JPH04309256A - リードフレーム - Google Patents
リードフレームInfo
- Publication number
- JPH04309256A JPH04309256A JP3103055A JP10305591A JPH04309256A JP H04309256 A JPH04309256 A JP H04309256A JP 3103055 A JP3103055 A JP 3103055A JP 10305591 A JP10305591 A JP 10305591A JP H04309256 A JPH04309256 A JP H04309256A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dimple
- lead frame
- dimples
- island
- island portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体チップ製造に用い
られるリードフレームに関し、特に半導体チップを組み
付けるアイランド部にディンプル加工を施したリードフ
レームに関する。
られるリードフレームに関し、特に半導体チップを組み
付けるアイランド部にディンプル加工を施したリードフ
レームに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体チップの小型軽量化に伴い
、リードフレームも同様にコンパクト化の傾向にある。 また、このような半導体チップにおいては、封止効率の
向上による信頼性向上が要求される。このため、従来よ
り、リードフレームのアイランド部(半導体チップの組
み付け部)に凹部(ディンプル)を形成することによっ
て、モールド成型時に封止材を当該凹部に入り込ませ、
封止材とリードフレームの喰い付き、密着性を向上させ
ている。
、リードフレームも同様にコンパクト化の傾向にある。 また、このような半導体チップにおいては、封止効率の
向上による信頼性向上が要求される。このため、従来よ
り、リードフレームのアイランド部(半導体チップの組
み付け部)に凹部(ディンプル)を形成することによっ
て、モールド成型時に封止材を当該凹部に入り込ませ、
封止材とリードフレームの喰い付き、密着性を向上させ
ている。
【0003】図4には、従来のリードフレームのアイラ
ンド部の平面状態(ディンプル配置)が示されている。 図から分かるように、従来のリードフレームにおいては
、アイランド部10の片面に、プレス加工により略均一
にディンプル12が形成されている。これにより、モー
ルド成型時に封止材(図示せず)がディンプル12の凹
部に入り込み、リードフレームと封止材の喰い付き、密
着性が向上する。
ンド部の平面状態(ディンプル配置)が示されている。 図から分かるように、従来のリードフレームにおいては
、アイランド部10の片面に、プレス加工により略均一
にディンプル12が形成されている。これにより、モー
ルド成型時に封止材(図示せず)がディンプル12の凹
部に入り込み、リードフレームと封止材の喰い付き、密
着性が向上する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の方式では、ディンプル加工時の加工歪がア
イランド部に残留歪として残り、ディンプル加工側に凸
状の反りが発生するという問題点があった。すなわち、
一般にアイランドの反りは、実用上X軸,Y軸共に20
μm以下に抑える必要があるのに対し、従来のリードフ
レームの反りは、ディンプル深さを30μmとした場合
にX軸20〜30μm,Y軸70〜 100μm、ディ
ンプル深さを5〜10μmとした場合にX軸10〜20
μm,Y軸30〜40μmとなる。
ような従来の方式では、ディンプル加工時の加工歪がア
イランド部に残留歪として残り、ディンプル加工側に凸
状の反りが発生するという問題点があった。すなわち、
一般にアイランドの反りは、実用上X軸,Y軸共に20
μm以下に抑える必要があるのに対し、従来のリードフ
レームの反りは、ディンプル深さを30μmとした場合
にX軸20〜30μm,Y軸70〜 100μm、ディ
ンプル深さを5〜10μmとした場合にX軸10〜20
μm,Y軸30〜40μmとなる。
【0005】上記のような反りは、反対方向に突起物を
設けた修正駒で強制的に修正することも可能であるが、
修正可能な反り量は30〜40μmが限界であるため、
ディンプル深さ5〜10μmの場合の修正後のアイラン
ド反りは、一般的にX軸10μm、Y軸20μm程度が
限界とされている。
設けた修正駒で強制的に修正することも可能であるが、
修正可能な反り量は30〜40μmが限界であるため、
