JPH0630170B2 - 光デイスク用原盤およびその製造方法 - Google Patents
光デイスク用原盤およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0630170B2 JPH0630170B2 JP59245051A JP24505184A JPH0630170B2 JP H0630170 B2 JPH0630170 B2 JP H0630170B2 JP 59245051 A JP59245051 A JP 59245051A JP 24505184 A JP24505184 A JP 24505184A JP H0630170 B2 JPH0630170 B2 JP H0630170B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- manufacturing
- photoresist
- optical disk
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はディジタルオーディオディスク（例えばコンパ
クトディスク）、ビデオディスク、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生、または消去可能
なディスクを製造するための光ディスク用の原盤および
その製造方法に関するものである。
クトディスク）、ビデオディスク、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生、または消去可能
なディスクを製造するための光ディスク用の原盤および
その製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎが大きく、ノイズが少ないことなどから情
報媒体として有望視され、ディジタルオーディオディス
クやビデオディスクとして商品化され、ディジタル信号
記録、再生、消去可能ディスクとしても近年研究開発さ
れている。
とや、Ｓ／Ｎが大きく、ノイズが少ないことなどから情
報媒体として有望視され、ディジタルオーディオディス
クやビデオディスクとして商品化され、ディジタル信号
記録、再生、消去可能ディスクとしても近年研究開発さ
れている。
第１図に一般的なディジタルオーディオディスクである
コンパクトディスクの概要を示す。
コンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にピ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。第１図において、１はディスク全体、２は樹
脂基板、３は樹脂基板に設けられたディジタル信号、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜上にコーテ
ィングされた保護膜、６はディスク読取面から照射され
る再生用の半導体レーザである。
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。第１図において、１はディスク全体、２は樹
脂基板、３は樹脂基板に設けられたディジタル信号、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜上にコーテ
ィングされた保護膜、６はディスク読取面から照射され
る再生用の半導体レーザである。
樹脂基板２は、一般的に射出成形や射出・圧縮成形など
の成形法で量産される。光ディスク用原盤はディスク形
成の際に必要な成形金型に取付かるものである。
の成形法で量産される。光ディスク用原盤はディスク形
成の際に必要な成形金型に取付かるものである。
第２図に従来の光ディスク用原盤とその製造方法を示
す。第２図ａ〜ｆは各々の工程における断面図である。
す。第２図ａ〜ｆは各々の工程における断面図である。
ガラス原盤７にフォトレジスト８が塗布され、レーザ露
光されたのち現像されディジタル信号９が記録される。
次に、Ｎiなどの金属薄膜１０が設けられ、Ｎｉメッキ
層１１が設けられる。その後、ガラス原盤を除去すれば
光ディスク用原盤１２が得られる。
光されたのち現像されディジタル信号９が記録される。
次に、Ｎiなどの金属薄膜１０が設けられ、Ｎｉメッキ
層１１が設けられる。その後、ガラス原盤を除去すれば
光ディスク用原盤１２が得られる。
この様にして得られた光ディスク用の原盤を成形金型に
取付け、ポリカーボネートなどの樹脂を射出成形し樹脂
基板を得る。この場合、一般的に原盤の面粗度は小さい
ため、原盤と樹脂との摩擦抵抗は大きくなり、原盤表面
での樹脂の流れが悪くなり、ディスク全体の複屈折率を
小さくすることが困難であり、樹脂の乱流による外観不
良など光学的な特性が悪くなるなどの問題点を有してい
た。
取付け、ポリカーボネートなどの樹脂を射出成形し樹脂
基板を得る。この場合、一般的に原盤の面粗度は小さい
ため、原盤と樹脂との摩擦抵抗は大きくなり、原盤表面
での樹脂の流れが悪くなり、ディスク全体の複屈折率を
小さくすることが困難であり、樹脂の乱流による外観不
良など光学的な特性が悪くなるなどの問題点を有してい
た。
発明の目的 本発明はこれらの問題点を解消するものであり光学的特
性の優れた光ディスクを形成するための光ディスク用原
盤およびその製造方法を提供するものである。
性の優れた光ディスクを形成するための光ディスク用原
盤およびその製造方法を提供するものである。
発明の構成 本発明は、ガラス原盤にフォトレジストを塗布し、記録
現像したのち、物理的または化学的な処理を施こし、原
盤表面を１０Å〜１００Åの面粗度にした光ディスク用
原盤およびその製造方法である。
