JPH0433528Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0433528Y2 JPH0433528Y2 JP1986179067U JP17906786U JPH0433528Y2 JP H0433528 Y2 JPH0433528 Y2 JP H0433528Y2 JP 1986179067 U JP1986179067 U JP 1986179067U JP 17906786 U JP17906786 U JP 17906786U JP H0433528 Y2 JPH0433528 Y2 JP H0433528Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- yoke
- core
- mark
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Magnetic Heads (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
この考案は、複数トラツクを有する薄膜磁気ヘ
ツドに係り、特に、薄膜磁気ヘツドの製造工程に
おいて、各トラツクのデプス量を均一に加工する
ための研摩をマークを設けた薄膜磁気ヘツドに関
するものである。
ツドに係り、特に、薄膜磁気ヘツドの製造工程に
おいて、各トラツクのデプス量を均一に加工する
ための研摩をマークを設けた薄膜磁気ヘツドに関
するものである。
(ロ) 従来技術
複数トラツクを有する薄膜磁気ヘツドの研摩マ
ークとしては、例えば、第3図および第4図の要
部拡大平面図に示すように形成されたものがあ
る。
ークとしては、例えば、第3図および第4図の要
部拡大平面図に示すように形成されたものがあ
る。
第3図の研摩マーク1は、薄膜磁気ヘツドのコ
アまたはヨーク2の位置する箇所の両端の外側
に、それぞれ設けられている。この研摩マーク1
はコアまたはヨーク2を研摩する方向(矢印で
示している)に、それぞれ階段状に突出させたマ
ーク部分1a〜1eが形成されている。このよう
に表示されている研摩マーク1の例えば、マーク
部分1eが所定のデプス量の位置と仮定すると、
この研摩マーク1を、順次確認をしながら研摩加
工を施し、マーク部分1eの先端が削り取られ完
全にみえなくなつた時に、研摩加工を終了する。
このように、研摩マーク1の各マーク部分1a〜
1eの先端が、研摩加工の進行に伴なつて順次削
り取られ消えて行く状態を確認しながら、各トラ
ツクのデプス量が均一になるように加工を施する
ようになつている。
アまたはヨーク2の位置する箇所の両端の外側
に、それぞれ設けられている。この研摩マーク1
はコアまたはヨーク2を研摩する方向(矢印で
示している)に、それぞれ階段状に突出させたマ
ーク部分1a〜1eが形成されている。このよう
に表示されている研摩マーク1の例えば、マーク
部分1eが所定のデプス量の位置と仮定すると、
この研摩マーク1を、順次確認をしながら研摩加
工を施し、マーク部分1eの先端が削り取られ完
全にみえなくなつた時に、研摩加工を終了する。
このように、研摩マーク1の各マーク部分1a〜
1eの先端が、研摩加工の進行に伴なつて順次削
り取られ消えて行く状態を確認しながら、各トラ
ツクのデプス量が均一になるように加工を施する
ようになつている。
第4図は、三角形状をした研摩マーク11を、
薄膜磁気ヘツドのコアまたはヨークの位置する箇
所の両端の外側に、それぞれ設けたものである。
この三角形状の研摩マーク11の頂点11aを所
定のデプス量の位置とし、この研摩マーク11が
削り取られて行く状態、すなわち、三角形の底面
11b側から順次研摩されて、その三角形が次第
に小さくなつて行く状態を確認しながら、頂点1
1aが見えなくなる位置まで研摩加工を施し、各
トラツクのデプス量を均一にするものである。
薄膜磁気ヘツドのコアまたはヨークの位置する箇
所の両端の外側に、それぞれ設けたものである。
この三角形状の研摩マーク11の頂点11aを所
定のデプス量の位置とし、この研摩マーク11が
削り取られて行く状態、すなわち、三角形の底面
11b側から順次研摩されて、その三角形が次第
に小さくなつて行く状態を確認しながら、頂点1
1aが見えなくなる位置まで研摩加工を施し、各
トラツクのデプス量を均一にするものである。
(ハ) 考案が解決しようとする問題点
しかし、上記した従来のものにおいては、その
いずれもがコアまたはヨークの位置する箇所の両
端の外側に研摩マークがそれぞれ設けられている
ため、研摩加工時において、この両研摩マークに
合せても、各トラツクのデプス量が均一に加工で
きない場合がある。
いずれもがコアまたはヨークの位置する箇所の両
端の外側に研摩マークがそれぞれ設けられている
ため、研摩加工時において、この両研摩マークに
合せても、各トラツクのデプス量が均一に加工で
きない場合がある。
すなわち、第5図の平面図に示すように、コア
またはヨーク2の位置する箇所の両端の外側に設
けられている研摩マーク1,1に位置合せを行な
い、矢印方向から研摩加工を開始する。この研
摩加工は、研摩マーク1の○イの位置から○ロの位置
