JPH08129740A

JPH08129740A - 磁気記録媒体、その製造方法及び製造装置

Info

Publication number: JPH08129740A
Application number: JP28923794A
Authority: JP
Inventors: Jota Ito; 条太伊藤; Kazunobu Chiba; 一信千葉
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-10-28
Filing date: 1994-10-28
Publication date: 1996-05-21

Abstract

(57)【要約】【構成】複数の金属磁性薄膜33Ａ〜33Ｄ等の積層体か
らなる磁性層をベースフィルム11上に有する磁気記録媒
体において、前記複数の金属磁性薄膜間の境界領域が、
これらの金属磁性薄膜と実質的に同等の酸化度を呈して
いることを特徴とする磁気記録媒体。下層の金属磁性薄
膜を形成した後に金属磁性材料の堆積を一時的に中断
し、しかる後に上層の金属磁性薄膜を形成する、磁気記
録媒体の製造方法。【効果】金属磁性薄膜の粒子サイズを小さくして低ノ
イズ化を実現すると共に、酸化層の生成を抑えて出力を
向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、複数の磁性薄膜の積層
体からなる磁性層を支持体上に有する磁気記録媒体、い
わゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体（例えば磁気テ
ープ、磁気ディスク）と、この磁気記録媒体の製造方法
及び製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来より磁気記録媒体としては、非磁性支
持体上にγ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏを含有するγ−Ｆｅ₂Ｏ
₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏを含有するＦｅ₃Ｏ₄、γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃とＦｅ₃Ｏ₄とのベルトライド化合物、Ｃｏを含
有するベルトライド化合物、ＣｒＯ₂等の酸化物強磁性
粉末、あるいはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とする合金
磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥す
ることにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。

【０００３】これに対して、例えばビデオテープ等の分
野では、高画質化を図るために高密度磁気記録化が一層
強く要求されてきている。そして、Ｆｅ系やＣｏ−Ｎｉ
合金等の強磁性金属材料を、メッキや真空薄膜形成技術
（真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等）によってポリエステルフィルムやポリイミドフ
ィルム等の非磁性支持体上に直接被着して磁性層を形成
した、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体が提案
されている。

【０００４】この強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体は、
保磁力（抗磁力）や角型比等に優れ、短波長での電磁変
換特性に優れるばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能で
あるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さい
こと、磁性層中に非磁性材である有機バインダーを混入
する必要がないため、磁性材料の充填密度を高めること
ができること等、数々の利点を有している。

【０００５】その中でも、真空蒸着法によって磁性層を
形成した蒸着テープは、高生産効率と安定した特性のた
めに、既にハイバンド８ミリ用テープ及びディジタルマ
イクロテープ（ＮＴテープ）として商品化されている。

【０００６】蒸着テープの磁性層は、真空中で電子線等
で磁性材料を加熱して蒸発させ、非磁性支持体上に付着
させることによって形成される。このような蒸着テープ
の磁気特性を制御するには、蒸着の際に酸素ガスを導入
して金属蒸気の一部を酸化させる方法が一般的である。
この場合、導入酸素量を増加させると、磁性層の保磁力
は増加し、飽和磁化量は減少する傾向があるので、適当
な磁気特性をもった磁性層を形成することができる。

【０００７】また、酸素ガスの導入位置によっても磁気
特性は大きく変化し、従来の知見では、保磁力及び角型
比の観点から、図８に示すように、最小入射角を規定す
るマスク１の背面より酸素ガス２を導入するのがよいと
されている。この結果、図９の主要部を拡大した図10に
示すように、磁性層３の表面に、極端に酸化されたいわ
ゆる表面酸化層４が形成される。

【０００８】より詳細に説明すると、まず、真空蒸着装
置５において、例えば10^-4Paの真空度の真空槽６内に
は、例えば−20℃の冷却キャン（クーリングロール）７
及び蒸発源８（坩堝９に収容された磁性金属10、例えば
Ｃｏ−Ｎｉ合金）が配置され、冷却キャン７に近接して
マスク（防着板）１が位置固定されている。

【０００９】真空槽６内では、非磁性ベースフィルム11
を巻回した繰り出しハブ12と、ベースフィルム11の先端
を取り付けた巻き取りハブ13とが取り付けられ、ハブ12
−13間のベースフィルム11は、巻き取りハブ13の回転に
より、冷却キャン７の外周面の所定領域に密着して送ら
れ、次いで巻き取りハブ13に巻き取られる。

