JPH04309848A - 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 - Google Patents
発光分光分析方法及び発光分光分析装置Info
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- JPH04309848A JPH04309848A JP10383991A JP10383991A JPH04309848A JP H04309848 A JPH04309848 A JP H04309848A JP 10383991 A JP10383991 A JP 10383991A JP 10383991 A JP10383991 A JP 10383991A JP H04309848 A JPH04309848 A JP H04309848A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、発光分光分析方法及び
発光分光分析装置に関する。
発光分光分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】鋼の高純度化に伴い、鋼中の微量成分（
Ｃ，Ｐ，Ｓ，Ａｌ，Ｂ，Ｏ，Ｎ，Ｈ）の分析が必要にな
り、特にＣについては迅速性の点から発光分光分析方法
による測定が望まれている。Ｃの発光分光分析には例え
ばＣＩ１６５．８ｎｍ ，ＣＩ１９３．０ｎｍ 等の分
析線、Ｐの発光分光分析にはＰＩ１７８．３ｎｍ の分
析線、Ｓの発光分光分析にはＳＩ１８０．７ｎｍ の分
析線が用いられている。図５，図６，図７及び図８は、
ＣＩ１６５．８ｎｍ ，ＣＩ１９３．０ｎｍ ，ＰＩ１
７８．３ｎｍ 及びＳＩ１８０．７ｎｍ 夫々の分析線
における同一試料の温度と分析値との関係を示したグラ
フである。図５，図６，図７及び図８より試料温度の上
昇に伴い、発光強度が増加して分析値が増加しているこ
とが判る。特にＣＩ１６５．８ｎｍ の分析線について
は試料温度が１℃上昇すると分析値が略０．２ｐｐｍ増
加していることが判る。
Ｃ，Ｐ，Ｓ，Ａｌ，Ｂ，Ｏ，Ｎ，Ｈ）の分析が必要にな
り、特にＣについては迅速性の点から発光分光分析方法
による測定が望まれている。Ｃの発光分光分析には例え
ばＣＩ１６５．８ｎｍ ，ＣＩ１９３．０ｎｍ 等の分
析線、Ｐの発光分光分析にはＰＩ１７８．３ｎｍ の分
析線、Ｓの発光分光分析にはＳＩ１８０．７ｎｍ の分
析線が用いられている。図５，図６，図７及び図８は、
ＣＩ１６５．８ｎｍ ，ＣＩ１９３．０ｎｍ ，ＰＩ１
７８．３ｎｍ 及びＳＩ１８０．７ｎｍ 夫々の分析線
における同一試料の温度と分析値との関係を示したグラ
フである。図５，図６，図７及び図８より試料温度の上
昇に伴い、発光強度が増加して分析値が増加しているこ
とが判る。特にＣＩ１６５．８ｎｍ の分析線について
は試料温度が１℃上昇すると分析値が略０．２ｐｐｍ増
加していることが判る。
【０００３】このように発光分光分析においては、分析
値が試料調製時又は分析の複数回実施等により変化する
試料温度の影響を受けるという問題があった。試料温度
の変化に伴い、分析元素のスペクトル線強度が変動する
理由としては、■試料温度が高いと試料の消耗量が増大
し、放電カラム内の原子濃度が高くなりスペクトル線強
度が増大する、■雰囲気の種類によっては電極温度が高
い程、蒸発時の化学反応（酸化反応等）を促進し、発光
に寄与する原子数を減少させ、スペクトル線強度を減少
させる、■電極及びその周辺を外部より加熱する場合は
、放電カラム周囲の温度が上昇する、等が考えられてい
る。
値が試料調製時又は分析の複数回実施等により変化する
試料温度の影響を受けるという問題があった。試料温度
の変化に伴い、分析元素のスペクトル線強度が変動する
理由としては、■試料温度が高いと試料の消耗量が増大
し、放電カラム内の原子濃度が高くなりスペクトル線強
度が増大する、■雰囲気の種類によっては電極温度が高
い程、蒸発時の化学反応（酸化反応等）を促進し、発光
に寄与する原子数を減少させ、スペクトル線強度を減少
させる、■電極及びその周辺を外部より加熱する場合は
、放電カラム周囲の温度が上昇する、等が考えられてい
る。
【０００４】試料温度の変化に伴う発光強度の変動によ
る分析精度の低下を防止するために従来は次の方法が採
用されていた。■試料研磨後、試料を保持体に保持させ
る前にホットプレート等に試料を載せて試料を加熱した
り、空気を吹きつけて試料を冷却することにより試料温
度を一定にする。■試料温度を測定し、予め求めてある
発光強度又は成分分析値と試料温度との関係式により標
準温度における分析値に補正する。■の方法はレードル
内の溶鋼をサンプラーで採取し、冷却、切断してその切
断面を分析するレードル分析のように試料温度が高温の
場合に実施されており、特開昭６２−２２０８３５号公
報の発明がある。特開昭６２−２２０８３５号公報の発
明では、装置の放電部に埋め込んだ温度計の感温部によ
り試料温度が測定され、この測定値がデータ処理装置へ
入力されるようになっており、このデータ処理装置が発
光分光により得られた成分分析値を標準温度における分
析値に補正するようになっている。このとき試料温度は
分析前及び分析後に２回測定した平均値をとっている。
る分析精度の低下を防止するために従来は次の方法が採
用されていた。■試料研磨後、試料を保持体に保持させ
る前にホットプレート等に試料を載せて試料を加熱した
り、空気を吹きつけて試料を冷却することにより試料温
度を一定にする。■試料温度を測定し、予め求めてある
発光強度又は成分分析値と試料温度との関係式により標
準温度における分析値に補正する。■の方法はレードル
内の溶鋼をサンプラーで採取し、冷却、切断してその切
断面を分析するレードル分析のように試料温度が高温の
場合に実施されており、特開昭６２−２２０８３５号公
報の発明がある。特開昭６２−２２０８３５号公報の発
明では、装置の放電部に埋め込んだ温度計の感温部によ
り試料温度が測定され、この測定値がデータ処理装置へ
入力されるようになっており、このデータ処理装置が発
光分光により得られた成分分析値を標準温度における分
析値に補正するようになっている。このとき試料温度は
分析前及び分析後に２回測定した平均値をとっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、■の方法で
は温度を一定にした試料を保持体に保持させるときに試
料温度が変わることがあり、依然として試料温度にバラ
ツキがあるという問題があり、■の方法では実測値では
なく、演算により分析値を求めるので誤差が生じ易いと
いう問題があった。本発明は斯かる事情に鑑みなされた
ものであり、保持体により保持させた試料を放電前に所
要の温度まで冷却又は加熱することにより、低濃度の成
分についても高精度に分析できる発光分光分析方法及び
該方法に使用する装置を提供することを目的とする。
は温度を一定にした試料を保持体に保持させるときに試
料温度が変わることがあり、依然として試料温度にバラ
ツキがあるという問題があり、■の方法では実測値では
なく、演算により分析値を求めるので誤差が生じ易いと
いう問題があった。本発明は斯かる事情に鑑みなされた
ものであり、保持体により保持させた試料を放電前に所
要の温度まで冷却又は加熱することにより、低濃度の成
分についても高精度に分析できる発光分光分析方法及び
該方法に使用する装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】第１発明の発光分光分析
方法は、保持体により保持させた試料を電極に対向配置
し、該電極との間で放電させ、放電により得られた光の
スペクトル分析を行う発光分光分析方法において、前記
試料を前記放電を行う前に所要の温度まで冷却又は加熱
することを特徴とする。第２発明の発光分光分析方法は
、第１発明の発光分光分析方法において、分析後の試料
を所要の温度まで冷却した後、該試料の前記電極との放
電部位を変えて分析を繰り返すことを特徴とする。第３
発明の発光分光分析装置は、保持体により保持させた試
料を電極に対向配置し、該電極との間で放電させ、放電
により得られた光のスペクトル分析を行う発光分光分析
装置において、前記試料を冷却又は加熱する手段と、前
記試料の温度測定手段とを備えたことを特徴とする。
方法は、保持体により保持させた試料を電極に対向配置
し、該電極との間で放電させ、放電により得られた光の
スペクトル分析を行う発光分光分析方法において、前記
試料を前記放電を行う前に所要の温度まで冷却又は加熱
することを特徴とする。第２発明の発光分光分析方法は
、第１発明の発光分光分析方法において、分析後の試料
を所要の温度まで冷却した後、該試料の前記電極との放
電部位を変えて分析を繰り返すことを特徴とする。第３
発明の発光分光分析装置は、保持体により保持させた試
料を電極に対向配置し、該電極との間で放電させ、放電
により得られた光のスペクトル分析を行う発光分光分析
装置において、前記試料を冷却又は加熱する手段と、前
記試料の温度測定手段とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明においては、保持体に保持させた試料を
