JPH043373B2 - - Google Patents

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JPH043373B2
JPH043373B2 JP21457283A JP21457283A JPH043373B2 JP H043373 B2 JPH043373 B2 JP H043373B2 JP 21457283 A JP21457283 A JP 21457283A JP 21457283 A JP21457283 A JP 21457283A JP H043373 B2 JPH043373 B2 JP H043373B2
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hydrogen atom
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formula
atom
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式() 〔式中、R1は低級アルキル基、低級アルコキ
シル基、ハロゲン原子またはフツ素置換低級アル
コキシル基を表わし、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基または低級アルコキシル基
を表わし、またR1とR2とが一緒になつてメチレ
ンジオキシ基またはトリメチレン基を表わす。
R3およびR4は夫々メチル基を表わすか、R3とR4
とでエチレン基を表わす。R5は水素原子または
アセチル基を表わし、R6は水素原子またはフツ
素原子を表わし、R7は水素原子またはハロゲン
原子を表わす。〕 で示されるフエニルカルビノール誘導体(以下、
本発明化合物と称する。)に関する。 本発明者らは、新規農薬の開発研究を進める中
で、一般式() 〔式中、R1,R2,R3,R4,R6およびR7は前述
と同じ意味を有する。〕 で示される化合物が、高い殺虫活性を有すること
を見出し、さらに該化合物の製造法につき鋭意検
討した結果、前記一般式()で示される本発明
化合物がその重要な合成中間体となることを見出
し、本発明に至つた。 本発明化合物は、一般式() 〔式中、R1,R2,R3およびR4は前述と同じ意
味を有する。〕 で示されるアセチレン化合物を、塩基の存在下
に、一般式() 〔式中、R6およびR7は前述と同じ意味を有す
る。〕 で示されるアルデヒドと反応させることにより、
一般式() 〔式中、R1,R2,R3,R4,R6およびR7は前述
と同じ意味を有する。〕 で示されるカルビノールとして得るか、また該カ
ルビノールをアセチル化することにより、そのア
セチル化物として得ることができる。 上記製造方法において、一般式()で示され
るアセチレン化合物と、一般式()で示される
アルデヒドとの反応は、通常不活性溶媒の存在下
で行なわれ、そのような溶媒としては、ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエ
ーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒などが
挙げられる。反応温度は−78℃〜100℃の範囲で
任意であるが、通常は−40〜40℃の範囲で行なわ
れる。また、反応時間は反応温度によつても変わ
るが、通常1〜15時間である。本反応で用いられ
る塩基としては、代表的には、n−ブチルリチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリ
ウム、エチルマグネシウムリチウムなどが挙げら
れる。 また、これらの反応試剤のモル比については、
アセチレン化合物は、アルデヒドに対し、0.5〜
1.5倍モル、通常は0.8〜1.2倍モルであり、また、
塩基はアセチレン化合物に対し、通常0.9〜1.1倍
モルの範囲である。 また、このようにして得られる一般式()で
示されるカルビノールをアセチル化するに際して
は、該カルビノールに対し、当モル〜1.5倍モル
のアセチルクロリドまたは無水酢酸を、ピリジ
ン、トリエチルアミンなどの第三級アミンの存在
下に反応させることにより容易に、そのアセチル
化合物が得られる。該反応において反応溶媒は必
ずしも必要ではないが、トルエン、ベンゼンなど
の炭化水素系溶媒を用いることもできる。また、
上記のような第三級アミンの使用量は0.1〜3倍
モルの範囲で任意であるが、通常、当モル〜1.5
倍モルである。反応温度は0〜100℃の範囲で任
意であるが、通常15〜40℃で充分目的が達せら
れ、反応時間は通常1〜12時間である。 尚、一般式()で示されるアセチレン化合物
は、一般式() 〔式中、R1,R2,R3およびR4は前述と同じ意
味を有する〕 で示されるアルデヒドから、例えばTetrahedron
Letters,36,3769(1972)に記載の方法により得
ることができる。 以下に、合成例および参考例で本発明をさらに
詳細に説明する。 合成例 1 4−メチル−4−(4−エトキシフエニル)−1
−(3−フエノキシフエニル)ペント−2−イ
ン−1−オールの合成 4−エトキシ−1−(2−メチル−3−ブチン
−2−イル)ベンゼン1.0gを無水テトラヒドロ
フラン20mlに溶解し、窒素気流下で−40℃でn−
ブチルリチウム/ヘキサン溶液3.8ml(1.40mmol
〜1ml)を滴下し、同温で1時間、0℃で1時間
かきまぜた。−40℃に再び冷却の後、3−フエノ
キシベンズアルデヒド1.16g(1.1倍モル)を加
え同温で1時間、20℃で12時間かきまぜた。反応
液を5%塩酸水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層を食塩水で洗浄の後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥の後、溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーで精製し(展