【００１０】マスク１には窓14が設けられていて、真空
槽６外に配された電子銃15から発せられる電子ビーム16
が、静電レンズ17及び窓14を通って蒸発源８を照射し、
所定温度に加熱する。これによって、蒸発源８から磁性
金属10の蒸気18が飛翔し、マスク１の開口部19を通り、
冷却キャン７上で走行するベースフィルム11に対して選
択的に付着し、堆積して金属磁性薄膜となる。なお、開
口部19は、蒸着しないときはシャッタ（図示せず）によ
って塞がれていて、蒸着時にのみシャッタが移動して開
口するようにしてある。

【００１１】そして、マスク１の開口部19の下流側で
は、冷却キャン７とマスク１との間隙20内に酸素ガス供
給管21が配設され、上流側に向けて（ベースフィルムの
進行方向と向流的に）酸素ガス２を吹き出しながら磁性
金属の蒸着を行う。

【００１２】こうして、図９に示すように、ベースフィ
ルム11上には、少なくとも一部が酸化された金属磁性材
料からなる金属磁性薄膜３が磁性層として形成される
（なお、ベースフィルム11の裏面側には、別の塗布工程
によってバックコート層22が仮想線のように設けられて
よい）。

【００１３】図10には、金属磁性薄膜３について、その
構成磁性金属材料の粒子23が経時的に堆積されていく状
況を模式的に示した（図中の24は堆積粒子間のバウンダ
リを示す）。

【００１４】ところで、こうした蒸着テープの有効記録
深さはλ／４（λ＝記録波長）と言われており、これ以
上の厚みに蒸着層を形成することが、高い再生出力を得
るための必要条件である。

【００１５】しかしながら、図10に示した単層の蒸着層
（磁性層）３の場合には、蒸着層の厚みを大きくする
と、磁性層の形成と共に堆積金属粒子単位（図10での2
3）のサイズが大きくなり、これによってノイズが増大
する傾向がある。従って、出力が高い割りにはＣ／Ｎ
（キャリア・ツウ・ノイズ）は高くないのが常であり、
蒸着テープのＣ／Ｎを劣化させる原因となる。

【００１６】そこで、粒子サイズを小さく保ったまま、
蒸着層を厚くする方法として、図11に示すような多層蒸
着がある。即ち、薄い金属薄膜３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ
を複数積層する方法であり、各層間の境界で膜の成長が
中断されるため、粒子サイズが１層分しか成長せず、総
膜厚の割りには粒子サイズを小さくできる。

【００１７】しかし、この方法では、上述の酸素ガスを
供給しながら、下層を蒸着後にベースフィルムを巻き直
して再び繰り出し、上層を蒸着するため、これらの各層
間の境界に酸化層４ａが生成してしまう。各層３Ａ−３
Ｂ間、３Ｂ−３Ｃ間、３Ｃ−３Ｄ間の各酸化層４ａの総
厚みは、図10の単層蒸着における表面酸化層４の厚みに
比べて相対的に厚くなる傾向がある。酸化層は、殆ど非
磁性であるため、磁性薄膜全体の磁化量を減らすことと
なり、結果として、出力の劣化を招いてしまう。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、磁性
薄膜の粒子サイズを小さくして低ノイズ化を実現すると
共に、酸化層の生成を抑えて出力を向上させることにあ
る。

【００１９】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、複数の
磁性薄膜（特に金属磁性薄膜）の積層体からなる磁性層
を支持体上に有する磁気記録媒体において、前記複数の
磁性薄膜間の境界領域が、これらの磁性薄膜と実質的に
同等の酸化度を呈していることを特徴とする磁気記録媒
体に係るものである。

【００２０】本発明の磁気記録媒体によれば、複数の磁
性薄膜を積層しているので、合計膜厚を十分にした状態
で各磁性薄膜の膜厚を薄くすることができるため、各磁
性薄膜の構成磁性粒子のサイズを小さく抑えることがで
きるように各磁性薄膜を設けることが可能となり、従っ
て、ノイズを低減することができる。

【００２１】しかも、各磁性薄膜間の境界領域が、これ
らの磁性薄膜と実質的に同等の酸化度を呈しているの
で、その境界領域には酸化層が存在せず、磁性層全体と
しての磁化量（即ち、出力）を向上させることができ
る。ここで、「実質的に同等の酸化度」とは、酸素濃度
の差が±15原子％の範囲内、好ましくは±10原子％の範
囲内にあることを意味する。