冷却又は加熱手段により冷却又は加熱し、温度測定器に
より所要の温度に達したことを確認した後に発光分光分
析するので、再現性よく分析を実施することができる。 そして分析後の試料を所要の温度まで冷却した後、試料
の電極との放電部位を変えて分析を繰り返すと、分析の
精度がさらに高くなる。
冷却又は加熱手段により冷却又は加熱し、温度測定器に
より所要の温度に達したことを確認した後に発光分光分
析するので、再現性よく分析を実施することができる。 そして分析後の試料を所要の温度まで冷却した後、試料
の電極との放電部位を変えて分析を繰り返すと、分析の
精度がさらに高くなる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図１は本発明に係る発光分光分析
装置を示す模式図であり、図中２は発光スタンドである
。発光スタンド２はその端部を水平方向に突出させてお
り、この突出部上面の中央に試料台４が設けられている
。試料台４の内側には対電極７が設けられており、対電
極７は電源１１により通電されるようになっている。 電源１１はコンピュータ１２によりそのスイッチを入れ
られるようになっている。発光スタンド２には試料台４
に開口するＡｒガス導入路６が設けられており、Ａｒガ
ス導入路６にはコンピュータ１２によりＡｒガスバルブ
１０の開閉が制御されて、Ａｒガスが導入されるように
なっている。試料台４と対向させて所謂チャックである
保持体１が配置されており、保持体１にはブロック状の
試料３が把持されている。保持体１の下部側壁には冷却
水又は温水を通流させる流体通流路５が設けられている
。保持体１は、コンピュータ１２から指令を受けて保持
体制御装置１３によりその軸方向に動かされ、試料台４
に装着されるようになっている。保持体１の端部には試
料３の温度を測定する手段として温度計９の感温部８が
設けられており、保持体１に試料３が保持されたときに
温度計９は感温部８を通して試料３の温度を測定し、そ
の測定値をコンピュータ１２へ入力するようになってい
る。発光スタンド２の試料台４が設けられている端部と
反対側の端部には、試料３と対電極７との間の放電によ
り生じた発光を集光する集光レンズ１４が設けられてお
り、集光レンズ１４により集光された光は図示しない分
光器に送られるようになっている。
き具体的に説明する。図１は本発明に係る発光分光分析
装置を示す模式図であり、図中２は発光スタンドである
。発光スタンド２はその端部を水平方向に突出させてお
り、この突出部上面の中央に試料台４が設けられている
。試料台４の内側には対電極７が設けられており、対電
極７は電源１１により通電されるようになっている。 電源１１はコンピュータ１２によりそのスイッチを入れ
られるようになっている。発光スタンド２には試料台４
に開口するＡｒガス導入路６が設けられており、Ａｒガ
ス導入路６にはコンピュータ１２によりＡｒガスバルブ
１０の開閉が制御されて、Ａｒガスが導入されるように
なっている。試料台４と対向させて所謂チャックである
保持体１が配置されており、保持体１にはブロック状の
試料３が把持されている。保持体１の下部側壁には冷却
水又は温水を通流させる流体通流路５が設けられている
。保持体１は、コンピュータ１２から指令を受けて保持
体制御装置１３によりその軸方向に動かされ、試料台４
に装着されるようになっている。保持体１の端部には試
料３の温度を測定する手段として温度計９の感温部８が
設けられており、保持体１に試料３が保持されたときに
温度計９は感温部８を通して試料３の温度を測定し、そ
の測定値をコンピュータ１２へ入力するようになってい
る。発光スタンド２の試料台４が設けられている端部と
反対側の端部には、試料３と対電極７との間の放電によ
り生じた発光を集光する集光レンズ１４が設けられてお
り、集光レンズ１４により集光された光は図示しない分
光器に送られるようになっている。
【０００９】以上の如く構成された発光分光分析装置を
使用する場合、まず、保持体１に保持させた試料３と試
料台４とを適宜の間隔をおいて対向させ、コンピュータ
１２によりＡｒガスバルブ１０の開閉を制御してＡｒガ
ス導入路６にＡｒガスを導入し、試料３にＡｒガスを吹
き付け、試料３を冷却する。同時に保持体１の流体通流
路５に冷却水を通流させて試料３を冷却する。温度計９
は感温部８を通して試料３の温度を測定し、測定値をコ
ンピュータ１２へ入力する。コンピュータ１２は試料３
の温度が２５℃になったとき、保持体制御装置１３を駆
動させて保持体１を下降させ、試料３を試料台４に装着