ディンプル深さ5〜10μmの場合の修正後のアイラン
ド反りは、一般的にX軸10μm、Y軸20μm程度が
限界とされている。
【0006】そして、上記のようなアイランド部の反り
は、チップボンディング不良や、ワイヤボンディング不
良、封止不良等を引き起こす原因となっていた。
は、チップボンディング不良や、ワイヤボンディング不
良、封止不良等を引き起こす原因となっていた。
【0007】他方、上記のような不都合を解決する手段
として、図5に示されているように、リードフレームの
両面にディンプルを形成し、アイランド表面の残留歪を
表裏で打ち消すことによって、反りを減少させる方法も
あるが、プレス加工時のバラツキにより量産上安定した
品質を得るのは困難である。また、ディンプルの加工方
法としては、プレス加工の他にエッチング加工による方
法もあり、エッチング加工によれば加工歪の影響が小さ
く所望の形状,深さのディンプルを形成することが可能
であるが、製造工程が複雑となり生産性が低下するとい
う不都合がある。
として、図5に示されているように、リードフレームの
両面にディンプルを形成し、アイランド表面の残留歪を
表裏で打ち消すことによって、反りを減少させる方法も
あるが、プレス加工時のバラツキにより量産上安定した
品質を得るのは困難である。また、ディンプルの加工方
法としては、プレス加工の他にエッチング加工による方
法もあり、エッチング加工によれば加工歪の影響が小さ
く所望の形状,深さのディンプルを形成することが可能
であるが、製造工程が複雑となり生産性が低下するとい
う不都合がある。
【0007】
【発明の目的】本発明はかかる点に鑑みてなされたもの
であり、リードフレームと封止材の密着性が高く、生産
性に優れ、且つディンプル加工によるアイランド反りの
ないリードフレームを提供することを目的とする。
であり、リードフレームと封止材の密着性が高く、生産
性に優れ、且つディンプル加工によるアイランド反りの
ないリードフレームを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、半導体チップを組み付けるためのアイラン
ド部の片面に、リードフレーム板厚の1/2程度(50
〜70μm)の深さにプレス成形された多数のディンプ
ル(凹部)よって各々構成される複数のディンプル領域
と、これら複数のディンプル領域の各々の間に、ディン
プル成形時にアイランド部に生じる残留歪みを緩衝する
ディンプル成形されない所定の非ディンプル領域とを備
えている。
するために、半導体チップを組み付けるためのアイラン
ド部の片面に、リードフレーム板厚の1/2程度(50
〜70μm)の深さにプレス成形された多数のディンプ
ル(凹部)よって各々構成される複数のディンプル領域
と、これら複数のディンプル領域の各々の間に、ディン
プル成形時にアイランド部に生じる残留歪みを緩衝する
ディンプル成形されない所定の非ディンプル領域とを備
えている。
【0009】
【作用】本発明は、上記のように複数のディンプル領域
の間に所定の非ディンプル領域を設けているため、プレ
ス加工によってアイランド部に生じる残留歪みが当該非
ディンプル領域において0となり、アイランド部全体の
反りが緩和される。従って、ディンプル加工後、修正駒
等による若干の修正を加えることにより、アイランド部
の反りが殆どなくなる。一方、ディンプルはリードフレ
ーム板厚の1/2程度(50〜70μm)と、従来の約
5倍の深さに成形しているため、封止材との密着性も高
い。 また、ディンプルはアイランド部の片面に、プレス加工
によって成形されるため、1回のプレス工程によって容
易に形成することができる。
の間に所定の非ディンプル領域を設けているため、プレ
ス加工によってアイランド部に生じる残留歪みが当該非
ディンプル領域において0となり、アイランド部全体の
反りが緩和される。従って、ディンプル加工後、修正駒
等による若干の修正を加えることにより、アイランド部
の反りが殆どなくなる。一方、ディンプルはリードフレ
ーム板厚の1/2程度(50〜70μm)と、従来の約
5倍の深さに成形しているため、封止材との密着性も高
い。 また、ディンプルはアイランド部の片面に、プレス加工
によって成形されるため、1回のプレス工程によって容
易に形成することができる。
【0010】
【実施例】次に、本発明の一実施例を添付図面を参照し
つつ詳細に説明する。図1には実施例に係るリードフレ
ーム20の全体の構造が示され、図2にはリードフレー
ム20の中央に形成されたアイランド部22の表面状態
(ディンプル配置)が示されている。なお、図1におい
ては、リードフレーム20として通常のデュアル・イン
