JPH0531213B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0531213B2 JPH0531213B2 JP22474085A JP22474085A JPH0531213B2 JP H0531213 B2 JPH0531213 B2 JP H0531213B2 JP 22474085 A JP22474085 A JP 22474085A JP 22474085 A JP22474085 A JP 22474085A JP H0531213 B2 JPH0531213 B2 JP H0531213B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- magnetic field
- paint
- substrate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、基板表面に磁性塗料を塗布し、磁場
配向、硬化、塗膜加工を行う磁気デイスクの製造
方法に係り、特に高耐摺動性を必要とする磁気デ
イスクに好適な磁気デイスク製造方法に関するも
のである。
配向、硬化、塗膜加工を行う磁気デイスクの製造
方法に係り、特に高耐摺動性を必要とする磁気デ
イスクに好適な磁気デイスク製造方法に関するも
のである。
塗布形磁気デイスクにおいては、高密度記録を
実現させるため、磁気ヘツドと磁気デイスクとの
間の間隔（スペーシング）を低減することが必要
であり、そのため、表面の平滑化と同時に接触時
の耐摺動性が高いことが必要である。
実現させるため、磁気ヘツドと磁気デイスクとの
間の間隔（スペーシング）を低減することが必要
であり、そのため、表面の平滑化と同時に接触時
の耐摺動性が高いことが必要である。
このため、従来から磁場配向、硬化後の塗膜を
研削テープ等により加工を行つている（例えば特
開昭53−61309）。しかし、この磁場配向、加工時
の磁気デイスクの回転方向には特に注意が向けら
れておらず、耐摺動性が低い欠点があつた。
研削テープ等により加工を行つている（例えば特
開昭53−61309）。しかし、この磁場配向、加工時
の磁気デイスクの回転方向には特に注意が向けら
れておらず、耐摺動性が低い欠点があつた。
本発明の目的は上記した欠点を除き、耐摺動性
の高い磁気デイスクを製造する方法を提供するも
のである。
の高い磁気デイスクを製造する方法を提供するも
のである。
本発明は、塗膜加工時と磁場配向時の磁気デイ
スク回転方向に着目し、両者を同一回転方向とし
た時、耐摺動性の向上のため塗膜中に添加されて
いる高硬度微粒子の脱落が少なく、耐摺動性が高
いという発見に基づくものである。
スク回転方向に着目し、両者を同一回転方向とし
た時、耐摺動性の向上のため塗膜中に添加されて
いる高硬度微粒子の脱落が少なく、耐摺動性が高
いという発見に基づくものである。
以下本発明を実施例により説明する。
磁性粒子として針状γ−Fe2O3を用い、高硬度
微小粒子（フイラー）としてα−Al2O3単結晶を
用い、エポキシ樹脂、フエノール樹脂などを含む
熱硬化性樹脂中に分散させる。分散方法としては
たとえば特開昭55−25406あるいは特開昭56−
160871に開示されている方法が用いられる。この
様にして作成された塗料を基板の両面にスピンコ
ートする。ついで未硬化磁性塗膜を磁場中で回転
させ、磁場配向を行う。磁場配向方法としては特
公昭52−11210に開示されている方法を用いた。
この時の磁気デイスクと磁石との相対移動方向を
磁気デイスクが装置に組込まれた時の磁気ヘツド
との相対移動方向と同じとした。
微小粒子（フイラー）としてα−Al2O3単結晶を
用い、エポキシ樹脂、フエノール樹脂などを含む
熱硬化性樹脂中に分散させる。分散方法としては
たとえば特開昭55−25406あるいは特開昭56−
160871に開示されている方法が用いられる。この
様にして作成された塗料を基板の両面にスピンコ
ートする。ついで未硬化磁性塗膜を磁場中で回転
させ、磁場配向を行う。磁場配向方法としては特
公昭52−11210に開示されている方法を用いた。
この時の磁気デイスクと磁石との相対移動方向を
磁気デイスクが装置に組込まれた時の磁気ヘツド
との相対移動方向と同じとした。
この様に磁場配向を行つた塗膜を硬化炉中に入
れ220℃で４時間加熱硬化を行つた。加熱硬化を
行つた磁気デイスクの塗膜にアルミナ砥粒を含む
研削テープを背面から円筒ゴムローラにて押し付
け、加工液を流し、冷却しながら表面を研削加工
した。加工は両面同時に行つた。この時磁気デイ
スクを一定方向で回転させるが、この回転方向を
磁場配向時の磁気デイスクの回転方向と同一とす
る。
れ220℃で４時間加熱硬化を行つた。加熱硬化を
行つた磁気デイスクの塗膜にアルミナ砥粒を含む
研削テープを背面から円筒ゴムローラにて押し付
け、加工液を流し、冷却しながら表面を研削加工
した。加工は両面同時に行つた。この時磁気デイ
スクを一定方向で回転させるが、この回転方向を
磁場配向時の磁気デイスクの回転方向と同一とす
る。
