JPH052744A - 磁気デイスク用表面研磨テープ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ロール状に巻き取られた長尺の研磨テープの
表面粗さをテープ長手方向に対して一定化することと、
研磨テープを用いて研磨を行った場合に研磨粒子の脱粒
が生じることのないフレキシブル磁気ディスクの表面研
磨テープを提供すること。 【構成】 磁気ディスク１上にガイドロール３ａ，３ｂ
とバックアップロール４とによって一定方向へ走行する
研磨テープ２を有し、スリットエアノズル５によって研
磨粒子を吹き飛ばす磁気ディスク用表面研磨装置であっ
て、支持体と該支持体上に形成された研磨層とを有し、
該研磨層は研磨粒子と結合剤からなる磁気ディスク用表
面研磨装置に於て前記研磨層中に（Ｒ−０−）n−Ｔｉ
−（ＯＣＯ−Ｒ’）4-nを含有する磁気ディスク用表面
研磨テープ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はフレキシブル磁気ディス
ク、磁気テープ等の磁気記録媒体を製造する際に、該磁
気ディスク記録面の平滑化を目的とした表面研磨に用い
られる磁気ディスク用表面研磨テープに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、フレキシブル磁気ディスク、磁気
テープ等の磁気記録媒体は高密度化の要求が一段と高ま
り、このため超平滑媒体設計技術の開発が強く望まれて
いる。通常、非磁性支持体状に磁性粉と結合剤等からな
る磁気記録層を設けてなる磁気ディスクにおいては、そ
の表面性をより一層向上させるべく、磁気記録層を形成
した後に円周方向に表面研磨処理がなされる。このよう
な表面研磨処理を施すことによって、磁気ヘッドと磁気
ディスク間の記録再生スペーシング損失を大幅に減少さ
せることが出来、その結果として、電磁変換特性はもと
より、走行安定性のより優れた磁気ディスクが得られ
る。

【０００３】前記磁気ディスクの円周方向の表面研磨
は、長尺状の支持体の一方の面上に研磨性を有する微粒
子と結合剤からなる研磨層が設けられた研磨テープを用
いて行われるのが一般的である。このような研磨テープ
を使用して磁気ディスクの表面研磨処理を行う際には、
磁気ディスク表面研磨装置が用いられる。この装置にお
いて、前記研磨テープは弾性を有するバックアップロー
ルにより高速回転する磁気ディスク表面に押し当てら
れ、その結果として、磁性層表面に介在する微小突起が
取り除かれ表面研磨が達成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】一般に、研磨テープは
基板となる可とう性長尺原反に研磨層を塗布・乾燥した
後、所定の幅にスリットされ、さらに前記結合剤を熱に
より硬化させるために恒温層内で、いわゆるキュアリン
グ処理が施される。研磨テープは通常長尺ロール状形態
にて供給されるが、巻き締りにより、外周部分に比べて
内周部分に強い圧力が加わり、キュアリング処理を行う
ことによって、図５に示すように内周部分の表面粗さが
低下し、その結果として研磨能力が劣化する。このよう
な研磨テープを用いて、例えば、フレキシブル磁気ディ
スクの研磨を行った場合、図４に示すように研磨テープ
の使い始め部分（外周部分）に比べ、使い終わり部分
（内周部分）の研磨能力が低下し、一定の品質のフレキ
シブル磁気ディスクを連続して作成する場合、すなわち
所望の面粗さを一定に保つために研磨テープの使用箇所
に応じて研磨時間を調整してやる必要があった。さらに
は、フレキシブル磁気デイスクの表面研磨時において、
結合剤の研磨粒子に対する固着力が十分ではない場合に
は、研磨粒子の脱粒が生じ、スクラッチ発生を誘起した
り、また、研磨粒子のディスク表面への固着が生じ、品
質を著しく低下させることにつながり大きな問題となっ
ていた。