に至るまでの間は、機械研摩によつて行なわれ、
次の○ロの位置から○ハの所定のデプス量の位置まで
を、テープ研摩による加工を行なつている。
またはヨーク2の位置する箇所の両端の外側に設
けられている研摩マーク1,1に位置合せを行な
い、矢印方向から研摩加工を開始する。この研
摩加工は、研摩マーク1の○イの位置から○ロの位置
に至るまでの間は、機械研摩によつて行なわれ、
次の○ロの位置から○ハの所定のデプス量の位置まで
を、テープ研摩による加工を行なつている。
しかし、このテープ研摩による仕上げの段階に
おいて、研摩マーク1に近い両端では、所定のデ
プス量の位置に研摩されるが、中央付近に配列さ
れたコアまたはヨーク2においては、研摩用テー
プの弛み等によつて、所定のデプス量の位置○ハに
研摩されず、例えば、○ニで示すような研摩状態と
なる虞れがあつた。また、このような研摩状態が
生じても、研摩マーク1が両側に設けられている
ために、研摩加工時に、その状態を確認すること
がむずかしく、各トラツク間において特性のばら
つきが生じるという欠点があつた。
おいて、研摩マーク1に近い両端では、所定のデ
プス量の位置に研摩されるが、中央付近に配列さ
れたコアまたはヨーク2においては、研摩用テー
プの弛み等によつて、所定のデプス量の位置○ハに
研摩されず、例えば、○ニで示すような研摩状態と
なる虞れがあつた。また、このような研摩状態が
生じても、研摩マーク1が両側に設けられている
ために、研摩加工時に、その状態を確認すること
がむずかしく、各トラツク間において特性のばら
つきが生じるという欠点があつた。
さらに、上記した、研摩マーク1が両端に離れ
て設けられているために研摩時に正確に確認しに
くいという欠点に加えて研摩マーク自体の読み取
りがむずかしいという欠点があつた。
て設けられているために研摩時に正確に確認しに
くいという欠点に加えて研摩マーク自体の読み取
りがむずかしいという欠点があつた。
この考案の目的は、上記従来例の欠点を解消し
た研摩マークを設けた薄膜磁気ヘツドを提供する
ことにある。
た研摩マークを設けた薄膜磁気ヘツドを提供する
ことにある。
(ニ) 問題点を解決するための手段
この考案に係る薄膜磁気ヘツドは、複数トラツ
クを有する薄膜磁気ヘツドにおいて、コアまたは
ヨークに階段状に形成され、かつ最下段のステツ
プが、所定のデプス量の位置を表示するように形
成される研磨マークを有することを特徴とするも
のである。
クを有する薄膜磁気ヘツドにおいて、コアまたは
ヨークに階段状に形成され、かつ最下段のステツ
プが、所定のデプス量の位置を表示するように形
成される研磨マークを有することを特徴とするも
のである。
(ホ) 作用
コアまたはヨーク自体に階段状の研摩マークを
形成することにより各コアまたヨークを、所定の
デプス量の位置に研摩加工を施すことができ、各
トラツク間における特性のばらつきをなくすこと
ができる。
形成することにより各コアまたヨークを、所定の
デプス量の位置に研摩加工を施すことができ、各
トラツク間における特性のばらつきをなくすこと
ができる。
(ヘ) 実施例
この考案に係る薄膜磁気ヘツドの実施例を第1
図および第2図に基づいて説明する。第1図は薄
膜磁気ヘツドの構成の要部を示す平面図、第2図
は第2図のA−A線を断面した側面図である。
図および第2図に基づいて説明する。第1図は薄
膜磁気ヘツドの構成の要部を示す平面図、第2図
は第2図のA−A線を断面した側面図である。
薄膜磁気ヘツドの製造工程のコアまたはヨーク
2を形成する時に、研摩マーク12の部分を各コ
アまたはヨーク2自体に形成する。この各コアま
たはヨーク2に形成された研摩マーク12は、階
段状に形成されていて、研摩加工する際に、その
研摩加工の度合を確認するための第1,第2のス
テツプ12a,12bと、所定のデプス量の位置
を表す第3のステツプ12cとを設けている。こ
の実施例では、3つのステツプからなる研摩マー
ク12を形成しているが、これは、必要に応じて
増減させることができる。
2を形成する時に、研摩マーク12の部分を各コ
アまたはヨーク2自体に形成する。この各コアま
たはヨーク2に形成された研摩マーク12は、階
段状に形成されていて、研摩加工する際に、その
研摩加工の度合を確認するための第1,第2のス
テツプ12a,12bと、所定のデプス量の位置
を表す第3のステツプ12cとを設けている。こ
の実施例では、3つのステツプからなる研摩マー
ク12を形成しているが、これは、必要に応じて
増減させることができる。
なお、図において、3はコイル、4は下部磁性
層、5はギヤツプである。また、点線○ハは、所定
のデプス量の位置、すなわち、研摩によつて、こ
の位置までデプスを削り込むようになつている。
層、5はギヤツプである。また、点線○ハは、所定
のデプス量の位置、すなわち、研摩によつて、こ
の位置までデプスを削り込むようになつている。
以上の実施例から明らかなように、階段状の研
摩マーク12を形成したコアまたはヨーク2は、
複数トラツクを有する薄膜磁気ヘツドの最下段の
ステツプが所定のデプス量のコア長(またはヨー
ク長)に設定されているから、この位置○ハまでデ
