JPH04339316A - 磁気ディスク用表面研磨テープ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク用表面研磨
テープ、更に詳しくは、フレキシブル磁気ディスク、磁
気テープなどの磁気記録媒体を製造する際に、該磁気デ
ィスク記録面の平滑化を目的とした表面研磨に用いられ
る磁気ディスク用表面研磨テープに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、フレキシブル磁気ディスクや磁気
テープなどの磁気記録媒体は高密度化の要求が一段と高
まり、このため超平滑媒体設計技術の開発が強く望まれ
ているところである。

【０００３】通常、非磁性支持体上に磁性粉と結合材な
どからなる磁気記録層を設けてなる磁気ディスクにおい
ては、その表面性をより一層向上させるべく磁気記録層
を形成した後に、円周方向に表面研磨処理がなされる。 このような表面研磨処理を施すことによって磁気ヘッド
と磁気ディスク間の記録再生スペーシング損失を大幅に
減少させることができ、その結果、電磁変換特性はもと
より走行安定性のより優れた磁気ディスクが得られる。

【０００４】前記磁気ディスクの円周方向の表面研磨処
理は長尺状の支持体の一方の面上に研磨性を有する微粒
子と結合材からなる研磨層が設けられた研磨テープを用
いて行なわれるのが一般的である。

【０００５】このような研磨テープを使用して磁気ディ
スクの表面研磨処理を行なう際には磁気ディスク表面研
磨装置が用いられる。この装置において前記研磨テープ
は弾性を有するバックアップロールにより高速回転する
磁気ディスク表面に押し当てられ、その結果、磁性層表
面に介在する微小突起が取り除かれ表面研磨が達成され
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】

【０００７】一般に表面研磨テープは基板となる可撓性
長尺原板に研磨層を塗布・乾燥した後、所定の幅にスリ
ットされ、更に前記結合材を熱により硬化させるために
恒温層内で所謂キュアリング処理が施される。表面研磨
テープは通常長尺ロール状形態にて供給されるが、巻き
締まりにより外周部分に比べて内周部分に強い圧力が加
わり、キュアリング処理を行なうことによって図５に示
すように、内周部分の表面粗さが低下し、その結果とし
て研磨能力が低下する。

【０００８】このような表面研磨テープを用いて例えば
フレキシブル磁気ディスクの研磨を行なった場合、図３
に示すように、表面研磨テープの使い始め部分（外周部
分）に比べ、使い終わり部分（内周部分）の研磨能力が
低下し、一定の品質のフレキシブル磁気ディスクを連続
して作製する場合、即ち、所望の面粗さを一定に保つた
めに研磨テープの使用箇所に応じて研磨時間を調整して
やる必要があった。さらには、フレキシブル磁気ディス
クの表面研磨において、結合材の研磨粒子に対する固着
力が十分でない場合には、研磨粒子の脱粒が生じ、スク
ラッチ発生を誘発したり、研磨粒子のディスク表面への
固着が生じ、品質を著しく低下させることにつながり大
きな問題となっていた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は上記従来技術の
課題に鑑みて提案されたもので、ロール状に巻き取られ
た長尺の表面研磨テープの表面粗さをテープ長手方向に
対して一定化させ、研磨粒子の脱粒を生じることを無く
すべく、支持体と該支持体上に形成された研磨層とを有
し、該研磨層は研磨粒子と結合材からなる磁気ディスク
用表面研磨テープにおいて前記表面研磨テープ中に（Ｒ
―Ｏ―）ｎ―Ｓｉ―（―ＯＣＯ―Ｒ’）４―ｎを含有さ
せることを基本的構成とするものである。

【００１０】

【作用】本発明においては表面研磨テープの表面高度は
シラン系カップリング剤が添加されたことによって研磨
粒子と結合剤間の親和性が高められ、両者の結合力がが
大幅に向上する。そのため、表面研磨テープと磁気ディ
スクの接触研磨時の加圧下状態においても高い研磨能力
を保持することができる。

【００１１】また、カップリング剤添加により研磨層の
硬度が高くなるため、キュアリング処理時に生じる巻き
締まりによる粗さ勾配を防止でき、長さ方向に対して均
一な研磨能力を有する表面研磨テープを得ることができ
る。このため、本発明による表面研磨テープを用いて磁
気ディスクの研磨を行なうことにより、表面研磨性の劣
化がなく、かつ、所望研磨時間を短縮することができる
ようになり生産効率の向上を図ることができる。

【００１２】

【実施例】本発明において用いることのできる支持体と
しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセテート
、ポリイミドなどの長尺フィルムがあり、いずれを用い
ても良い。

【００１３】研磨粒子はモース硬度６以上の微粉末であ
れば良く、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、α―
酸化鉄、ダイヤモンド、酸化珪素、酸化チタンなどが上
げられる。該微粉末の平均粒子径は０．０１〜１０μｍ
、好ましくは０．３〜３μｍの範囲内にあれば良い。

【００１４】結合剤としては、従来市販されている樹脂
を使用することができる。例えば、本発明において用い
られる結合剤としては、塩化ビニル―酢酸ビニル―ビニ
ルアルコール共重合体、エボキシ樹脂、フェノキシ樹脂
、塩化ビニル―アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル―酢酸ビニル―マイレン酸共重合体ポリビニルブチラ
ール樹脂、アクリロニトリル―ブタジェン共重合体、ポ
リウレタン樹脂などを上げることができる。

【００１５】本発明において用いられるシラン系カップ
リング剤としては、構造式が（Ｒ―Ｏ―）ｎ―Ｓｉ―（
―ＯＣＯ―Ｒ’）４―ｎで示されるシラン化合物であれ
ば良い。