【０００５】本発明はかかる現状に鑑みてなされたもの
である。すなわち本発明の目的は、ロール状に巻き取ら
れた長尺の研磨テープの表面粗さをテープ長手方向に対
して一定化することと、該研磨テープを用いて研磨を行
った場合に研磨粒子の脱粒が生じることのないフレキシ
ブル磁気ディスクの表面研磨テープを提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、支持体
と該支持体上に形成された研磨層とを有し、該研磨層は
研磨粒子と結合剤から成る磁気ディスク用表面研磨テー
プにおいて、前記研磨層中に（Ｒ−Ｏ−）n−Ｔｉ−
（−ＯＣＯ−Ｒ’）4−nを含有することを特徴とする磁
気ディスク用表面研磨テープが得られる。

【０００７】

【作用】本発明において、研磨テープの表面硬度はチタ
ネート系カップリング剤が添加されたことによって、研
磨粒子と結合剤間の親和性が高められ両者の結合力が向
上するために大きくなる。そのため研磨テープと磁気デ
ィスクの接触研磨時の加圧下状態においても高い研磨能
力を保持することができる。また、カップリング剤添加
により研磨層の硬度が高くなるため、キュアリング処理
時に生じる巻き締りによる粗さ勾配を防止でき、その結
果、長さ方向に対して均一な研磨能力をもつ研磨テープ
を得ることができる。従って本発明による研磨テープを
用いて磁気ディスクの研磨を行うことにより、表面研磨
性の劣化がなく、且、図３に示すように所望研磨時間が
短縮できるようになり、生産効率が向上する。

【０００８】

【実施例】本発明において用いることのできる支持体と
しては、ポリエチレンテレフタレート，ポリアセテー
ト，ポリイミド等の長尺フィルムがあり、いずれを用い
てもよい。研磨粒子は、モース硬度６以上の微粉末であ
ればよく、溶融アルミナ，炭化珪素，酸化クロム，α−
酸化鉄，ダイヤモンド，酸化珪素，酸化チタン等があげ
られる。該微粉末の平均粒子径は０．０１〜１０μｍ，
好ましくは０．３〜３μｍの範囲内にあればよい。結合
剤としては、従来市販されている樹脂を使用することが
できる。例えば、本発明において用いることのできる結
合剤としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体，エポキシ樹脂，フェノキシ樹脂，塩化ビ
ニル−プロピオン酸ビニル共重合体，塩化ビニル−アク
リル酸エステル共重合体，塩化ビニル−酢酸ビニル−マ
イレン酸共重合体，ポリビニルブチラール樹脂，アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体，ポリウレタン樹脂等
をあげることが出来る。本発明において用いられるチタ
ネート系カップリング剤としては、構造式が（Ｒ−Ｏ）
n−Ｔｉ−（−ＯＣＯ−Ｒ’）4-nで示される化合物であ
れば良く、一例としては従来市販されているイソプロピ
ルトリイソステアロイルチタメート，イソプロピルトリ
ス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート，イソ
プロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタ
ネート，テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイ
ト）チタネート，イソプロピルジメタクリルイソステア
ロイルチタネート，テトライソプロピルビス（ジオクチ
ルホスファイト）チタネート等をあげることができ、該
カップリング剤の添加量は研磨粒子に対して０．１〜５
ｗｔ％の範囲内にあればよく、好ましくは１〜３ｗｔ％
の範囲内にあればよい。

【０００９】本発明による研磨テープを従来用いられて
いる研磨テープと比較するため、本発明を実施して得ら
れる試料と、従来による比較試料との間で性能比較試験
を行った。

【００１０】

【実施例１】 （塗料Ａ） 溶融アルミナ（平均粒径０．５μｍ） ・・・・・・・・・・８０重量部 ポリウレタン樹脂（Ｔｇ ２５℃） ・・・・・・・６重量部（固形分 ） エポキシ樹脂 ・・・・・・１４重量部（固形分 ） イソプロピルトリイソステアロイルチタネート・・・・・・２．０重量 部 メチルエチルケトン／トルエン ・・・・９０重量部／９０重量部 上記組成をボールミルにて５０時間混練後、イソシアネ
ート化合物（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）４重
量部（固形分）を加えて、さらに１時間混練し塗料Ａを
得た。これを厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタート
（ＰＥＴ）フィルム上に、乾燥後の研磨層の厚さが１５
μｍとなる様に塗布・乾燥させ、幅１インチにスリット
し、内径６”のコアに１００ｍ巻き取り、これを６５
℃，７２時間キュアリングして試料とした。