プスを削り込むことにより、各コアまたはヨーク
を均一に研摩加工することができる。
摩マーク12を形成したコアまたはヨーク2は、
複数トラツクを有する薄膜磁気ヘツドの最下段の
ステツプが所定のデプス量のコア長(またはヨー
ク長)に設定されているから、この位置○ハまでデ
プスを削り込むことにより、各コアまたはヨーク
を均一に研摩加工することができる。
(ト) 考案の効果
この考案に係る薄膜磁気ヘツドによれば、コア
またはヨーク自体に階段状の研摩マークを構成し
ているので、デプス量が明確化でき、各トラツク
のデプス量が均一に加工することができ、記録、
再生ヘツド特性の向上を図ることができ、かつト
ラツク間のばらつきをおさえることができる。
またはヨーク自体に階段状の研摩マークを構成し
ているので、デプス量が明確化でき、各トラツク
のデプス量が均一に加工することができ、記録、
再生ヘツド特性の向上を図ることができ、かつト
ラツク間のばらつきをおさえることができる。
第1図および第2図は、この考案の実施例を示
すもので、第1図は平面図、第2図は第1図のA
−A線断面側面図である。第3図乃至第5図は、
従来例を示すもので、第3図および第4図は要部
拡大平面図、第5図は研摩状態を説明するための
平面図である。 1,11……研摩マーク、12……研摩マー
ク、12a,12b,12c……ステツプ、2…
…コアまたはヨーク、3……コイル、4……下部
磁性層。
すもので、第1図は平面図、第2図は第1図のA
−A線断面側面図である。第3図乃至第5図は、
従来例を示すもので、第3図および第4図は要部
拡大平面図、第5図は研摩状態を説明するための
平面図である。 1,11……研摩マーク、12……研摩マー
ク、12a,12b,12c……ステツプ、2…
…コアまたはヨーク、3……コイル、4……下部
磁性層。
Claims (1)
- 複数トラツクを有する薄膜磁気ヘツドにおい
て、コアまたはヨークに階段状に形成され、かつ
最下段のステツプが、所定のデプス量の位置を表
示するように形成される研磨マークを有すること
を特徴とする薄膜磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986179067U JPH0433528Y2 (ja) | 1986-11-22 | 1986-11-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986179067U JPH0433528Y2 (ja) | 1986-11-22 | 1986-11-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6384712U JPS6384712U (ja) | 1988-06-03 |
| JPH0433528Y2 true JPH0433528Y2 (ja) | 1992-08-11 |
Family
ID=31121790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986179067U Expired JPH0433528Y2 (ja) | 1986-11-22 | 1986-11-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0433528Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2740327B2 (ja) * | 1990-03-20 | 1998-04-15 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘツドのギヤツプ深さ加工方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6040970Y2 (ja) * | 1975-06-06 | 1985-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | 集積磁気ヘツド |
| JPS545708A (en) * | 1977-06-15 | 1979-01-17 | Fujitsu Ltd | Production of thin-film magnetic heads |
| JPS61240417A (ja) * | 1985-04-17 | 1986-10-25 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS61243910A (ja) * | 1985-04-20 | 1986-10-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-11-22 JP JP1986179067U patent/JPH0433528Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6384712U (ja) | 1988-06-03 |
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