【００２２】本発明の磁気記録媒体においては、複数の
金属磁性薄膜を構成する金属磁性材料が少なくとも部分
的に酸化されることによって、磁性層の保磁力及び飽和
磁化量を制御することができる。

【００２３】本発明者は、こうした本発明の磁気記録媒
体を実現すべく、各磁性薄膜間の境界領域に酸化層が生
成しないような多層蒸着膜の蒸着方法を見出し、本発明
の方法に到達した。

【００２４】即ち、磁性材料飛翔手段に対して支持体を
相対的に移動させ、酸素ガスを供給しながら、磁性材料
を蒸発等によって飛翔させて前記支持体上に堆積させ、
複数の磁性薄膜（特に金属磁性薄膜）を積層させるに際
し、下層の磁性薄膜を形成した後に磁性材料の堆積を一
時的に中断し、しかる後に上層の磁性薄膜を形成する方
法である。

【００２５】具体的には、図８に示した如き従来の蒸着
方法において、蒸着領域中に蒸着を遮るための遮蔽物を
例えば適当な間隔で支持体の移動方向に沿って複数個設
置することによって実現することができる。これによっ
て、蒸着層等の堆積層は一時的に膜の成長が中断された
後、上層が堆積されるので、多層構造を形成でき、各層
の粒子サイズを小さく抑えることができると同時に、各
層間には酸化層は実質的に生成しないことになる。一
方、酸素ガスは従来法と同様に、最小入射角を規定する
マスクの背面から導入すると、磁性層の最表面にのみ酸
化層が形成されるため、磁気特性の劣化はない。本発明
者は、この新しい蒸着方法を「断層蒸着」と名付けた。

【００２６】この断層蒸着の如き新規な堆積方法を実施
するには、支持体を磁性材料飛翔手段に対して相対的に
移動させる移動手段と、前記支持体上に酸素ガスを供給
する酸素ガス供給手段と、前記支持体上へ磁性材料（特
に金属磁性材料）を飛翔させて堆積させる前記磁性材料
飛翔手段と、前記支持体の近傍に配置されて前記支持体
上への前記磁性材料の堆積を一時的に中断するための遮
蔽手段とを有する製造装置を使用することが望ましい。

【００２７】この製造装置においては、上記の遮蔽手段
は、具体的には、支持体と金属磁性材料飛翔手段との間
において前記支持体の相対的移動方向と交差する方向に
延びる棒状体である。

【００２８】また、支持体に沿って遮蔽手段と酸素ガス
供給手段が配置されてよい。

【００２９】具体的には、蒸着装置として構成され、支
持体上に金属磁性材料を選択的に蒸着させるための開口
部を有するマスク手段の前記開口部に遮蔽手段が配置さ
れ、この遮蔽手段の下流側において前記支持体と前記マ
スク手段との間に酸素ガス供給手段が配置されている。

【００３０】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。

【００３１】図１は、本実施例の磁気記録媒体、例えば
蒸着テープを示すものである。

【００３２】この蒸着テープによれば、本発明に基い
て、ベースフィルム11上に複数（ここでは４層）の金属
磁性薄膜33Ａ、33Ｂ、33Ｃ、33Ｄが積層され、かつ、各
金属磁性薄膜33Ａ−33Ｂ間、33Ｂ−33Ｃ間、33Ｃ−33Ｄ
間の境界領域では、各金属磁性薄膜に対し酸素濃度の差
が10原子％以内であって実質的に同等の酸化度を呈して
いる（即ち、図11で述べた如き酸化層は存在しない）こ
とが特徴的である。

【００３３】但し、各金属磁性薄膜は、その構成金属磁
性材料が少なくとも部分的に酸化されて堆積したもので
あり、磁性層の保磁力及び飽和磁化量が適切にコントロ
ールされている。磁性層の最表面には酸化度の大きい表
面酸化層34が形成されていることや、バックコート層を
設けてよいことは図９で述べたと同様である。

【００３４】このように、複数の金属磁性薄膜33Ａ−33
Ｄが積層され、これらの境界領域に酸化層が存在してい
ないので、磁性層全体として磁化量を増大させ、これに
よって出力を向上させることができる。