現像したのち、物理的または化学的な処理を施こし、原
盤表面を１０Å〜１００Åの面粗度にした光ディスク用
原盤およびその製造方法である。
実施例の説明 第３図に本発明の光ディスク用原盤およびその製造方法
の一実施例を示す。第３図ａ〜ｇは各々の工程における
断面図である。
の一実施例を示す。第３図ａ〜ｇは各々の工程における
断面図である。
ガラス原盤７にフォトレジスト８が塗布され、レーザ露
光され、現像されて、ディジタル信号９が形成される。
その後、イオンボンバードにより第３図ｄに示されるよ
うにフォトレジストの表面を荒し、面粗度が１０Å〜１
００Åとなる表面の粗いフォトレジスト膜１３を形成す
る。次にＮi などの金属薄膜１４を設け、Ｎi メッキ層
１５を設ける。その後ガラス原盤を除去すれば光ディス
ク用原盤１６が得られる。この場合、フォトレジスト表
面状態がそのまま転写されるため、原盤表面の面粗度は
１０Å〜１００Åとなる。
光され、現像されて、ディジタル信号９が形成される。
その後、イオンボンバードにより第３図ｄに示されるよ
うにフォトレジストの表面を荒し、面粗度が１０Å〜１
００Åとなる表面の粗いフォトレジスト膜１３を形成す
る。次にＮi などの金属薄膜１４を設け、Ｎi メッキ層
１５を設ける。その後ガラス原盤を除去すれば光ディス
ク用原盤１６が得られる。この場合、フォトレジスト表
面状態がそのまま転写されるため、原盤表面の面粗度は
１０Å〜１００Åとなる。
この様にして得られた光ディスク用原盤を成形金型に取
付け、ポリカーボネートなどの樹脂にて射出成形すれ
ば、原盤表面の面粗度は１０Å〜１００Åと大きいた
め、原盤表面と樹脂との摩擦抵抗が小さくなり、樹脂の
流動性が良くなり、複屈折率の良化が図れ、樹脂の乱流
による外観的な不良などが発生しにくくなる。
付け、ポリカーボネートなどの樹脂にて射出成形すれ
ば、原盤表面の面粗度は１０Å〜１００Åと大きいた
め、原盤表面と樹脂との摩擦抵抗が小さくなり、樹脂の
流動性が良くなり、複屈折率の良化が図れ、樹脂の乱流
による外観的な不良などが発生しにくくなる。
光ディスク原盤の表面粗度に関して実験したがこれはＮ
i など金属薄膜の粒径とも関連があるが、電子顕微鏡に
おける観察の結果、１０Å〜１００Åが最適であること
が判明した。
i など金属薄膜の粒径とも関連があるが、電子顕微鏡に
おける観察の結果、１０Å〜１００Åが最適であること
が判明した。
フォトレジスト表面を荒くする処理方法としては、オゾ
ン洗浄、スパッタリング、逆スパッタリングなどの物理
的またはエッチング、電解洗浄、逆電解メッキなどの化
学的方法も有効であった。
ン洗浄、スパッタリング、逆スパッタリングなどの物理
的またはエッチング、電解洗浄、逆電解メッキなどの化
学的方法も有効であった。
発明の効果 以上のように本発明によれば、ガラス原盤にフォトレジ
ストを塗布し、記録，現像したのち、フォトレジスト表
面を荒くし、面粗度１０Å〜100Åの光ディスク用原盤
を設ければ、原盤表面と溶融樹脂との摩擦抵抗が小さく
なり、樹脂の流動性が良くなり、複屈折率も小さく、樹
脂の乱流による外観不良なども発生しないなど光学的特
性の優れた光ディスクを信頼性よく大量に安価に提供で
きるなどの効果がある。
ストを塗布し、記録，現像したのち、フォトレジスト表
面を荒くし、面粗度１０Å〜100Åの光ディスク用原盤
を設ければ、原盤表面と溶融樹脂との摩擦抵抗が小さく
なり、樹脂の流動性が良くなり、複屈折率も小さく、樹
脂の乱流による外観不良なども発生しないなど光学的特
性の優れた光ディスクを信頼性よく大量に安価に提供で
きるなどの効果がある。
第１図ａ，ｂ，ｃは光ディスクの一種であるディジタル
オーディオディスクの平面図、断面図、および要部拡大
図、第２図ａ〜ｆは従来の光ディスク用原盤およびその
製造工程を示す断面図、第３図ａ〜ｇは本発明の一実施
例を示す製造工程の断面図である。 １……ディスク、２……樹脂基板、３……ディジタル信
号、４……反射膜、５……保護膜、６……半導体レー
ザ、７……ガラス原盤、８……フォトレジスト、９……
ディジタル信号、１３……フォトレジスト、１４……ニ
ッケル薄膜、１５……ニッケルメッキ層、１６……光デ
ィスク用原盤。
オーディオディスクの平面図、断面図、および要部拡大
図、第２図ａ〜ｆは従来の光ディスク用原盤およびその
製造工程を示す断面図、第３図ａ〜ｇは本発明の一実施
例を示す製造工程の断面図である。 １……ディスク、２……樹脂基板、３……ディジタル信
号、４……反射膜、５……保護膜、６……半導体レー
ザ、７……ガラス原盤、８……フォトレジスト、９……
ディジタル信号、１３……フォトレジスト、１４……ニ
ッケル薄膜、１５……ニッケルメッキ層、１６……光デ
ィスク用原盤。
Claims (3)
- 【請求項１】信号面の表面が１０Å〜１００Åの面粗度
を有することを特徴とする光ディスク用原盤。 - 【請求項２】ガラス原盤にフォトレジストを塗布し、記
録現像してディジタル信号を形成したのち、上記フォト
レジスト表面を物理的または化学的処理を施こし、表面
の面粗度を１０Å〜１００Åにしたのち、Ｎi メッキ処
理を施こしてなることを特徴とする光ディスク用原盤の
製造方法。 - 【請求項３】フォトレジスト表面を荒くする処理方法と
して、オゾン洗浄、イオンボンバード、スパッタリン
グ、逆スパッタリングなどの物理的処理方法あるいはエ
ッチング、電解洗浄、逆電解メッキなどの化学的方法を
用いることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の光
ディスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245051A JPH0630170B2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245051A JPH0630170B2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123035A JPS61123035A (ja) | 1986-06-10 |
| JPH0630170B2 true JPH0630170B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=17127847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59245051A Expired - Lifetime JPH0630170B2 (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630170B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS606018B2 (ja) * | 1975-01-31 | 1985-02-15 | ソニー株式会社 | 情報記録媒体の製造方法 |
| JPS5690439A (en) * | 1979-12-20 | 1981-07-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | Material for reproducing optical signal records |
| JPS60182031A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Daicel Chem Ind Ltd | 情報記録原盤とその製造方法 |
| JPS61100425A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-19 | Sekisui Chem Co Ltd | プラスチツク成形用金型 |
| JPH0630173B2 (ja) * | 1984-11-07 | 1994-04-20 | 株式会社日立製作所 | 光デイスク用スタンパの作製方法 |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59245051A patent/JPH0630170B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61123035A (ja) | 1986-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050167867A1 (en) | Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs | |
| JPS59177744A (ja) | 記録再生用デイスク担体 | |
| JPH11515131A (ja) | 片面超高密度光ディスク | |
| JPS61123035A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JP3014065B2 (ja) | 光ディスク，ガラスマスタ，ガラススタンパ，ガラス基板，それらの製造方法 | |
| JPS61160850A (ja) | 光デイスク | |
| JPH10106047A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JPH08180457A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JP3655928B2 (ja) | 光ディスク基板及びそれを用いた光ディスク並びに金型 | |
| JPH09134547A (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0648551B2 (ja) | 光デイスク用原盤の製造方法 | |
| JPS61153850A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JPS59215036A (ja) | 光デイスク媒体 | |
| JPS5968848A (ja) | 光デイスク媒体 | |
| JPH097158A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH07272239A (ja) | 再生専用領域を含む磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2523947B2 (ja) | 光ディスクのスタンパ作製方法 | |
| JPH0461417B2 (ja) | ||
| KR100219690B1 (ko) | 광기록매체용 스탬퍼 | |
| JPH04307443A (ja) | 光ディスク用原盤およびその製造方法 | |
| JP2000348393A (ja) | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 | |
| JPH01286135A (ja) | 光ディスク | |
| JPS60197959A (ja) | 光デイスクの製造方法 | |
| JPH04146539A (ja) | 光ディスク | |
| JPH0332825A (ja) | スタンパ製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |