JPH04312567A - アクリル酸誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はセフェム系抗生物質の合
成中間体、特に７位側鎖の合成中間体として有用なアク
リル酸誘導体式の製造に関する。さらに詳しくは、本発
明は、式ＶＩＩ：

【化４】 （式中、Ｒは水素原子あるいはカルボン酸保護基を表す
）で示される２−アミノオキシアクリル酸誘導体の新規
な製造方法に関する。

【０００２】

【従来技術】式ＶＩＩで示される２−アミノオキシアク
リル酸誘導体は、極めて有効なセファロスポリン抗生物
質の製造において重要な中間体である。この誘導体は、
従来、アクリル酸を出発物質として、特開昭６１−２５
４５８４号公報（Ａ）および英国特許１６０２７２５（
Ｂ）記載の、２位にアミノオキシ基を導入する方法で製
造されていた。これらの方法は、それぞれ下記反応式（
Ａ）及び（Ｂ）で示される。

【化５】 しかるに、これら従来方法は、工程が複雑である上、下
記表１に見られるように、生成物（アミノオキシ基が保
護された化合物５）の収率が０．５〜６％と極めて低く
、実用的でないという問題点を有していた。

【表１】 収率（％）　　（Ｓ）−（１）　　（１）−（２）　　
（２）−（３）　　（３）−（４）　　（４）−（５）
　　全収率　　（Ａ）　　　　　　８５．６　　　　　
７５．０　　　　　１２．２　　　　　　　　　　７６
．３　　　　　　　　　５．９６６　（Ｂ）　　　　　
　８０．９　　　　　３１．１　　　　　２９．８　　
　　　１４．１　　　　　４５．３　　　　　０．４７
８

【０００３】

【発明が解決すべき課題】従って、実用に適した、効率
的かつ種々の誘導体の製造に適用し得る２−アミノオキ
シアクリル酸誘導体の製造方法の開発が強く望まれてい
た。

【課題を解決するための手段】本発明者らは、３位にス
ルフィニル基を有する２−アミノオキシプロピオン酸誘
導体を脱スルフィニル化することにより、目的化合物Ｖ
ＩＩを極めて効率よく製造することができることを見い
だし、本発明を完成するに至った。

【０００４】即ち、本発明は、式Ｖ：

【化６】 （式中、Ｒは水素原子あるいはカルボン酸保護基、Ｒ１
は芳香族または脂肪族基、Ｒ２は水素原子あるいはアミ
ノ保護基を表す）で示される３−スルフィニル−２−ア
ミノオキシプロピオン酸誘導体を脱スルフィニル化し、
脱保護することからなる上記の式ＶＩＩで示される２−
アミノオキシアクリル酸誘導体の製造方法を提供するも
のである。この３−スルフィニル−２−アミノオキシプ
ロピオン酸誘導体は、式ＩＶ：

【化７】 （式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２は上記定義に従う）で示される
３−スルフェニル−２−アミノオキシプロピオン酸誘導
体を既知の方法で酸化することにより容易に製造するこ
とができ、本発明方法における有用な出発物質である。

【０００５】従って本発明はまた、式ＩＶで示される３
−スルフェニル−２−アミノオキシプロピオン酸誘導体
を酸化し、上記の３−スルフィニル−２−アミノオキシ
プロピオン酸誘導体Ｖを得、該誘導体Ｖを脱スルフィニ
ル化した後、脱保護することからなる上記の式ＶＩＩで
示される２−アミノオキシアクリル酸誘導体の製造方法
を提供するものである。

【０００６】式ＩＶおよび式Ｖで示される化合物は、セ
ファロスポリン誘導体の中間体として有用な２−アミノ
オキシアクリル酸誘導体ＶＩＩの重要な製造出発物質で
あり、新規な化合物である。従って、本発明はまた、式
Ｖで示される３−スルフィニル−２−アミノオキシプロ
ピオン酸および式ＩＶで示される３−スルフェニル−２
−アミノオキシプロピオン酸誘導体を提供するものであ
る。本発明の化合物の定義に用いた記号等を以下に説明
する。

【０００７】Ｒの定義におけるカルボキシ保護基にはペ
ニシリン、セファロスポリン化学の分野で分子中の他の
部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能のものと
して知られている炭素数１９までの反応用カルボキシ保
護基が含まれる。代表例にはエステル形成基である炭素
数１〜８のアルキル（メチル、メトキシメチル、エチル
、エトキシメチル、ヨ−ドエチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、エトキシエチル、メチルチ
オエチル、メタンスルホニルエチル、トリクロロエチル
、ｔ−ブチルなど）、炭素数３〜８のアルケニル（プロ
ペニル、アリル、プレニル、ヘキセニル、フェニルプロ
ペニル、ジメチルヘキセニルなど）、炭素数７〜１９の
アラルキル（ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベン
ジル、メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベ
ンジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フェニル
エチル、トリチル、ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジル
、フタリジル、フェナシルなど）、炭素数６〜１２のア
リール（フェニル、トルイル、ジイソプロピルフェニル
、キシリル、トリクロロフェニル、ペンタクロロフェニ
ル、インダニルなど）、炭素数１〜１２のアミノ基（ア
セトンオキシム、アセトフェノンオキシム、アセトアル
ドキシム、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシフタルイミドなどとのエステルを形成する基）、炭
素数２〜１５の１−酸素置換アルキル｛直鎖、分枝、環
状または部分環状のアルカノイルオキシアルキル（アセ
トキシメチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシエ
チル、シクロヘキサンアセトキシエチル、シクロヘキサ
ンカルボニルオキシシクロヘキシルメチルなど）、炭素
数３〜１５のアルコキシカルボニルオキシアルキル（エ
トキシカルボニルオキシエチル、イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチル、イソプロポキシカルボニルオキシプ
ロピル、ｔ−ブトキシカルボニルオキシエチル、イソペ
ンチルオキシカルボニルオキシプロピル、シクロヘキシ
ルオキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルメト
キシカルボニルオキシエチル、ボルニルオキシカルボニ
ルオキシイソプロピルなど）、炭素数２〜８のアルコキ
シアルキル（メトキシメチル、メトキシエチルなど）、
炭素数４〜８の２−オキサシクロアルキル（テトラヒド
ロピラニル、テトラヒドロフラニルなど）など｝、炭素
数８〜１２の置換アラルキル（フエナシル、フタリジル
など）、炭素数６〜１２のアリ−ル（フエニル、キシリ
ル、インダニルなど）、炭素数２〜１２のアルケニル（
アリル、プレニル、２−オキソ−１，３−ジオキソリル
−４−イルメチルなど）などがある。これらは置換基を
有していてもよい。

【０００８】Ｒ１の定義における芳香族基または脂肪族
基としては以下のものを例示できる。脂肪族基は、置換
基を有していてもよい直鎖、分枝、環状または不飽和の
炭素数１〜１４までのアルキル基（例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ブチル、ヘキシル
、オクチル、デシル、ドデシル、ｔ−ドデシル、カルボ
キシメチル、ベンジル、ジヒドロキシプロピル、グルコ
リル、チオクト酸由来の基など）である。芳香族基は、
置換基を有していてもよく、単環または双環でヘテロ原
子を有しうるアリ−ル基（例えば、フェニル、クレゾリ
ル、クロロフェニル、カルボキシフェニル、クロロベン
ソチアゾリル、ウラシル、グアニルなど）である。 Ｒ２の定義におけるアミノ保護基は、好ましくは芳香族
または脂肪族のアシル基であって、例えば脂肪族ジアシ
ル基または芳香族ジアシル基を指す。ジアシル基は炭素
数１４までのアシル基、例えば直鎖、分枝、環状で、飽
和または不飽和のアルカンジカルボニル（サクシニル、
ハロゲノサクシニル、ジハロゲノサクシニル、アジドサ
クシニル、メチルサクシニル、ジメチルサクシニル、エ
チルサクシニル、プロピルサクシニル、エチリデンサク
シニル、プロピリデンサクシニル、イソプロピリデンサ
クシニル、メチルエチリデンサクシニル、ハロゲノグル
タリル、ジハロゲノグルタリル、メチルグルタリル、ジ
メチルグルタリル、エチルグルタリル、プロピルグルタ
リル、エチリデングルタリル、プロピリデングルタリル
、イソプロピリデングルタリル、メチルエチリデングル
タリル、マレオイルなど、またはリンゴ酸、クエン酸の
アシル基など）、単環または双環でヘテロ原子を有しう
るアリ−ルジカルボニル（フタリル、メチルフタリル、
アミノフタリル、ニトロフタリル、ヒドロキシフタリル
、ハロゲノフタリル、ジハロゲノフタリル、ピリジンジ
カルボニルなど）、１価カルボン酸のアシル（直鎖、分
枝または環状のアルカノイル、単環または双環でヘテロ
原子を有しうるアロイル、アラルカノイル、アリールア
ルケノイルなど）２個、などである。これらの基は置換
基を有していてもよい。

【０００９】本発明方法の出発物質であるスルフェニル
誘導体ＩＶは当業者既知の方法、あるいは文献記載の方
法に従って製造することができる。例えば、以下の方法
で示される反応式に従って製造し得る。

【化８】 （式中、Ｒ、Ｒ１およびＲ２は上記定義に従い、Ｘ１お
よびＸ２は脱離基を表す）。上記反応における脱離基と
しては、臭素、塩素等のハロゲン原子、メタンスルホニ
ルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等のア
ルカンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、
トルエンスルホニルオキシ等のアリールスルホニルオキ
シ等を挙げることができる。

【００１０】上記反応式における出発物質Ｉは例えば、
アクリル酸のカルボキシ基を保護し、ハロゲン化するこ
とにより得ることができる。 ａ）脱離反応 化合物Ｉをジメチルホルムアミド、ジクロロメタン等の
不活性溶媒中、有機または無機脱ハロゲン化水素剤で処
理することにより行う。そのような試薬としては塩基、
　例えば三級アミン（トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン、キヌクリジン、トリ（２
−ヒドロキシエチル）アミン、ジメチルアニリン、ビス
ジメチルアミノナフタリン、トリトンＢなど）、シッフ
塩基（ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセ
ンなど）、芳香族アミン（ピリジン、ピコリン、ルチジ
ン、キノリン、ニコチンなど）、塩基性陰イオン交換樹
脂（アンバ−ライトＩＲ−４５、ＩＲ−４Ｂ、デュオラ
イトＡ−４など）を挙げることができる。

【００１１】ｂ）メルカプタン付加反応ハロゲン化アク
リル酸誘導体ＩＩにジメチルホルムアミド、ジクロロメ
タン等の不活性溶媒中、メルカプタン付加試薬としてチ
オフェノ−ル等のアリールまたはアルキルメルカプタン
を作用させると、３−チオ−２−ハロゲン化プロピオン
酸誘導体ＩＩＩが得られる。ここで、触媒としてトリエ
チルアミン、ＤＢＵ等の有機塩基またはＮａＨ等の無機
塩基等の塩基を加えても良い。 ｃ）置換反応 ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン等の不活性溶媒
中、３−チオ−２−ハロゲン化プロピオン酸誘導体ＩＩ
Ｉの溶液にＮ−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−保護ヒ
ドロキシルアミンを、トリエチルアミン等の有機または
無機塩基の存在下で例えば室温に一夜放置すると、置換
反応が進行する。次いで反応液を氷水中　に注ぎ、酢酸
エチル等の溶媒で抽出する。抽出液を洗浄、濃縮後、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィ−等で精製すると、所
望の出発物質スルフェニル誘導体ＩＶが得られる。

【００１２】次いで、本発明方法に従い、スルフェニル
誘導体ＩＶからスルフィニル化合物Ｖを経て目的の２−
アミノオキシアクリル酸誘導体ＶＩＩを製造する。 ｄ）酸化反応 ジクロロメタン等の不活性溶媒中、スルフェニル誘導体
ＩＶに酸化剤を作用する。代表的な酸化剤としては、過
鉱酸（過硫酸など）、過カルボン酸（過酢酸、過フタル
酸、ｍ−クロロ過安息香酸など）、過スルホン酸など工
業的に入手可能な過酸、オゾン、過酸化水素、反応性過
酸化物（過酸化ほう素、過酸化尿素、過酸化ニッケル、
過酸化ソ−ダなど）などを例示できる。これらの酸化は
、要すれば反応促進剤（タングステン酸、リン酸、ポリ
リン酸、リン酸一エステルなど周期律表第Ｖ〜ＶＩｂ族
元素の酸、塩、アルカン酸など）の存在下に、実施でき
る。通常、約−１０〜約５０℃で混合物を５〜６０分間
撹拌すると反応が終了する。反応液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液等で洗浄した後、乾燥し、濃縮することにより
、対応するスルフィニル化合物Ｖの粗生成物を得る。 この生成物はスルホキシド基に　おける立体異性体の１
：１混合物として得られるが、そのまま次工程に用いる
。

【００１３】ｅ）脱離反応 トルエン、ベンゼン等の不活性溶媒中で温度約５０〜１
５０℃で、約０．５〜約５時間、好ましくは約１００℃
で６０分間加熱する。反応液を減圧下に濃縮して得られ
る残渣を通常の方法で精製することにより２−保護アミ
ノオキシ−アクリル酸誘導体ＶＩを得る。精製は、エ−
テル／ヘキサン混液等の適当な溶媒中からの再結晶、シ
リカゲル等によるクロマトグラフィー等により行う。

【００１４】ｆ）脱保護 上記ｅ）で得た化合物ＶＩを通常の脱保護反応に付すこ
とによりて２−アミノオキシアクリル酸誘導体ＶＩＩを
得る。この脱保護反応は、セファロスポリンの化学で通
常用いられている方法を採用することができるが、例え
ばヒドラジン、メチルヒドラジン等のアルキルヒドラジ
ン、ジアルキルヒドラジン等の脱アミド／イミド化剤を
用いるとよい。即ち、ジクロロメタン等の不活性溶媒中
、温度約−２０〜５０℃でメチルヒドラジンの存在下、
撹拌し、沈殿を濾去した後、反応液を濃縮すると、粗生
成物が得られる。これをさらに溶媒抽出し、沈澱物を除
去し、ろ液を濃縮することにより目的の２−アミノオキ
シアクリル酸誘導体ＶＩＩを得る。

【００１５】本発明の代表的化合物は例えば、下記のＲ
置換チオ−２−Ｒ２置換アミノオキシプロピオン酸（Ｉ
Ｖ）および対応するスルホキシドであるＲ置換スルフィ
ニル−２−Ｒ２置換アミノオキシプロピオン酸（Ｖ）と
それらのエステル類である。メチルチオ−２−フタリル
アミノオキシプロピオン酸、エチルチオ−２−フタリル
アミノオキシプロピオン酸、プロピルチオ−２−フタリ
ルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−フタリ
ルアミノオキシプロピオン酸、オクチルチオ−２−フタ
リルアミノオキシプロピオン酸、デシルチオ−２−フタ
リルアミノオキシプロピオン酸、ジヒドロキシプロピル
チオ−２−フタリルアミノオキシプロピオン酸、ドデシ
ルチオ−２−フタリルアミノオキシプロピオン酸、フェ
ニルチオ−２−フタリルアミノオキシプロピオン酸、ト
リルチオ−２−フタリルアミノオキシプロピオン酸、ク
ロロフェニルチオ−２−フタリルアミノオキシプロピオ
ン酸、カルボメトキシフェニルチオ−２−フタリルアミ
ノオキシプロピオン酸、グアニルチオ−２−フタリルア
ミノオキシプロピオン酸、ベンジルチオ−２−フタリル
アミノオキシプロピオン酸、メチルチオ−２−メチルフ
タリルアミノオキシプロピオン酸、エチルチオ−２−ニ
トロフタリルアミノオキシプロピオン酸、プロピルチオ
−２−ヒドロキシフタリルアミノオキシプロピオン酸、
ブチルチオ−２−クロロフタリルアミノオキシプロピオ
ン酸、オクチルチオ−２−ブロモフタリルアミノオキシ
プロピオン酸、デシルチオ−２−ジメチルフタリルアミ
ノオキシプロピオン酸、ジヒドロキシプロピルチオ−２
−アミノフタリルアミノオキシプロピオン酸、ドデシル
チオ−２−ジクロロフタリルアミノオキシプロピオン酸
、フェニルチオ−２−ピリジンジカルボニルアミノオキ
シプロピオン酸、トリルチオ−２−ジアセチルアミノオ
キシプロピオン酸、クロロフェニルチオ−２−Ｎ−ベン
ゾイルアセチルアミノオキシプロピオン酸、カルボメト
キシフェニルチオ−２−エチルフタリルアミノオキシプ
ロピオン酸、グアニルチオ−２−ブロモフタリルアミノ
オキシプロピオン酸、ベンジルチオ−２−メチルフタリ
ルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−サクシ
ニルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−クロ
ロサクシニルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−
２−ジクロロサクシニルアミノオキシプロピオン酸、ブ
チルチオ−２−メチルサクシニルアミノオキシプロピオ
ン酸、ブチルチオ−２−プロピリデンサクシニルアミノ
オキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−グルタリルアミ
ノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−クロログルタ
リルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ−２−ジメ
チルグルタリルアミノオキシプロピオン酸、ブチルチオ
−２−ジクロログルタリルアミノオキシプロピオン酸、
ブチルチオ−２−マレオイルアミノオキシプロピオン酸
、ブチルチオ−２−イソプロピリデングタリルアミノオ
キシプロピオン酸、ブチルチオ−２−サクシニルアミノ
オキシプロピオン酸。

【作用】本発明方法によれば、上記の従来法に比較して
、単純な工程で、はるかに効率良く２−アミノオキシア
クリル酸誘導体Ｉを製造することができる。以下に実施
例を挙げ本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。

【実施例】実施例１　　３−スルフェニル−２−アミノ
オキシプロピオン酸誘導体ＩＶ

【化９】

【００１６】１．化合物ＩＶ−Ａ（Ｒ＝ジフェニルメチ
ル、Ｒ１＝フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造１）化
合物２−Ａ ２，３−ジブロモプロピオン酸ジフェニルメチルエステ
ル（１−Ａ）４２．２０ｇ（１　０６ミリモル）をジメ
チルホルムアミド２００ｍｌに溶かし、１５℃にてトリ
エチルアミン１５．５４ｍｌ（１１１ミリモル）を加え
、１５〜２０℃で２０分間撹拌すると２−ブロモアクリ
ル酸ジフェニルメチルエステル（２−Ａ）が生成する。 化合物２−Ａの物性値：ＮＭＲ　δ（ＣＤＣｌ３）　ｐ
ｐｍ　：　６．３１（ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　１Ｈ）
，　６．９３（ｓ，　１Ｈ），　７．０６（ｄ，　Ｊ＝
１．８Ｈｚ，　１Ｈ），　７．２７〜７．４２（ｍ，　
１０Ｈ）］

【００１７】２）化合物３−Ａ 化合物２−Ａを含む反応溶液を５℃に冷却し、チオフェ
ノ−ル９．８６ｍｌ（９６ミリモル）を加え、５〜１０
℃で１時間撹拌すると３−フェニルチオ−２−ブロモプ
ロピオン酸ジフェニルメチルエステル（３−Ａ）が生成
する。化合物３−Ａの物性値：ＮＭＲ　δ（ＣＤＣｌ３
）　ｐｐｍ　：　３．３３〜３．６２（ｍ，　２Ｈ），
　４．３０（ｄｄ．Ｊ＝５．２Ｈｚ，　Ｊ＝１１．１Ｈ
ｚ，　１Ｈ），　６．９３（ｓ，　１Ｈ），　７．０５
〜７．７０（ｍ，　１５Ｈ）３）化合物４−Ａ 化合物３−Ａを含む溶液にＮ−ヒドロキシフタルイミド
２６ｇ（１５９ミリモル）　とトリエチルアミン２２ｍ
ｌ（１５７ミリモル）を加え、室温に一夜放置する。反
応液を氷水１．５リットル中に注ぎ、析出する結晶を濾
取し、水洗する。結晶を　ジクロロメタンにとかし、水
洗、乾燥後、濃縮する。残渣をジクロロメタン／エ−テ
ル混液から再結晶して、３−フェニルチオ−２−フタル
イミドイルオキシプ　ロピオン酸ジフェニルメチルエス
テル（４−Ａ）４０．４８ｇを得る。収率；出発物質（
１−Ａ）からの収率＝７９．５％。ｍｐ．１１６〜１１
７℃。ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７
９０，　１７３５。ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐ
ｍ　：　３．４０〜３．６２（ｍ，　２Ｈ），　４．８
９（ｄｄ，　Ｊ＝５．８Ｈｚ，　Ｊ＝７．９Ｈｚ，　１
Ｈ），　６．９２（ｓ，　１Ｈ），　７．１８〜７．４
３（ｍ，　１５Ｈ），　７．６７〜７．７９（ｍ，　４
Ｈ）。元素分析（Ｃ３０Ｈ２３ＮＯ５Ｓ）計算値：Ｃ，
　７０．７１；　Ｈ，　４．５５；　Ｎ，　２．７５；
　Ｓ，　６．２９。測定値：Ｃ，　７０．７１；　Ｈ，
　４．６８；　Ｎ，　２．６２；　Ｓ，　６．１６。

【００１８】２．化合物ＩＶ−Ｂ（Ｒ＝ベンジル、Ｒ１
＝フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 １）化合物２−Ｂ ２，３−ジブロモプロピオン酸ベンジルエステル（１−
Ｂ）　６．４４ｇ（２０ミリモル　）をジメチルホルム
アミド８０ｍｌに溶かし、これに１０℃にてトリエチル
アミン２．９４ｍｌ（２１ミリモル）を加え、１０℃〜
１５℃にて２０分間撹拌すると２−ブロモアクリル酸ベ
ンジルエステル（化合物２−Ｂ）が生成する。

【００１９】２）化合物３−Ｂ 化合物２−Ｂを含む溶液に１０℃にてチオフェノ−ル１
．８５ｍｌ（１８ミリモル）を加え、２０℃で２０分間
撹拌すると３−フェニルチオ−２−ブロモプロピオン酸
ベンジルエステル（化合物３−Ｂ）が生成する。

【００２０】３）化合物４−Ｂ 化合物３−Ｂを含む溶液にＮ−ヒドロキシフタルイミド
４．８９ｇ（３０ミリモル）とトリエチルアミン４．６
２ｍｌ（３３ミリモル）を加え、室温に一夜放置する。 反応液を氷水中　に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を水、炭酸水素ナトリウム水と食塩水で洗い、濃縮す
る。 残渣をシリカゲルクロマトグラフィ−で精製して、３−
フェニルチオ−２−フタルイミドイルオキシプロピオン
酸ベンジルエステル（化合物４−Ｂ）　６．　１８ｇを
得る。 収率：出発物質（１−Ｂ）からの収率＝７１．１％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　３．３９〜
３．６２（ｍ，　２Ｈ），　４．７６（ｄｄ，　Ｊ＝５
．７Ｈｚ，　Ｊ＝８．１Ｈｚ，　１Ｈ），　５．１８，
　５．１５（ＡＢｑ，　Ｊ＝１２．０Ｈｚ，　２Ｈ），
　７．１０〜７．４８（ｍ，　１０Ｈ），　７．６８〜
７．８５（ｍ，　４Ｈ）。

【００２１】３．化合物ＩＶ−Ｃ（Ｒ＝ｔ−ブチル、Ｒ
１＝フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 １）化合物２−Ｃ ２，３−ジブロモプロピオン酸ｔ−ブチルエステル（１
−Ｃ）　４３．２ｇ（１５０ミリモル）をジメチルホル
ムアミド４００ｍｌに溶かし、これに１０℃にてトリエ
チルアミン２０．９ｍｌ（１５０ミリモル）を加え、−
１０℃にて２０分間撹拌すると２−ブロモアクリル酸ｔ
−ブチルエステル（化合物２−Ｃ）が生成する。２）化
合物３−Ｃこの化合物２−Ｃを含む溶液に−６０℃でチ
オフェノ−ル１３．９ｍｌ（１３５ミリモル）のジメチ
ルホルムアミド３０ｍｌ溶液を加え、同温にて１時間撹
拌すると３−フェニルチオ−２−ブロモプロピ　オン酸
ｔ−ブチルエステル（化合物３−Ｃ）が生成する。

【００２２】３）化合物４−Ｃ 化合物３−Ｃを含む溶液にＮ−ヒドロキシフタルイミド
３６．　７ｇ（２２５ミリモル）とトリエチルアミン３
４．５ｍｌ（２４８ミリモル）を加　え、６０℃で２時
間撹拌する。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。 抽出液を水、炭酸水素ナトリウム水と食塩水で洗い、濃
縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ−（ｎ−ヘ
キサン／トルエン（１：１）〜トルエン／酢酸エチ　ル
（９：１）混液）で精製して３−フェニルチオ−２−フ
タルイミドイルオキシプロピオン酸ｔ−ブチルエステル
（化合物４−Ｃ）３０．０ｇを得る。収率：出発物質（
１−Ｃ）からの収率＝５０．１％。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　１．４７（
ｓ，　９Ｈ），　３．３５〜３．５９（ｍ，　２Ｈ），
　４．６２（ｄｄ，　Ｊ＝５．７Ｈｚ，　Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ，　１Ｈ），　７．３３〜７．５０（ｍ，　５Ｈ），
　７．７２〜７．８８（ｍ，　４Ｈ）。

【００２３】４．化合物ＩＶ−Ｄ（Ｒ＝ジフェニルメチ
ル、Ｒ１＝ｎ−プロピル、Ｒ２＝フタロイル）の製造１
）化合物２ーＤ（＝化合物２ーＡ） ２，３−ジブロモプロピオン酸ジフェニルメチルエステ
ル（１−Ａ）３．９８ｇ（１０　ミリモル）をジメチル
ホルムアミド４０ｍｌに溶かし、これに１０℃にてトリ
エチルアミン１．４７ｍｌ（１０．５ミリモル）を加え
、同温にて２０分間撹拌すると２−ブロモアクリル酸ジ
フェニルメチルエステル（化合物２ーＤ）が生成する。

【００２４】２）化合物３−Ｄ（＝化合物３−Ａ）化合
物２ーＤを含む溶液にｎ−プロパンチオ−ル０．８６ｍ
ｌ（９．５ミリモル）を加え、室温で４０分間撹拌する
と３−ｎ−プロピルチオ−２−ブロモプロピオン酸ジフ
ェニルメチルエステル（化合物３−Ｄ＝化合物３−Ａ）
が生成する。３）化合物４−Ｄ 化合物３−Ｄを含む溶液にＮ−ヒドロキシサクシンイミ
ド０．８６ｇ（７．５ミリモル）とトリエチルアミン１
．１２ｍｌ（８ミリモル）を加え、室温に一夜放置する
。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液
を水、炭酸水素ナトリウム水と食塩水で洗い、濃縮する
。 残渣をシリカゲルクロマトグラフィ−で精製すれば、３
−ｎ−プロピルチオ−２−フタルイミドイルオキシプロ
ピオン酸ジフェニルメチルエステル（化合物４−Ｄ）　
２．６４ｇを得る。収率：出発物質１−Ｄからの収率＝
５５．６％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　０．９３（
ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　３Ｈ），　４．４７〜４．６
４（ｍ，２Ｈ），　２．５４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，　
２Ｈ），　３．１３（ｄ，　Ｊ＝６．８Ｈｚ，　２Ｈ）
，　４．９９（ｔ，　Ｊ＝６．８Ｈｚ，　１Ｈ），　６
．９５（ｓ，　１Ｈ），７．１３〜７．４０（ｍ，　１
０Ｈ），　７．６７〜７．７９（ｍ，　４Ｈ）。

【００２５】５．化合物ＩＶ−Ｄ（Ｒ＝ジフェニルメチ
ル、Ｒ１＝フェニル、Ｒ２＝サクシニル）の製造１）化
合物２−Ｅ（＝化合物２−Ａ） ２，３−ジブロモプロピオン酸ジフェニルメチルエステ
ル（１−Ａ）１．９９ｇ（５ミ　リモル）のジメチルホ
ルムアミド２０ｍｌ溶液に１０℃にてトリエチルアミン
０．　７４ｍｌ（５．２５ミリモル）を加え、２０分間
撹拌すると２−ブロモアクリル酸ジフェニルメチルエス
テル（化合物２−Ａ＝化合物２−Ｅ）　を得る。 ２）化合物３−Ｅ（＝化合物３−Ａ） 化合物２−Ｅ含む溶液にチオフェノ−ル０．４９ｍｌ　
（４．７５ミリモル）を加え、２０℃で２０分間撹拌す
ると３−フェニルチオ−２−ブロモプロピオン酸ジフェ
ニルメチルエステル（３−Ｅ）を得る。

【００２６】３）化合物４−Ｅ 化合物３−Ｅ）　を含む溶液にＮ−ヒドロキシサクシン
イミド０．８６ｇ（７．５ミリモル）とトリエチルアミ
ン１．　１２ｍｌ（８ミリモル）を加え、室温に一夜放
置する。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する
。抽出液を水、炭酸水素ナトリウム水と食塩水で洗い、
乾燥後、減圧濃縮し、残渣として３−フェニルチオ−２
−サクシンイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメ
チルエステル（化合物４−Ｅ）　１．８１ｇを得る。収
率：出発物質（化合物１−Ａ）　からの収率＝７８．５
％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７２８。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　２．２４〜
２．５６（ｍ，　４Ｈ），　３．３６〜３．５７（ｍ，
　２Ｈ），　４．８４（ｄｄ，Ｊ＝　６　Ｈｚ，　Ｊ＝
７．８Ｈｚ，　１Ｈ），　６．８８（ｓ，　１Ｈ），　
７．１５〜７．４１（ｍ，　１５Ｈ）。

【００２７】実施例２　　３ースルフィニル−２−アミ
ノオキシプロピオン酸誘導体Ｖ

【化１０】 １．化合物Ｖ−Ａ（Ｒ＝ジフェニルメチル、Ｒ１＝フェ
ニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例１−１．で調製した３−フェニルチオ−２−フタ
ルイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチルエス
テル（４−Ａ）　１．６４ｇ（３．２２ミリモル）のジ
クロロメタン１０ｍｌ溶液に、氷冷下に８０％ｍ−クロ
ロ過安息香酸６９４ｍｇ（３．２２ミリモル）のジクロ
ロメタン８ｍｌ溶液を加え、混合物を１５分間撹拌する
。反応液を炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾燥後、
濃縮すれば、粗３−フェニルスルフィニル−２−フタル
イミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチルエステ
ル（５−Ａ）（スルホキシド基における立体異性体の１
：１混合物）１．６６ｇを得る。収率：９８．３％。こ
の混合物は精製せずに、次工程に付すことができる。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　３．２０〜
３．６３（ｍ，　２Ｈ），　５．１４（ｄｄ，　Ｊ＝５
．８Ｈｚ，　７．０Ｈｚ，　０．５Ｈ），５．４５（ｄ
ｄ，　Ｊ＝３．１Ｈｚ，　９．２Ｈｚ，　０．５Ｈ），
　６．８６（ｓ，　０．５Ｈ），　６．９５（ｓ，　０
．５Ｈ），　７．１６〜７．８５（ｍ，　１９Ｈ）。

【００２８】２．化合物Ｖ−Ｂ（Ｒ＝ベンジル、Ｒ１＝
フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例１−２．で調製した３−フェニルチオ−２−フタ
ルイミドイルオキシプロピオン酸ベンジルエステル（４
−Ｂ）６．１８ｇ（１４．２７ミリモル）をジクロロメ
タン５０ｍｌにとかし、氷冷下　に８０％ｍ−クロロ過
安息香酸３．０７ｇ（１４．２７ミリモル）のジクロロ
メタン６０ｍｌ溶液を加え、２０分間撹拌する。反応液
を炭酸水素ナトリウム水と水で洗浄、減圧濃縮すれば、
残渣として３−フェニルスルフィニル−２−フタルイミ
ドイルオキシプロピオン酸ベンジルエステル（５−Ｂ）
　６．４１ｇ（収率：１００％；　スルホキシド基にお
ける立体異性体の１：１混合物）を得る。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　３．２２〜
３．９６（ｍ，　２Ｈ），　４．９７〜５．３５（ｍ，
　３Ｈ），　７．１６〜７．９９（ｍ，１４Ｈ）。

【００２９】３．化合物Ｖ−Ｃ（Ｒ＝ｔ−ブチル、Ｒ１
＝フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例１−３．で調製した３−フェニルチオ−２−フタ
ルイミドイルオキシプロピオン酸ｔ−ブチルエステル（
４−Ｃ）３０．０ｇ（７５．１９ミリモル）をジクロロ
メタン３００ｍｌにとかし、氷冷下に８０％ｍ−クロロ
過安息香酸１６．２２ｇ（７５．２ミリモル）を加え、
３０分間撹拌する。反応液を炭酸水素ナトリウム水と食
塩水で洗浄、減圧濃縮する。残渣をトルエン／ヘキサン
混液から再結晶すれば、３−フェニルスルフィニル−２
−フタルイミドイルオキシプロピオン酸ｔ−ブチルエス
テル（５−Ｃ）　３１．２ｇ（収率：１００％、スルホ
キシド基における立体異性体の１：１混合物）を得る。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ：１．４３（ｓ，
　４．５Ｈ），　１．５０（ｓ，　４．５Ｈ），　３．
１８〜３．６０（ｍ，　２Ｈ），４．４９（ｔ，　Ｊ＝
５．８Ｈｚ，　０．５Ｈ），　５．１９（ｄｄ，　Ｊ＝
８．１Ｈｚ，　Ｊ＝２．８Ｈｚ，　０．５Ｈ），　７．
４８〜７．９３（ｍ，９Ｈ）。

【００３０】４．化合物Ｖ−Ｄ（Ｒ＝ジフェニルメチル
、Ｒ１＝ｎ−プロピル、Ｒ２＝フタロイル）の製造実施
例１−４．で調製した３−ｎ−プロピルチオ−２−フタ
ルイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチルエス
テル（４−Ｄ）　２．６０ｇ（５．４７ミリモル）をジ
クロロメタン２０ｍｌにとかし、氷冷下に８０％ｍ−ク
ロロ過安息香酸１．１８ｇ（５．４７ミリモル）のジク
ロロメタン２０ｍｌ溶液を加え、２０分間撹拌する。反
応液を炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、減圧濃縮すれ
ば、結晶性残渣として３−フェニルスルフィニル−２−
フタルイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチル
エステルのスルホキシド基における立体異性体の１：１
混合物（５−Ｄ）２．６１ｇ（収率：９７．２％）を得
る。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７８８，
　１７３２。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　１．０２〜
１．１２（ｍ，　３Ｈ），　１．６１〜１．９７（ｍ，
　２Ｈ），　２．７３〜３．９４（ｍ，　４Ｈ），　５
．３０〜５．４４（ｍ，　１Ｈ），　６．９４（ｓ，　
１Ｈ），　７．２０〜７．４０（ｍ，　１０Ｈ），　７
．６９〜７．８２　（ｍ，　４Ｈ）。

【００３１】５．化合物Ｖ−Ｅ（Ｒ＝ジフェニルメチル
、Ｒ１＝フェニル、Ｒ２＝サクシニル）の製造実施例１
−５．で調製した３−フェニルチオ−２−サクシンイミ
ドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチル　エステル
（４−Ｅ）　１．７５ｇ（３．８０ミリモル）のジクロ
ロメタン２５ｍｌ溶液に、氷冷下に８０％ｍ−クロロ過
安息香酸８２０ｍｇ（３．８０ミリモル）のジクロロメ
タン１０ｍｌ溶液を加え、混合物を２０分間撹拌する。 反応液を炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾燥後、減
圧濃縮すれば、粗３−フェニルスルフィニル−２−サ　
クシンイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチル
エステル（５−Ｅ）（スルホ　キシド基における立体異
性体の１：１混合物）１．８１ｇを得る。収率：９９．
８％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７８０，
　１７２５。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　２．２４〜
２．５６（ｍ，　４Ｈ），　３．１６〜３．６２（ｍ，
　２Ｈ），　５．１８（ｔ，　Ｊ＝５．７Ｈｚ，　０．
５Ｈ），　５．３４（ｄｄ，　Ｊ＝３．０Ｈｚ，　８．
３Ｈｚ，　０．５Ｈ），　６．８０（ｓ，　０．５Ｈ）
，　６．９２（ｓ，　０．５Ｈ），　７．１５〜７．７
０（ｍ，　１５Ｈ）。

【００３２】実施例３　　化合物ＶＩの製造

【化１１】 １．化合物ＶＩ−Ａ（Ｒ＝ジフェニルメチル、Ｒ１＝フ
ェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例２−１．で調製した３−フェニルスルフィニル−
２−フタルイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニル　
メチルエステルのスルホキシド基における立体異性体の
１：１混合物（５−Ａ）　１．　７９ｇ（３．４１ミリ
モル）をトルエン３０ｍｌにとかし、１．５時間加熱還
流する。反応液を減圧濃縮して得られる残渣をエ−テル
／ヘキサン混液から再結晶すれば、２−フタルイミドイ
ルオキシアクリル酸ジフェニルメチルエステル（６−Ａ
）　１．０９ｇを得る。収率：（４−Ａ）　から８５．
０％。ｍｐ１７５〜１７７℃。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５，　１６４０。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　５．１４（
ｄ，　Ｊ＝３．８Ｈｚ，　１Ｈ），　５．７９（ｄ，　
Ｊ＝３．８Ｈｚ，　１Ｈ），　７．０５（ｓ，　１Ｈ）
，　７．１５〜７．４７（ｍ，　１０Ｈ），　７．７６
〜７．９４（ｍ，　４Ｈ）。 ２．化合物ＶＩ−Ｂ（Ｒ＝ベンジル、Ｒ１＝フェニル、
Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例２−２．で調製した３−フェニルスルフィニル−
２−フタルイミドイルオキシプロピオン酸ベンジルエス
テル（５−Ｂ）６．４１ｇ（１４．２７ミリモル）をト
ルエン１００ｍｌにとかし、２時間加熱還流する。反応
液を減圧濃縮して得られる残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィ−で精製すれば、２−フタルイミドイルオキシア
クリル酸ベンジルエステル（６−Ｂ）２．７１ｇを得る
。収率：（４−Ｂ）から５８．８％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９３，
　１７３８，　１６４０。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　５．０９（
ｄ，　Ｊ＝３．７Ｈｚ，　１Ｈ），　５．３２（ｓ，　
２Ｈ），５．７３（ｄ，　Ｊ＝３．７Ｈｚ，１Ｈ），　
７．３２〜７．４８（ｍ，　５Ｈ），　７．７９〜７．
９５（ｍ，　４Ｈ）。

【００３３】３．化合物ＶＩ−Ｃ（Ｒ＝ｔ−ブチル、Ｒ
１＝フェニル、Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例２−３．で調製した３−フェニルスルフィニル−
２−フタルイミドイルオキシプロピオン酸ｔ−ブチルエ
ステル（５−Ｃ）　３１．２ｇ（７５．１８ミリモル）
をトルエン５００ｍｌにとかし、４時間加熱還流する。 反応液を減圧濃縮して得られる残渣をエ−テル／ヘキサ
ン混液から再結晶すれば、２−フタルイミドイルオキシ
アクリル酸　ｔ−ブチルエステル（６−Ｃ）　１５．８
６ｇを得る。収率：７３．０％。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ：　１．５６（ｓ
，　９Ｈ），　４．９６（ｄ，　Ｊ＝３．４Ｈｚ，　１
Ｈ），５．５８（ｄ，　Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ），　７
．７８〜７．９８（ｍ，　４Ｈ）。

【００３４】４．化合物ＶＩ−Ｄ（Ｒ＝ジフェニルメチ
ル、Ｒ１＝ｎ−プロピル、Ｒ２＝フタロイル）の製造実
施例２−４．で調製した３−ｎ−プロピルスルフィニル
−２−フタルイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニル
メチルエステル（５−Ｄ）　２．６１ｇ（５．３２ミリ
モル）をトルエン５０ｍｌにとかし、２時間加熱還流す
る。反応液を減圧濃縮して得られる残渣をエ−テル／ヘ
キサン混液から再結晶すれば、２−フタルイミドイルオ
キシアクリル酸ジフェニルメチルエステル（６−Ａ）　
１．７２ｇを得る。収率：８１．１％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７９０，
　１７３５，　１６４０。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　５．１４（
ｄ，　Ｊ＝３．８Ｈｚ，　１Ｈ），　５．７９（ｄ，　
Ｊ＝３．８Ｈｚ，　１Ｈ），　７．０５（ｓ，　１Ｈ）
，　７．１５〜７．４７（ｍ，　１０Ｈ），　７．７６
〜７．９４（ｍ，　４Ｈ）。

【００３５】５．化合物ＶＩ−Ｅ（Ｒ＝ジフェニルメチ
ル、Ｒ１＝フェニル、Ｒ２＝サクシニル）の製造実施例
２−５．で調製した３−フェニルスルフィニル−２−サ
クシンイミドイルオキシプロピオン酸ジフェニルメチル
エステルのスルホキシド基における立体異性体の１：１
混合物（５−Ｅ）　１．８２ｇ（３．８２ミリモル）を
トルエン４０ｍｌにとかし、１．５時間加熱還流す　る
。 反応液を減圧濃縮して得られる残渣をトルエン／ヘキサ
ン混液から再結晶すれば、２−サクシンイミドイルオキ
シアクリル酸ジフェニルメチルエステル（６−Ｅ）　０
．９９ｇを得る。収率：（４−Ｅ）　から７４．２％。 ｍｐ１４５〜１４６℃。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　１７８４，
　１７３５，　１６３８。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　２．７９（
ｓ，　４Ｈ），　５．０１（ｄ，　Ｊ＝３．８Ｈｚ，　
１Ｈ），　５．７８（ｄ，　Ｊ＝３．８Ｈｚ，　１Ｈ）
，　７．０１（ｓ，　１Ｈ），　７．２８〜７．４１（
ｍ，　１０Ｈ）。

【００３６】実施例４　　脱保護による２−アミノオキ
シアクリル酸誘導体ＶＩＩの製造

【化１２】 １．化合物ＶＩＩ−Ａ（Ｒ＝ジフェニルメチル、Ｒ２＝
フタロイル）の製造 実施例３−１．で調製した２−フタルイミドイルオキシ
アクリル酸ジフェニルメチルエステル（６−Ａ）　２０
０ｍｇ（０．５０ミリモル）をジクロロメタン４ｍｌに
とかし、−１０℃でメチルヒドラジン０．０２７ｍｌ（
０．５１ミリモル）を加え、−１０℃で２０分間撹拌す
る。生じる沈殿を濾去した反応液を濃縮すれば、油状残
渣として粗製の２−アミノオキシアクリル酸ジフェニル
メチルエステル（７−Ａ）１３２ｍｇを得る。収率：９
８．５　％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　３３１０，
　１７２０，　１６３２。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　５．３５（
ｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ，　１Ｈ），　５．５３（ｄ，　
Ｊ＝１．７Ｈｚ，　１Ｈ），　５．８１（ｂｒｓ，　２
Ｈ），　６．９８（ｓ，　１Ｈ），　７．２２〜７．４
０（ｍ，　１０Ｈ）。