【００３５】そして、磁性層全体としての厚みを有効記
録深さλ／４以上とした状態で、各金属磁性薄膜のそれ
ぞれの膜厚を薄くできるので、各金属磁性薄膜を構成す
る金属粒子のサイズを小さく抑え（実際には、成膜時の
粒子の成長を抑制し）、高出力にしてノイズレベルを低
下させることができる。

【００３６】なお、本実施例の蒸着テープは、既述した
ように金属磁性薄膜型として保磁力、角型比等に優れ、
短波長の電磁変換特性に優れると共に、記録減磁及び再
生時の厚み損失も低くし、高密度記録に好適なものであ
る。

【００３７】次に、本実施例の蒸着テープ製造用の真空
蒸着装置の構成を説明する。但し、図８に示した従来例
と共通する部分には共通符号を付し、その説明を省略す
ることがある。

【００３８】この真空蒸着装置によれば、境界領域に酸
化層を生成することなく上記の各金属磁性薄膜33Ａ〜33
Ｄを積層することができるように、蒸着領域を規制する
ためのマスク１の開口部19において冷却キャン７上のベ
ースフィルム11と蒸発源８との間に複数（ここでは３
本）のバー状の遮蔽部材40Ａ、40Ｂ、40Ｃが取り付けら
れている。

【００３９】これらの遮蔽部材はそれぞれ、冷却キャン
７の外周面に沿って、ベースフィルム11の幅方向に延び
ている。この場合、例えば、冷却キャン７の半径を 600
mmとし、この冷却キャン７の外周において、水平線から
一定の角度範囲α（例えば45度の範囲）内に各遮蔽部材
40Ａ、40Ｂ、40Ｃが存在するようにし、これらの遮蔽部
材の径及び間隔は図１に示した各磁性薄膜33Ａ〜33Ｄの
膜厚（更には、ベースフィルム11の搬送速度）に対応し
て設定されている。

【００４０】真空蒸着によって、金属磁性薄膜33Ａ〜33
Ｄを図１のように４層分積層するには、酸素ガス供給管
21の導出口21ａから酸素ガス２をベースフィルム11の進
行方向と向流的に吹き出しながら、蒸発源８から図８に
示した電子ビーム加熱によって磁性金属10を蒸発させ、
この蒸気を冷却キャン７上のベースフィルム11に堆積さ
せる。

【００４１】この際、冷却キャン７の上流側から下流側
にかけて上記の遮蔽部材40Ａ、40Ｂ、40Ｃを配設してい
るので、これらの部材によってマスク１の開口部19を４
つの蒸着空間部19Ａ、19Ｂ、19Ｃ、19Ｄに分割し、か
つ、遮蔽部材40Ａ、40Ｂ、40Ｃの位置で蒸着を一時的に
中断させることになる。

【００４２】従って、冷却キャン７に沿ってベースフィ
ルム11を連続的に一定の速度で送りながら、蒸発源８か
ら磁性金属の蒸気をベースフィルム11へ飛翔させること
によって、まず最上流側の空間部19Ａを通して図４
（Ｉ）のように１層目の金属磁性薄膜33Ａを所定厚み
（例えば50nm程度）に蒸着する。

【００４３】引き続いて、ベースフィルム11が１本目の
遮蔽部材40Ａの位置に移動すると、ここでは蒸着が遮断
され、一時的に蒸着膜の成長が中断されることになる。
そして、この直後に２番目の空間部40Ｂにおいて２層目
の金属磁性材料の蒸着が開始され、図４（II）のように
金属磁性薄膜33Ｂを所定厚み（例えば50nm程度）に蒸着
する。

【００４４】この場合、１層目の薄膜33Ａの形成直後に
蒸着が一時的に中断された後に２層目の蒸着が開始され
るので、一時的に酸化粒子の堆積を中断した後に２層目
の薄膜33Ｂを蒸着でき、これによって両薄膜33Ａ−33Ｂ
間には過度に酸化された酸化層が生成することはなく、
適度な酸化度の磁性材料からなる薄膜33Ａ及び33Ｂを形
成することができる。

【００４５】こうした現象は、更に上層の金属磁性薄膜
33Ｃ、33Ｄを形成する場合にも同様に生じるため、金属
磁性薄膜33Ａ、33Ｂ、33Ｃ、33Ｄは各境界領域に酸化層
が介在することなしに適度な酸化度で積層することが可
能となる。但し、最表面には表面酸化層34は生成され
る。