させる。コンピュータ１２は電源１１のスイッチを入れ
て対電極７に通電し、対電極７と試料３との間で放電さ
せる。このときの放電はトリプルコンバインドスパーク
放電にしている。図２はトリプルコンバインドスパーク
放電の電流波形図であり、横軸に時間、縦軸に電流値を
とっている。トリプルコンバインドスパーク放電では初
めにハイパワースパーク放電を１５μ秒間行い、次にス
パーク放電を２０μ秒間行い、最後にアークライク放電
を１２０μ秒間行う。測光はスパーク放電のとき行う。
使用する場合、まず、保持体１に保持させた試料３と試
料台４とを適宜の間隔をおいて対向させ、コンピュータ
１２によりＡｒガスバルブ１０の開閉を制御してＡｒガ
ス導入路６にＡｒガスを導入し、試料３にＡｒガスを吹
き付け、試料３を冷却する。同時に保持体１の流体通流
路５に冷却水を通流させて試料３を冷却する。温度計９
は感温部８を通して試料３の温度を測定し、測定値をコ
ンピュータ１２へ入力する。コンピュータ１２は試料３
の温度が２５℃になったとき、保持体制御装置１３を駆
動させて保持体１を下降させ、試料３を試料台４に装着
させる。コンピュータ１２は電源１１のスイッチを入れ
て対電極７に通電し、対電極７と試料３との間で放電さ
せる。このときの放電はトリプルコンバインドスパーク
放電にしている。図２はトリプルコンバインドスパーク
放電の電流波形図であり、横軸に時間、縦軸に電流値を
とっている。トリプルコンバインドスパーク放電では初
めにハイパワースパーク放電を１５μ秒間行い、次にス
パーク放電を２０μ秒間行い、最後にアークライク放電
を１２０μ秒間行う。測光はスパーク放電のとき行う。
【００１０】放電により生じた発光は、集光レンズ１４
により集光され、図示しない分光器に送られてスペクク
トル線を選択され、図示しない測光器により測光されて
図示しないデータ処理装置により成分分析値が演算され
る。Ｃの分析を行う場合、Ｃのスペスクトル線としてＣ
Ｉ１６５．８ｎｍ を選択し、Ｆｅの内標準線としてＦ
ｅＩ２８７．２ｎｍ を選択する。測光は時間分解測光
法を用いて実施し、トリプルコンバインドスパーク放電
のスパーク放電におけるＣＩ１６５．８ｎｍとＦｅＩ２
８７．２ｎｍ との発光強度比をＰＤＡ（Ｐｕｌｓｅ−
ｈｅｉｇｈｔ Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ Ａｎａｌｙ
ｓｉｓ）処理して求めた。このとき予備放電パルス数を
７００パルスとし、ＰＤＡ処理パルス数を１５００パル
スとした。
により集光され、図示しない分光器に送られてスペクク
トル線を選択され、図示しない測光器により測光されて
図示しないデータ処理装置により成分分析値が演算され
る。Ｃの分析を行う場合、Ｃのスペスクトル線としてＣ
Ｉ１６５．８ｎｍ を選択し、Ｆｅの内標準線としてＦ
ｅＩ２８７．２ｎｍ を選択する。測光は時間分解測光
法を用いて実施し、トリプルコンバインドスパーク放電
のスパーク放電におけるＣＩ１６５．８ｎｍとＦｅＩ２
８７．２ｎｍ との発光強度比をＰＤＡ（Ｐｕｌｓｅ−
ｈｅｉｇｈｔ Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ Ａｎａｌｙ
ｓｉｓ）処理して求めた。このとき予備放電パルス数を
７００パルスとし、ＰＤＡ処理パルス数を１５００パル
スとした。
【００１１】図３はＣ濃度の検量線であり、横軸にＣ濃
度をとっており、縦軸にＣＩ１６５．８ｎｍ とＦｅＩ
２８７．２ｎｍ との発光強度比（ＩＣＩ１６５．８ｎ
ｍ ／ＩＦｅＩ２８７．２ｎｍ）をとっている。データ
処理装置は、図３に示した検量線を用いてＣ濃度を求め
る。
度をとっており、縦軸にＣＩ１６５．８ｎｍ とＦｅＩ
２８７．２ｎｍ との発光強度比（ＩＣＩ１６５．８ｎ
ｍ ／ＩＦｅＩ２８７．２ｎｍ）をとっている。データ
処理装置は、図３に示した検量線を用いてＣ濃度を求め
る。
【００１２】なお、同一の試料で２回以上分析する場合
は、コンピュータ１２が保持体制御装置１３を駆動させ
、保持体制御装置１３により保持体１を上昇させて試料
３と試料台４との間に適宜の間隔をおき、放電部位を変
更させる。そして１回目の分析を行ったときと同様にし
て試料３にＡｒガスを吹き付け、保持体１の流体通流路
５に冷却水を通流させて試料３を冷却する。温度計９が
測定した試料３の温度が２５℃になったとき、コンピュ
ータ１２は保持体制御装置１３を駆動させて保持体１を
下降させ、試料３を試料台４に装着し、分析を繰り返す
。
は、コンピュータ１２が保持体制御装置１３を駆動させ