【００１１】

【比較例１】実施例１にて研磨層を形成する際、チタネ
ートカップリング剤以外は、実施例１と同様にして試料
を得た。 （塗料Ｂ） 溶融アルミナ（平均粒径１．０μｍ） ・・・・・・・・・・８０重量部 ポリウレタン樹脂（Ｔｇ ２５℃） ・・・・・・・６重量部（固形分 ） エポキシ樹脂 ・・・・・・１４重量部（固形分 ） メチルエチルケトン／トルエン ・・・・９０重量部／９０重量部 上記実施例および比較例にて得られた各試料を、図１に
示すように、ガイドロール３ａ，３ｂとバックアップロ
ール４に案内された矢印方向へ走行する研磨テープ２
は、磁気ディスクの研磨層を表面研磨処理する。すなわ
ち、図１に示す機構を有する磁気ディスク研磨装置に装
着し、表１の示す処理条件にて直径３．５”のフレキシ
ブル磁気ディスクの表面研磨処理を行った。

【００１２】

【表１】 各研磨テープを用いて磁気ディスクの表面性確保に必
要な表面粗さに到達する必要研磨時間を、各研磨テープ
の最外周部分付近から最内周部分付近までを５等分した
ときのテープ各位置について調査した。ここで表面粗さ
はグロスメータによる光沢度で評価した。本発明におけ
る実施例により得られた研磨テープでのフレキシブル磁
気ディスク表面研磨の結果を図２に、また、比較例によ
り得られた研磨テープでの結果を図４に示す。さらに実
施例及び比較例において得られた研磨テープを使用した
場合での研磨時間と磁気ディスク表面光沢度の関係を図
３に示す。各研磨テープを用いて得られた磁気ディス
ク、各サンプル各１００枚、合計２００枚を用いて、表
面研磨時における目視による磁気ディスクの表面観察を
行い、スクラッチ発生率を調査した。また、表２に示さ
れる条件でトラック品質検査を行った。

【００１３】

【表２】 スクラッチ発生率及びトラック品質検査結果を表３に示
す。

【００１４】

【表３】 すなわち、磁気ディスクの表面目視検査及びミッシ
ングエラーのトラック品質検査において、実施例は比較
例に比べて明かに研磨粒子の脱粒及び研磨によるスクラ
ッチが発生せず所望の表面粗さが得られる。

【００１５】

【発明の効果】以上に述べたように本発明による研磨テ
ープの製造方法を用いれば、長尺研磨テープの外周部分
から内周部分にわたって均一な粗さを有し、且、研磨粒
子の脱粒のない研磨テープが得られる。該研磨テープを
用いることにより、必要研磨時間が短時間で高品質の磁
気ディスクを生産することが可能となり、磁気ディスク
の生産効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例、及び比較例において磁気ディ
スク用表面研磨テープを評価するために用いた磁気ディ
スクの表面研磨装置を示す斜視図。

【図２】本発明における実施例による磁気ディスク用表
面研磨テープの部分における研磨能力の変化を示す図。

【図３】実施例と比較例における必要研磨時間とグロス
の変化を示す図。

【図４】本発明における比較例による磁気ディスク用研
磨テープの各部分における研磨能力の変化を示す図。

【図５】従来使用されてきた研磨テープの各部分の表面
粗さを示す図である。

【符号の説明】

１ 磁気ディスク ２ 研磨テープ ３ａ ガイドロール ３ｂ ガイドロール ４ バックアップロール ５ スリットエアノズル

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体と該支持体上に形成された研磨層
   とを有し、該研磨層は研磨粒子と結合剤から成る磁気デ
   ィスク用表面研磨テープにおいて、前記研磨層中に（Ｒ
   −Ｏ−）n−Ｔｉ−（−ＯＣＯ−Ｒ’）４−nを含有する
   ことを特徴とする磁気ディスク用表面研磨テープ。