基板の表面に
析出して撥水性を消失させていると思われる。

但し蒸着基板の液中での回転は短時間では効果はなく、
少なくとも数10分に互って行うことが必要である。

この方法により、蒸着基板とＮi メッキ層との密着性は
向上し、第１図（Ｄ）で示すＮi 層５を剥離してスタン
パ６を作る際にＮi 蒸着膜４の残存による欠陥を無くす
ることができる。

以下実施例に就いて説明する。

プリグルーブ原盤にＮi 蒸着膜を形成する際の基板加熱
温度を140 ℃とし、この条件で蒸着して厚さ500 ÅのＮ
i 蒸着膜４を形成した。

この蒸着基板をスルフアミン酸ニッケルを主構成分とす
る市販のニッケルメッキ液に浸漬し100 RPM の回転数で
40分に互って回転させ、その後通常の方法でメッキを行
ってスタンパ６を作つたが欠陥密度は10程度であり、従
来と較べると遥かに少ない。

第２図はスタンパの欠陥密度と浸漬時間との関係を示す
もので、欠陥数はスタンパの表面をレーザスポットで走
査する場合に反射光の異常から計測した。

ここで蒸着基板の回転は100 RPM であるが、特性曲線７
より明らかなように欠陥密度は浸漬時間と共に減少して
一定値に近づく。

なおここで欠陥密度はスタンパ表面に生じている総ての
欠陥を計数したものであつて、特性曲線７の飽和値にお
いてはＮi 蒸着膜の剥離欠陥は見当たらない。

以上のように蒸着基板を液中に回転させると云う簡単な
処理を施すことにより、スタンパの欠陥を減らすことが
できる。

（ｇ）発明の効果 本発明はＮi 蒸着膜のプリグルーブ原盤への密着性向上
のために行う基板加熱に伴って生ずる撥水性を除去する
もので、本発明の実施により良質の光ディスクの製造が
可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）乃至（Ｅ）は光ディスク用スタンパの製造
工程を示す断面図また第２図はスタンパと浸漬時間の関
係図である。 図において １は基板、２はレジスト、３はプリグルー
ブ原盤、４はニッケル蒸着膜、５はニッケル層、６はス
タンパ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光ディスクのプリグルーブ原盤上にニッケ
   ル蒸着膜を形成したる後、該原盤をニッケル鍍金液に浸
   漬して回転させ、前記ニッケル蒸着膜の濡れ性を回復さ
   せる前処理を行って後、ニッケルの電気鍍金を行うこと
   を特徴とする光ディスク用スタンパの製造方法。