、保持体制御装置１３により保持体１を上昇させて試料
３と試料台４との間に適宜の間隔をおき、放電部位を変
更させる。そして１回目の分析を行ったときと同様にし
て試料３にＡｒガスを吹き付け、保持体１の流体通流路
５に冷却水を通流させて試料３を冷却する。温度計９が
測定した試料３の温度が２５℃になったとき、コンピュ
ータ１２は保持体制御装置１３を駆動させて保持体１を
下降させ、試料３を試料台４に装着し、分析を繰り返す
。
【００１３】図４はＣ濃度１９ｐｐｍ の試料について
、本発明方法及び従来方法によりＩＣＩ１６５．８ｎｍ
／ＩＦｅＩ２８７．２ｎｍを求めた結果を示したグラ
フであり、図４（ａ）は本発明方法による場合、図４（
ｂ）は従来方法による場合を示している。夫々横軸に測
定回数、縦軸にＩＣＩ１６５．８ｎｍ ／ＩＦｅＩ２８
７．２ｎｍをとっている。図４（ａ）に示した本発明方
法及び図４（ｂ）に示した従来方法の分析精度を求める
と夫々σ＝０．８９ｐｐｍ 、σ＝３．８ｐｐｍであり
、本発明方法の分析精度が高いことが判る。
、本発明方法及び従来方法によりＩＣＩ１６５．８ｎｍ
／ＩＦｅＩ２８７．２ｎｍを求めた結果を示したグラ
フであり、図４（ａ）は本発明方法による場合、図４（
ｂ）は従来方法による場合を示している。夫々横軸に測
定回数、縦軸にＩＣＩ１６５．８ｎｍ ／ＩＦｅＩ２８
７．２ｎｍをとっている。図４（ａ）に示した本発明方
法及び図４（ｂ）に示した従来方法の分析精度を求める
と夫々σ＝０．８９ｐｐｍ 、σ＝３．８ｐｐｍであり
、本発明方法の分析精度が高いことが判る。
【００１４】なお、本発明の実施例においては、試料に
Ａｒガスを吹き付け、保持体の流体通流路に冷却水を通
流させて試料を冷却して分析を実施する場合につき説明
しているが何らこれに限定されるものではなく、試料の
温度が低い場合は試料に加温したＡｒガスを吹き付ける
、及び／又は保持体の流体通流路に温水を通流させるこ
とにより試料を加温して分析を実施すればよい。
Ａｒガスを吹き付け、保持体の流体通流路に冷却水を通
流させて試料を冷却して分析を実施する場合につき説明
しているが何らこれに限定されるものではなく、試料の
温度が低い場合は試料に加温したＡｒガスを吹き付ける
、及び／又は保持体の流体通流路に温水を通流させるこ
とにより試料を加温して分析を実施すればよい。
【００１５】
【発明の効果】以上の如く本発明においては、放電を行
う前に保持体により保持させた試料を所要の温度まで冷
却又は加熱するので、低濃度の成分についても再現性よ
く高精度に分析することができる等、本発明は優れた効
果を奏するものである。
う前に保持体により保持させた試料を所要の温度まで冷
却又は加熱するので、低濃度の成分についても再現性よ
く高精度に分析することができる等、本発明は優れた効
果を奏するものである。
【図１】本発明に係る発光分光分析装置を示す模式図で
ある。
ある。
【図２】トリプルコンバインドスパーク放電の電流波形
図である。
図である。
【図３】Ｃ濃度の検量線である。
【図４】Ｃ濃度１９ｐｐｍ の試料について、本発明方
法及び従来方法によりＩＣＩ１６５．８ｎｍ ／ＩＦｅ
Ｉ２８７．２ｎｍを求めた結果を示したグラフである。
法及び従来方法によりＩＣＩ１６５．８ｎｍ ／ＩＦｅ
Ｉ２８７．２ｎｍを求めた結果を示したグラフである。
【図５】ＣＩ１６５．８ｎｍ の分析線における試料温
度と分析値との関係を示したグラフである。
度と分析値との関係を示したグラフである。
【図６】ＣＩ１９３．０ｎｍ の分析線における試料温
度と分析値との関係を示したグラフである。
度と分析値との関係を示したグラフである。
【図７】ＳＩ１８０．７ｎｍ の分析線における試料温
度と分析値との関係を示したグラフである。
度と分析値との関係を示したグラフである。
【図８】ＰＩ１７８．３ｎｍ の分析線における試料温
度と分析値との関係を示したグラフである。
度と分析値との関係を示したグラフである。
１ 保持体
２ 発光スタンド
３ 試料
４ 試料台
５ 流体通流路
６ Ａｒガス導入路
７ 対電極
８ 感温部
９ 温度計
１０ Ａｒガスバルブ
１１ 電源
１２ コンピュータ
１３ 保持体制御装置
１４ 集光レンズ
Claims (3)
- 【請求項１】 保持体により保持させた試料を電極に
対向配置し、該電極との間で放電させ、放電により得ら
れた光のスペクトル分析を行う発光分光分析方法におい
て、前記試料を前記放電を行う前に所要の温度まで冷却
又は加熱することを特徴とする発光分光分析方法。 - 【請求項２】 分析後の試料を所要の温度まで冷却し
た後、該試料の前記電極との放電部位を変えて分析を繰