ライン・パッケージ(DIP)タイプを一例として示す
が、半導体の用途によって種々の形状のリードフレーム
およびアイランド形状となることは言うまでもない。
つつ詳細に説明する。図1には実施例に係るリードフレ
ーム20の全体の構造が示され、図2にはリードフレー
ム20の中央に形成されたアイランド部22の表面状態
(ディンプル配置)が示されている。なお、図1におい
ては、リードフレーム20として通常のデュアル・イン
ライン・パッケージ(DIP)タイプを一例として示す
が、半導体の用途によって種々の形状のリードフレーム
およびアイランド形状となることは言うまでもない。
【0011】アイランド部22の片面には、複数のディ
ンプル24が、3つのブロック状に形成されている。そ
して、各ブロックの間に、1〜5mm程度の非ディンプ
ル領域26が設けられている。なお、ブロック数はアイ
ランド形状、大きさ、ディンプル数により変更すること
も可能である。
ンプル24が、3つのブロック状に形成されている。そ
して、各ブロックの間に、1〜5mm程度の非ディンプ
ル領域26が設けられている。なお、ブロック数はアイ
ランド形状、大きさ、ディンプル数により変更すること
も可能である。
【0012】上記のようなディンプル24は、アイラン
ド成型打抜きの前、あるいは後にディンプル・コイニン
グ加工を行うことによって成形する。成形されるディン
プル24の形状は、円錐形,四角錐形等の凹形状であり
、リードフレーム板厚の1/2程度の深さ(50〜70
μm)とする。
ド成型打抜きの前、あるいは後にディンプル・コイニン
グ加工を行うことによって成形する。成形されるディン
プル24の形状は、円錐形,四角錐形等の凹形状であり
、リードフレーム板厚の1/2程度の深さ(50〜70
μm)とする。
【0013】上記のように構成された実施例においては
、3つのディンプル領域の各々間に2つの非ディンプル
領域26を設けているため、プレス加工により生じる残
留歪が非ディンプル領域26で0となり、アイランド部
22全体の反りが緩和され、ディンプル深さ50〜70
μmのアイランド部の反りは15〜25μmとなる。従
って、ディンプル加工後、反りと反対方向への若干の修
正(0.3mm程度の突起を設けた修正駒によりプレス
加工時に修正)を加えることにより、アイランド部22
の反りがほとんどなくなる。一方、ディンプル24はア
イランド部22の片面にのみに形成しているが、リード
フレーム20の板厚の1/2程度(50〜70μm)と
、従来の約5倍の深さに形成しているため、封止材との
密着性も高く、また、1回のプレス工程によって容易に
成形することができる。
、3つのディンプル領域の各々間に2つの非ディンプル
領域26を設けているため、プレス加工により生じる残
留歪が非ディンプル領域26で0となり、アイランド部
22全体の反りが緩和され、ディンプル深さ50〜70
μmのアイランド部の反りは15〜25μmとなる。従
って、ディンプル加工後、反りと反対方向への若干の修
正(0.3mm程度の突起を設けた修正駒によりプレス
加工時に修正)を加えることにより、アイランド部22
の反りがほとんどなくなる。一方、ディンプル24はア
イランド部22の片面にのみに形成しているが、リード
フレーム20の板厚の1/2程度(50〜70μm)と
、従来の約5倍の深さに形成しているため、封止材との
密着性も高く、また、1回のプレス工程によって容易に
成形することができる。
【0014】図3には、本発明の他の実施例に係るアイ
ランド部28の表面状態(ディンプル配置)が示されて
いる。この例は、ディンプル24による周囲の輪郭部と
内部ブロックとの間に非ディンプル領域30を形成した
ものである。この実施例においても、上記図2に示した
実施例と同様の作用効果が得られる。
ランド部28の表面状態(ディンプル配置)が示されて
いる。この例は、ディンプル24による周囲の輪郭部と
内部ブロックとの間に非ディンプル領域30を形成した
ものである。この実施例においても、上記図2に示した
実施例と同様の作用効果が得られる。
【0015】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、ディンプル24の配置は、図2及び図3に
示されたものの他に、放射状等にしても良い。
のではなく、ディンプル24の配置は、図2及び図3に
示されたものの他に、放射状等にしても良い。
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるリー
ドフレームは、半導体チップを組み付けるためのアイラ
ンド部の片面に、リードフレーム板厚の1/2程度(5
0〜70μm)の深さにプレス成形された多数のディン