開溶媒n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)、
1.77gの淡黄色オイルを得た。 NMRデータ(CDCl3,δ値) 1.52(s,6H),1.3〜1.6(t,3H),2.45(broad
d,1H,水酸基),4(δ,2H),5.4(broad d,
1H),6.7〜7.5(ベンゼン環,13H) 屈折率 1.5897(23℃) 合成例 2 4−メチル−4−(4−エトキシフエニル)−1
−(3−フエノキシフエニル)ペント−2−イ
ン−1−アセテートの合成 4−メチル−4−(4−エトキシフエニル)−1
−(3−フエノキシフエニル)ペント−2−イン
−1−オール1.0g、ピリジン0.5gおよび無水酢
酸0.6gを反応フラスコに入れ、20℃で12時間撹
拌した。次いでこれに水10mlを加え、20℃で1時
間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水、塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。次に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにて精製し、1.02gの目的
物を得た。 屈折率 1.5767(23℃) 上記と同様にして合成される化合物を下表に記
載する。
【表】
【表】 参考例 1 2−メチル−2−(4−エトキシフエニル)プ
ロピオンアルデヒド570mg、トリフエニルフオス
フイン1.9gをジクロロメタン20mlに加えた後、
これに窒素気流下に−20℃で四臭化炭素1.2gを
加えた。同温で3時間、20℃で12時間かきまぜた
後、反応液にn−ヘキサン30mlを加え過し、
液を濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、目的物である、1,1−ジ
ブロモ−3−メチル−3−(4−エトキシフエニ
ル)−1−ブテン620mgを得た。このジブロミドを
テトラヒドロフラン10mlに加えた後、これに窒素
気流下に−40℃でn−ブチルリチウム2.7ml
(1.4mmol/ml)を加え、同温で1時間、0℃で
1時間かくはんの後、反応液を希塩酸にあけ酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層を食塩水洗浄の
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにて精製し、目的の3−メチル−3−(4−エ
トキシフエニル)−1−ブチン270mgを得た。屈折
率1.5173(24℃),NMR(CDCl3,δ)1.50(6H,
S),2.25(1H,S,メチンプロトン) 参考例 2 4−メチル−4−(4−エトキシフエニル)−1
−(3−フエノキシフエニル)ペント−2−イン
−1−アセテート1.1gを酢酸50mlに加え、これ
に5%パラジウム−炭素100mgを加えた後、室温
で常圧下に振盪しながら、接触水素添加反応を行
なつた。 理論量の水素を吸収させた後、反応液を過
し、液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーにて精製し、目的とする1−(3−
フエノキシフエニル)−4−メチル−4−(4−エ
トキシフエニル)ペンタン0.82gを得た。 NMR(CDCl3,δ値) 1.22(s,6H),1.35(t,3H), 1.5(m,4H),2.44(t,2H), 3.95(q,2H),6.7〜7.4(m,13H)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、R1は低級アルキル基、低級アルコキ
    シル基、ハロゲン原子またはフツ素置換低級アル
    コキシル基を表わし、R2は水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基または低級アルコキシル基
    を表わし、またR1とR2とが一緒になつてメチレ
    ンジオキシ基またはトリメチレン基を表わす。
    R3およびR4は夫々メチル基を表わすか、R3とR4
    とでエチレン基を表わす。R5は水素原子または
    アセチル基を表わし、R6は水素原子またはフツ
    素原子を表わし、R7は水素原子またはハロゲン
    原子を表わす。〕 で示されるフエニルカルビノール誘導体。 2 一般式 〔式中、R5は水素原子またはアセチル基を表
    わし、R6は水素原子またはフツ素原子を表わ
    す。〕 で示される特許請求の範囲第1項に記載のフエニ
    ルカルビノール誘導体。 3 一般式 〔式中、R5は水素原子またはアセチル基を表
    わし、R6は水素原子またはフツ素原子を表わ
    す。〕 で示される特許請求の範囲第1項に記載のフエニ
    ルカルビノール誘導体。
JP21457283A 1983-11-14 1983-11-14 フェニルカルビノ−ル誘導体 Granted JPS60105640A (ja)

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JP21457283A JPS60105640A (ja) 1983-11-14 1983-11-14 フェニルカルビノ−ル誘導体
KR1019840007119A KR850004087A (ko) 1983-11-14 1984-11-14 탄화 수소계 화합물의 제조방법

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JPS60105640A JPS60105640A (ja) 1985-06-11
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