【００４６】従って、全体としての酸化層の総厚を小さ
くできるため、磁性層の磁化量を保持し、出力を向上さ
せることができ、また、各磁性薄膜の保磁力等の磁気特
性も良好にすることができる。

【００４７】図５は、遮蔽部材40Ａ〜40Ｃについて変更
を加えた他の実施例を示すものである。

【００４８】即ち、図２に示した例とは異なり、遮蔽部
40Ａ、40Ｂ、40Ｃをマスク１と一体に、マスク１の壁部
自体を加工することによって形成している。

【００４９】この場合も、各遮蔽部40Ａ、40Ｂ、40Ｃ
は、上述した遮蔽部材と同様に金属磁性薄膜を酸化層の
介在なしに積層するために使用される。但し、マスク１
の壁部自体で形成している点では、マスク１と別個の部
材を用意して取り付けることは不要となる。

【００５０】本発明が適用可能な磁気記録媒体は、非磁
性支持体（ベースフィルム）11の一方の面上に必要とあ
れば下地層を介して磁性層として複数の金属磁性薄膜33
Ａ〜33Ｄが積層され、他の面上にバックコート層22が形
成されたものである（図９参照）。

【００５１】ここで、非磁性支持体の素材としては、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
２，６−ナフタレート等のポリエステル類をはじめ、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボ
ネート等のプラスチックや、ポリベンゾオキサゾール等
を好ましく用いることができる。

【００５２】また、上記磁性層である金属磁性薄膜33Ａ
〜33Ｄは、真空蒸着法で形成可能である以外にも、スパ
ッタリング等により形成可能である。

【００５３】上記真空蒸着法は、10^-4〜10^-1Torrの真空
下で強磁性金属材料を電子ビーム加熱（これ以外にも、
抵抗加熱、高周波加熱等も適用可能）により蒸発させ、
非磁性支持体上に蒸発金属（強磁性金属材料）を被着す
るというものであり、高い保磁力を得るため、基板に対
して上記強磁性金属材料を斜めに蒸着する斜方蒸着法を
採用してよい。

【００５４】このような真空薄膜形成技術により複数の
金属磁性薄膜を形成する際に、使用される強磁性金属材
料としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ等の金属の他に、
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合
金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｃｒ合金あるいはこれらにＣｒ、Ａｌ等の金
属が含有されたもの等が挙げられる。特に、Ｃｏ−Ｃｒ
合金を使用した場合には、垂直磁化膜が形成される。

【００５５】こうした各金属磁性薄膜の膜厚は、通常、
0.02〜１μｍであり、磁性層の総厚は 0.1〜３μｍであ
ってよい。

【００５６】バックコート層22には、カーボンブラッ
ク、ＴｉＯ₂、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣａＣＯ₃、Ｎａ₂Ｓ
Ｏ₄、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂等の非磁性粒子が少量添加
されてもよい。

【００５７】このバックコート層の厚みは通常、 0.4〜
1.2 μｍである。

【００５８】また、バックコート層は、カーボンブラッ
ク等の非磁性粒子を結合剤中に配合して分散したもので
あるが、使用可能な結合剤としては、変性又は非変性の
塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂或いはポリエステ
ル樹脂を使用することができるし、さらに繊維素系樹
脂、フェノキシ系樹脂或いは特定の使用方式を有する熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬
化型樹脂等を併用してもよい。

【００５９】このバックコート層を形成するには、例え
ばバックコート層の構成成分を結合剤中に分散し、結合
剤の種類等によってエーテル類、エステル類、ケトン
類、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素化炭化水素
等から選ばれる有機溶剤とともに混練してバックコート
層用塗料を調製し、この塗料を非磁性支持体の裏面に塗
布し、乾燥、カレンダー処理する。結合剤に対しては、
一層耐久性の向上を図るために、多官能性イソシアネー
ト等の硬化剤を５〜30重量％添加することが好ましい。

【００６０】次に、上記した実施例の具体例について説
明する。

【００６１】10^-9気圧（10^-4Pa）に排気した図８に示し
た如き連続巻き取り式蒸着装置内で、坩堝内においたコ
バルト合金を電子ビームで加熱溶解し、ポリエチレンテ
レフタレートベースフィルム上に蒸着した。ベースフィ
ルム長さ方向での蒸着の入射角は、ベースフィルムの法
線方向から90度〜45度の範囲内であった。ベースフィル
ムの送り速度を25m/分とし、総厚み 200nmとなるような
レートで蒸着し、異なる厚みの膜は、送り速度を変えて
作成した。図６に、サンプル作成の工程フローを示し
た。