この後磁気デイスク表面に付着した加工液およ
び研削屑を純水を流しながら布テープを押し付け
て磁気デイスクをテープ研削加工時と同一回転方
向に回転させ、除去する。そして、磁気デイスク
を高速回転させ水を振り切り乾燥させる。
び研削屑を純水を流しながら布テープを押し付け
て磁気デイスクをテープ研削加工時と同一回転方
向に回転させ、除去する。そして、磁気デイスク
を高速回転させ水を振り切り乾燥させる。
以上の様にして形成された磁気デイスクをパー
フルオロアルキルポリエーテル（PFPE）のフレ
オン溶液中に浸漬し引き上げることにより磁性膜
表面にPEPF潤滑膜を形成した。
フルオロアルキルポリエーテル（PFPE）のフレ
オン溶液中に浸漬し引き上げることにより磁性膜
表面にPEPF潤滑膜を形成した。
この様にして形成した磁気デイスクの耐摺動性
を測るため、曲率半径30mmの球面を持つアルミナ
摺動子を磁気デイスクを磁性膜の表面に荷重20ｇ
で押し付け、磁気デイスクを周速20ｍ／secにな
る様回転させ、アルミナ摺動子に加わる摩擦力が
急増するまでの磁気デイスクの総回転数Ｎを調べ
た。
を測るため、曲率半径30mmの球面を持つアルミナ
摺動子を磁気デイスクを磁性膜の表面に荷重20ｇ
で押し付け、磁気デイスクを周速20ｍ／secにな
る様回転させ、アルミナ摺動子に加わる摩擦力が
急増するまでの磁気デイスクの総回転数Ｎを調べ
た。
実施例の回転方向の場合（磁場配向と加工方向
同一）Ｎ＝３万回であつたが、全く同一製造方法
で硬化までした磁気デイスクで加工方向だけを磁
場配向と逆方向とした場合Ｎ＝２万回であり、本
発明の磁気デイスク製造方法により耐摺動性が向
上したことがわかる。
同一）Ｎ＝３万回であつたが、全く同一製造方法
で硬化までした磁気デイスクで加工方向だけを磁
場配向と逆方向とした場合Ｎ＝２万回であり、本
発明の磁気デイスク製造方法により耐摺動性が向
上したことがわかる。
この時の磁気デイスク面を走査電子顕微鏡
（SEM）で観察したところ、本発明の方法により
製造された磁気デイスクは表面のフイラー粒子密
度が高く、これが耐摺動性が向上した理由である
ことがわかつた。両者は硬化までは全く同一工程
でありこの違いはテープ研削加工時のフイラーの
脱落が本発明の方法では少ないことが原因であ
る。
（SEM）で観察したところ、本発明の方法により
製造された磁気デイスクは表面のフイラー粒子密
度が高く、これが耐摺動性が向上した理由である
ことがわかつた。両者は硬化までは全く同一工程
でありこの違いはテープ研削加工時のフイラーの
脱落が本発明の方法では少ないことが原因であ
る。
以上、要するに本発明によれば、塗膜加工時の
フイラーの脱落を減少させることができ、 磁気デイスクの耐摺動性を約1.5倍に向上させ
ることができる。
フイラーの脱落を減少させることができ、 磁気デイスクの耐摺動性を約1.5倍に向上させ
ることができる。
Claims (1)
- １ 磁性粒子と高硬度微粒子とを熱硬化性樹脂中
に分散させた磁性塗料を基板上に塗布する工程
と、上記塗布済基板を磁場中で回転させ、塗料中
の磁性粒子を希望の方向に向ける磁場配向工程
と、上記磁場配向された基板上の磁性塗料を硬化
させる工程と、上記硬化後の磁性塗膜表面を基板
を回転させて平滑化する塗膜加工工程とを持つ磁
気デイスク製造方法において、上記磁場配向時の
デイスク回転方向と、上記塗膜加工時のデイスク
回転方向を同一方向としたことを特徴とする磁気
デイスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22474085A JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22474085A JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286546A JPS6286546A (ja) | 1987-04-21 |
| JPH0531213B2 true JPH0531213B2 (ja) | 1993-05-12 |
Family
ID=16818495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22474085A Granted JPS6286546A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | 磁気デイスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286546A (ja) |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP22474085A patent/JPS6286546A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6286546A (ja) | 1987-04-21 |
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