プル(凹部)よって各々構成される複数のディンプル領
域と、これら複数のディンプル領域の各々の間に、ディ
ンプル成形時にアイランド部に生じる残留歪みを緩衝す
るディンプル成形されない所定の非ディンプル領域とを
備えているため、ディンプル加工によるアイランド反り
を極小に抑えることができるという効果がある。また、
リードフレームの生産性が向上するとともに、寸法精度
の優れた高品質のリードフレームを提供できるという効
果もある。
ドフレームは、半導体チップを組み付けるためのアイラ
ンド部の片面に、リードフレーム板厚の1/2程度(5
0〜70μm)の深さにプレス成形された多数のディン
プル(凹部)よって各々構成される複数のディンプル領
域と、これら複数のディンプル領域の各々の間に、ディ
ンプル成形時にアイランド部に生じる残留歪みを緩衝す
るディンプル成形されない所定の非ディンプル領域とを
備えているため、ディンプル加工によるアイランド反り
を極小に抑えることができるという効果がある。また、
リードフレームの生産性が向上するとともに、寸法精度
の優れた高品質のリードフレームを提供できるという効
果もある。
【図1】図1は、リードフレームの全体構造を示す平面
図である。
図である。
【図2】図2は、実施例に係るリードフレームのアイラ
ンド部のディンプル配置を示す平面図である。
ンド部のディンプル配置を示す平面図である。
【図3】図3は、本発明の他の実施例に係るリードフレ
ームのアイランド部のディンプル配置を示す平面図であ
る。
ームのアイランド部のディンプル配置を示す平面図であ
る。
【図4】図4は、従来のリードフレームのアイランド部
のディンプル配置を示す平面図である。
のディンプル配置を示す平面図である。
【図5】図5は、従来のリードフレームのアイランド部
の構造を示す断面図である。
の構造を示す断面図である。
20 リードフレーム
22,28 アイランド部
24 ディンプル
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体チップを組み付けるためのアイ
ランド部を有するリードフレームにおいて、前記アイラ
ンド部の片面に、前記リードフレーム板厚の1/2程度
の深さにプレス成形された多数のディンプル(凹部)よ
って各々構成される複数のディンプル領域と、前記複数
のディンプル領域の各々の間に、前記ディンプル成形時
に前記アイランド部に生じる残留歪みを緩衝するディン
プル成形されない所定の非ディンプル領域とを備えたこ
とを特徴とするリードフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103055A JPH04309256A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | リードフレーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103055A JPH04309256A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | リードフレーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04309256A true JPH04309256A (ja) | 1992-10-30 |
Family
ID=14343990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103055A Pending JPH04309256A (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | リードフレーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04309256A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010192930A (ja) * | 2010-04-30 | 2010-09-02 | Rohm Co Ltd | アイランド露出型半導体装置 |
-
1991
- 1991-04-08 JP JP3103055A patent/JPH04309256A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010192930A (ja) * | 2010-04-30 | 2010-09-02 | Rohm Co Ltd | アイランド露出型半導体装置 |
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