【００６２】上記の要領により、従来の方法で膜厚 200
nmの単層を蒸着したものＡ（図10参照）と、従来の方法
で膜厚50nmの４層を蒸着したものＢ（図11参照）、本発
明に基づく断層蒸着で膜厚50nmの４層を蒸着したものＣ
（図１参照）を作成し、評価した。下記の表１に各サン
プルをまとめて示す。

【００６３】なお、サンプルＢの作成の際には、下層の
蒸着後に巻き直し、再度蒸着する工程を繰り返すことに
よって、各層の成長方向を同じ方向となるように作成し
た。

【００６４】バックコート層の形成に際しては、上記の
磁性層（蒸着層）の形成後に、下記組成の原材料をボー
ルミルにて48時間混合後、フィルターを通したのち、コ
ロネートＬ（日本ポリウレタン工業社製）を20重量部添
加して、バックコート層用塗料を調製した、これをベー
スフィルムの裏面に厚さ 0.6μｍに塗布した。

【００６５】カーボンブラック（コロンビアカーボン社製のＲＡＶＥＮ−１２５０） 100重量部結合剤（バインダ)(極性基ＳＯ₃Ｎａ含有ポリエステルポリウレタン：東洋紡績社製のＵＲ−８３００） 70 重量部メチルエチルケトン 220重量部メチルイソブチルケトン 220重量部トルエン 220重量部

【００６６】磁性層表面にはナフタレンジオールによる
防錆処理、更には、パーフルオロポリエーテルからなる
潤滑剤の塗布を行った。しかる後、乾燥し、８mm幅に裁
断して、対応する各磁気テープを作成した。

【００６７】

【００６８】図７に、各サンプルの磁性層の深さ方向の
酸化度分布を示した。酸化度の測定は、オージェ分析に
よって測定し、コバルトと酸素の濃度比（原子％の比）
を酸化度とした。これによれば、従来の多層蒸着層（サ
ンプルＢ）が、各層間の境界に酸化層を有するのに対し
て、本発明に基づく断層蒸着（サンプルＣ）では、各層
の境界に酸化層が存在しないことが分かる。

【００６９】また、下記の表２に、各サンプルの磁気特
性と、電磁変換特性の測定結果を示した。磁気特性は、
試料振動型測定機（東英工業社製のＶＳＭ）によって測
定し、電磁変換特性は、ソニー社製のハイバンド８ミリ
ビデオデッキＥＶ−Ｓ９００を改造したもので測定し
た。相対速度は 3.8m/秒、記録周波数は７MHz で行い、
再生出力と、ノイズとして６MHz での出力を測定した。
記録電流は、各サンプルについて最も高い再生出力が得
られる値に設定した。

【００７０】

【００７１】この結果から、本発明に基づく断層蒸着
は、従来の単層蒸着と同等の磁気特性を有し、また、電
磁変換特性では出力が同等で、ノイズが低く、Ｃ／Ｎが
２dBも高いことが分かる。また、従来の多層蒸着に比べ
ても、飽和磁化量が改善され、また、出力及びＣ／Ｎが
向上している。

【００７２】なお、上記の例は、蒸着層としてＣｏを使
用したものであるが、断層蒸着によって粒子サイズを小
さくしてノイズを低くすることは、Ｃｏの他に、Ｆｅ、
Ｎｉ等の金属やＣｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系
合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系合
金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合
金等からなる面内磁化記録金属磁性膜や、Ｃｏ−Ｃｒ系
合金薄膜、Ｃｏ−Ｏ系薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄
膜、更には、金属酸化物磁性薄膜に関する場合において
も有効である。

【００７３】また、金属磁性薄膜の厚みや積層数（２
層、３層、５層以上でもよい。）、磁性層の総厚等や、
その成膜方法も変更してよい。上述の遮蔽部材40の個数
や配置方向も変更してよい。

【００７４】

【発明の作用効果】本発明は、上述した如く、複数の磁
性薄膜の積層体からなる磁性層を支持体上に有する磁気
記録媒体において、前記複数の磁性薄膜間の境界領域
が、これらの磁性薄膜と実質的に同等の酸化度を呈して
いるので、合計膜厚を十分にした状態で各磁性薄膜の膜
厚を薄くすることができ、各磁性薄膜の構成磁性粒子の
サイズを小さく抑えることができるように各磁性薄膜を
設けることが可能となり、従って、ノイズを低減するこ
とができる。