【００１６】このシラン化合物の一例としては、従来市
販されているビニルトリクロシラン、ビニルトリエトキ
シラン、γ―アミノブロヒルメチルトリエトキシラン、
Ｎ―（β―アミノエチル）―γ―アミノブロビルトリメ
トキシシラン、γ―メルカブトブロビルトリメトキシシ
ランなどをあげることができ、該カップリング剤の添加
量は研磨粒子に対して０．１〜５ｗｔ％の範囲にあれば
良く、好ましくは１〜３ｗｔ％の範囲内であれば良い。

【００１７】本発明による研磨テープを従来用いられて
いる研磨テープと比較するため、本発明を実施して得ら
れる試料と従来による比較試料との間で性能比較試験を
行なった。

【００１８】［本発明の実施例］本実施例による塗料の
配合は、溶融アルミナ（平均粒径０．５μｍ）を８０重
量部、ポリウレタン樹脂（Ｔｇ　　２５℃）を６重量部
、エボキシ樹脂を１４重量部、γ―アミノブロビルトリ
エトキシランを２．０重量部、メチルエチルケトン／ト
ルエンを９０重量部／９０重量部とする。

【００１９】上記組成をボールミルにて５０時間混練後
、イソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネ
ートＬ）を４重量部加えて更に１時間混練し、塗料Ａを
得た。これを厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にノアン相互の研磨層の厚さが１５μｍと
なるように塗布・乾燥させ、幅１インチにスリットし、
内径６”のコアに１００ｍ巻き取り、これを６５℃で７
２時間キュアリングして本実施例の試料とした。

【００２０】［比較例］上記本発明の実施例にて研磨層
を形成する際、シランカップリング剤以外は同様にして
比較例の試料を得た。

【００２１】比較例の塗料の配合としては、溶融アルミ
ナ（平均粒径１．０μｍ）を８０重量部、ポリウレタン
樹脂（Ｔｇ　　２５℃）を６重量部、エボキシ樹脂を１
４重量部、γ―アミノブロビルトリエトキシランを２．
０重量部、メチルエチルケトン／トルエンを９０重量部
／９０重量部とする。

【００２２】上記実施例および比較例にて得られた各試
料を図１に示す機構を有する磁気ディスク研磨装置に装
着し、表１に示す処理条件にて直径３．５”のフレキシ
ブル磁気ディスクの表面研磨を行なった。

【００２３】

【表１】

【００２４】各表面研磨テープを用いて磁気ディスクの
表面性確保に必要な表面粗さに到達する必要研磨時間を
各表面研磨テープの最外周部分付近から最内周部分付近
まで５等分したときのテープ各位置について調査した。 ここで表面粗さはグロスメータによる光沢度で評価した
。本発明における実施例により得られた表面研磨テープ
のフレキシブル磁気ディスク表面研磨の結果を図２に、
また比較例により得られた表面研磨テープでの結果を図
３に示す。更に実施例および比較例において得られた表
面研磨テープを使用した場合での研磨時間と磁気ディス
ク表面光沢度の関係を図４に示すように研磨時間１秒に
おいて比較例ではグロス１６７％に対し、本発明の実施
例のものでは１７０％と光沢度が向上する。即ち、短時
間で所定の光沢度を得ることができる。

【００２５】各表面研磨テープを用いて得られた磁気デ
ィスク、各サンプル各１００枚、合計２００枚を用いて
表面研磨時における目視による磁気ディスクの表面観察
を行ない、スクラッチ発生率を調査した。また、表２に
示される条件でトラック品質検査を行なった。

【００２６】

【表２】

【００２７】次にスクラッチ発生率およびトラック品質
検査結果を表３に示す。

【００２８】

【表３】

【００２９】磁気ディスクの表面目視検査及びミッシン
グエラーのトラック品質検査において、実施例は比較例
に比べて明かに研磨粒子の脱粒および研磨によるスクラ
ッチが発生せず、所望の表面粗さが得られる。

【００３０】

【発明の効果】上記したように、本発明による表面研磨
テープを用いれば、長尺表面研磨テープの外周部分から
内周部分にわたって均一な粗さを有し、かつ、研磨粒子
の脱粒のない表面研磨テープが得られる。また、この表
面研磨テープを用いれば、必要研磨時間が短時間で高品
質の磁気ディスクを生産することが可能となり、磁気デ
ィスクの生産効率の大幅な向上を期待することができる
。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例および比較例において磁気ディ
スク用表面研磨テープを評価するために用いた磁気ディ
スクの表面研磨装置を示す斜視図。

【図２】本発明の実施例による磁気ディスク用表面研磨
テープの各部分における研磨能力の変化を示すグラフ。

【図３】比較例による磁気ディスク用表面研磨テープの
各部分における研磨能力の変化を示すグラフ。

【図４】実施例と比較例における必要研磨時間とグロス
の変化を示すグラフ。

【図５】従来使用されてきた表面研磨テープの各部部分
の表面粗さを示すグラフ。

【符号の説明】 １　　磁気ディスク ２　　表面研磨テープ ３ａ，３ｂ　　ガイドロール ４　　バックアップロール ５　　スリットエアノズル

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持体と該支持体上に形成された研磨
   層とを有し、かつ、該研磨層が研磨粒子と結合材からな
   る表面研磨テープにおいて、前記研磨層中に（Ｒ―Ｏ―
   ）ｎ―Ｓｉ―（―ＯＣＯ―Ｒ’）４―ｎを含有すること
   を特徴とする磁気ディスク用表面研磨テープ。