【００３７】２．化合物ＶＩＩ−Ｂ（Ｒ＝ベンジル、Ｒ
２＝フタロイル）の製造 実施例３−２．で調製した２−フタルイミドイルオキシ
アクリル酸ベンジルエステル（６−Ｂ）　２．００ｇ（
６．　１９ミリモル）をジクロロメタン４０ｍｌにとか
し、−１０℃でメチルヒドラジン　０．３３ｍｌ（６．
１９ミリモル）を加え、同温で２０分間撹拌する。生じ
る沈殿を濾去した反応液を減圧濃縮する。残渣にトルエ
ン／ヘキサン（１：１）混液１０ｍｌを加え、生成する
結晶を濾去した濾液を濃縮すれば、残渣として２−アミ
ノオ　キシアクリル酸ベンジルエステル（７−Ｂ）１．
１９ｇを得る。収率：９９．５％。 ＩＲ　ν　（ＣＨＣｌ３）　ｃｍ−１　：　３３２０，
　１７２０，　１６３３。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３）　ｐｐｍ　：　５．２５（
ｓ，　２Ｈ），　５．３２（ｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ，　
１Ｈ），５．４５（ｄ，　Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），　
５．６０〜５．９９（ｍ，　２Ｈ），　７．３３〜７．
４８（ｍ，　５Ｈ）。

【００３８】３．化合物ＶＩＩ−Ｃ（Ｒ＝ｔ−ブチル、
Ｒ２＝フタロイル）の製造 実施例３−３．で調製した２−フタルイミドイルオキシ
アクリル酸ｔ−ブチルエステル（６−Ｃ）１６．５ｇ（
５　７ミリモル）をジクロロメタン１７０ｍｌにとかし
、−５５℃でメチルヒドラジン　３．３５ｍｌ（６３ミ
リモル）を加えた後、室温に戻し、同温で５０分間撹拌
する。生じる沈殿を濾去した反応液を減圧濃縮する。残
渣をトルエン／ヘキサン（１：１）混液１０ｍｌにとか
し、副成物であるフタルヒドラジド誘導体の結晶を濾去
した濾液を濃縮すれば、２−アミノオキシアクリル酸ｔ
−ブチルエステル（７−Ｃ）９．６ｇを得る。これを無
水メタノ−ル１００ｍｌに溶解し、２−（２−ｔ−ブト
キシカルボニルアミノ−４−チアゾリル）−グリオキザ
ル酸１４．７５ｇ（５４ミリモル）を加え、室温で１時
間撹拌する。反応液を減圧濃縮して得られる泡状残渣を
エチルエ−テル／トルエン混液から再結晶すれば、２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（１−ｔ−ブトキシカルボニルビニルオキシイ
ミノ）酢酸（７−Ｃ）２０．０ｇを得る。収率：８９．
８％。ｍｐ．　１４２〜１４５℃。 ＮＭＲ　δ　（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ）　ｐｐｍ　：
　１．５２（ｓ，　９Ｈ），　１．５５（ｓ，　９Ｈ）
，　５．５３（ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），　５．
５７（ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　１Ｈ），　７．３７（
ｓ，　２Ｈ）。

【００３９】

【効果】上記の実施例１〜３における各生成物（ＩＶお
よびＶＩ）の収率を表２にまとめて示す。

【表２】 収率（％）（Ｓ→Ｉの収率は略定量的）　　Ｉ→ＩＶ　
　　ＩＶ→ＶＩ　　　Ｉ→ＶＩ　　　　Ａ　　　　　Ｒ
＝ＢＨ，Ｒ１＝フェニル，Ｒ２＝フタロイル　　　　　
　７９．５　　　　　８５．０　　　　６７．５７　　
　Ｂ　　　　　Ｒ＝Ｂｚｌ，Ｒ１＝フェニル，Ｒ２＝フ
タロイル　　　　　７１．１　　　　　５８．８　　　
　４１．８０　　　Ｃ　　　　　Ｒ＝ｔ−Ｂｕ，Ｒ１＝
フェニル，Ｒ２＝フタロイル　　　　５０．１　　　　
　７３．０　　　　３６．５７　　　Ｄ　　　　　Ｒ＝
ＢＨ，Ｒ１＝プロピル，Ｒ２＝フタロイル　　　５５．
６　　　　　９７．２　　　　５４．０４　　　Ｅ　　
　　　Ｒ＝ＢＨ，Ｒ１＝フェニル，Ｒ２＝サクシニル　
　　　　　７８．５　　　　　７４．２　　　　５８．
２４表２を前記の表１と比較すると、本発明方法におけ
る出発物質ＩからＶＩの収率は最低でも約３７％であり
、最高約６８％に達し、従来法よりも収率が著しく高い
ことが分かる。従って、本発明によれば、簡便な方法で
高収率に２ーアミノオキシアクリル酸誘導体を製造する
ことができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　式Ｖ： 【化１】 （式中、Ｒは水素原子またはカルボン酸保護基、Ｒ１は
   芳香族または脂肪族基、Ｒ２は水素原子あるいはアミノ
   保護基を表す）で示される３−スルフィニル−２−アミ
   ノオキシプロピオン酸誘導体を脱スルフィニル化し、脱
   保護することからなる式ＶＩＩ： 【化２】 （式中、Ｒは水素原子あるいはカルボン酸保護基を表す
   ）で示される２−アミノオキシアクリル酸誘導体の製造
   方法。
2. 【請求項２】　　式ＩＶ： 【化３】 （式中、Ｒは水素原子あるいはカルボン酸保護基、Ｒ１
   は芳香族または脂肪族基、Ｒ２は水素原子あるいはアミ
   ノ保護基を表す）で示される３−スルフェニル−２−ア
   ミノオキシプロピオン酸誘導体を酸化して請求項１の３
   −スルフィニル−２−アミノオキシプロピオン酸誘導体
   Ｖを得、この３−スルフィニル−２−アミノオキシプロ
   ピオン酸誘導体Ｖを脱スルフィニル化し、脱保護するこ
   とにより２−アミノオキシアクリル酸誘導体ＶＩＩを製
   造する請求項１の方法。
3. 【請求項３】　　請求項１の式Ｖで示される３−スルフ
   ィニル−２−アミノオキシプロピオン酸誘導体。
4. 【請求項４】　　請求項２の式ＩＶで示される３−スル
   フェニル−２−アミノオキシプロピオン酸誘導体。