【００７５】しかも、各磁性薄膜間の境界領域が、これ
らの磁性薄膜と実質的に同等の酸化度を呈しているの
で、その境界領域には酸化層が存在せず、磁性層全体と
しての磁化量（即ち、出力）を向上させることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による蒸着テープ（断層蒸着
層）の一部分の概略断面図である。

【図２】同蒸着テープの製造に使用する真空蒸着装置の
主要部の概略断面図である。

【図３】同主要部の側面図である。

【図４】同蒸着テープの金属磁性薄膜形成を経時的に示
す概略断面図である。

【図５】本発明の他の実施例による真空蒸着装置の主要
部の概略断面図である。

【図６】各種蒸着テープの製造工程のフローチャートで
ある。

【図７】同各種蒸着テープの磁性層深さ方向での酸化度
の分布図である。

【図８】従来の蒸着テープの製造に使用する真空蒸着装
置の概略断面図である。

【図９】同蒸着テープの一部分の概略断面図である。

【図10】同蒸着テープの磁性層（単層蒸着層）を拡大し
て示す概略断面図である。

【図11】他の蒸着テープの磁性層（多層蒸着層）を拡大
して示す概略断面図である。

【符号の説明】

１・・・マスク２・・・酸素ガス３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、33Ａ、33Ｂ、33Ｃ、33Ｄ
・・・金属磁性薄膜４、４ａ、34・・・酸化層７・・・冷却キャン８・・・蒸着源 10・・・磁性金属 11・・・ベースフィルム 15・・・電子銃 16・・・電子線 18・・・金属蒸気 19・・・開口部 19Ａ、19Ｂ、19Ｃ、19Ｄ・・・蒸着空間部 21・・・酸素ガス供給管 22・・・バックコート層 23・・・金属磁性粒子（単位） 40Ａ、40Ｂ、40Ｃ・・・遮蔽部材又は遮蔽部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の磁性薄膜の積層体からなる磁性層
を支持体上に有する磁気記録媒体において、前記複数の
磁性薄膜間の境界領域が、これらの磁性薄膜と実質的に
同等の酸化度を呈していることを特徴とする磁気記録媒
体。
【請求項２】複数の金属磁性薄膜を構成する金属磁性
材料が少なくとも部分的に酸化されている、請求項１に
記載した磁気記録媒体。
【請求項３】支持体を磁性材料飛翔手段に対して相対
的に移動させ、酸素ガスを供給しながら、磁性材料を飛
翔させて前記支持体上に堆積させ、複数の磁性薄膜を積
層させるに際し、下層の磁性薄膜を形成した後に磁性材
料の堆積を一時的に中断し、しかる後に上層の磁性薄膜
を形成する、請求項１又は２に記載した磁気記録媒体の
製造方法。
【請求項４】金属磁性材料の堆積を一時的に中断する
ための遮蔽手段を支持体の移動方向に沿って配置する、
請求項３に記載した製造方法。
【請求項５】金属磁性材料を蒸着によって支持体上に
堆積させる、請求項３又は４に記載した製造方法。
【請求項６】支持体を磁性材料飛翔手段に対して相対
的に移動させる移動手段と、前記支持体上に酸素ガスを
供給する酸素ガス供給手段と、前記支持体上へ磁性材料
を飛翔させて堆積させる前記磁性材料飛翔手段と、前記
支持体の近傍に配置されて前記支持体上への前記磁性材
料の堆積を一時的に中断するための遮蔽手段とを有す
る、請求項１又は２に記載した磁気記録媒体の製造装
置。
【請求項７】遮蔽手段が支持体と金属磁性材料飛翔手
段との間において前記支持体の相対的移動方向と交差す
る方向に延びる棒状体である、請求項６に記載した製造
装置。
【請求項８】支持体に沿って遮蔽手段と酸素ガス供給
手段が配置されている、請求項６又は７に記載した製造
装置。
【請求項９】蒸着装置として構成され、支持体上に金
属磁性材料を選択的に蒸着させるための開口部を有する
マスク手段の前記開口部に遮蔽手段が配置され、この遮
蔽手段の下流側において前記支持体と前記マスク手段と
の間に酸素ガス供給手段が配置されている、請求項８に
記載した製造装置。