り返すことを特徴とする請求項１記載の発光分光分析方
法。 - 【請求項３】 保持体により保持させた試料を電極に
対向配置し、該電極との間で放電させ、放電により得ら
れた光のスペクトル分析を行う発光分光分析装置におい
て、前記試料を冷却又は加熱する手段と、前記試料の温
度測定手段とを備えたことを特徴とする発光分光分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103839A JP2722852B2 (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103839A JP2722852B2 (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04309848A true JPH04309848A (ja) | 1992-11-02 |
| JP2722852B2 JP2722852B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=14364598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103839A Expired - Lifetime JP2722852B2 (ja) | 1991-04-08 | 1991-04-08 | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2722852B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008537764A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-09-25 | ロベルト ボッシュ ゲゼルシャフト ミト ベシュレンクテル ハフツング | プッシュベルト製造工程における品質監視方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855736A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-04-02 | Shimadzu Corp | 発光分光分析による濃度分布解析装置 |
| JPS5961759A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-09 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
| JPS62220835A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-29 | Nippon Steel Corp | 高温分析試料の発光分光分析装置 |
-
1991
- 1991-04-08 JP JP3103839A patent/JP2722852B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855736A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-04-02 | Shimadzu Corp | 発光分光分析による濃度分布解析装置 |
| JPS5961759A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-09 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
| JPS62220835A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-29 | Nippon Steel Corp | 高温分析試料の発光分光分析装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008537764A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-09-25 | ロベルト ボッシュ ゲゼルシャフト ミト ベシュレンクテル ハフツング | プッシュベルト製造工程における品質監視方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2722852B2 (ja) | 1998-03-09 |
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