JPH04340466A - 反射率プラトーを有するテトラゾリウム塩指示薬を用いる分析方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、還元物質、特にニコチ
ンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）の測定に
有用な色原性テトラゾリウム塩指示薬化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】テトラゾリウム塩は、還元物質に反応す
る色原指示試薬として十分公知である。還元に際して、
テトラゾリウム塩はホルマザン染料生成物に変換される
。これらの指示試薬は、種々の広範な分野、特に細胞染
色並びに体液中の分析対象物、たとえば尿、乳汁、血清
、及び血漿の測定にとりわけ適用されてきた医学的診断
の分野における使用が知られている。一般に、体液分析
対象物の測定は、試験される試料中に存在する分析対象
物の量の関数としてＮＡＤＨが形成される、ＮＡＤ−依
存性酵素反応を包含する。その場合、生成したＮＡＤＨ
の量は、適切なテトラゾリウム塩指示試薬をそのホルマ
ザン染料生成物に還元的に変換することによって、測定
し得る。

【０００３】医学診断試験の分野では、テトラゾリウム
塩指示試薬は、種々の異なる種類の製品に有用である。 その中で特定されるものは試薬ストリップである。この
製品は、特定の分析対象物、例えばグルコース又はコレ
ステロールに反応する化学試薬を含浸され、又は別の方
法で混和された紙又はその他の多孔質担体を包含する固
体状態用具である。混和された試薬系は、マトリックス
に塗布される試料中の分析対象物の量の関数として発色
又は変色する色原性指示薬を含有する。その結果生じる
測色反応は肉眼で観察され、定性的又は半定量的に読み
取られる。定量的結果は、適切な計器（反射率メーター
）を用いて、一つ又はそれ以上の特定の波長で、マトリ
ックス表面の反射率を読み取ることにより観察できる。

【０００４】試験試料中に存在し得る主な妨害物質の吸
光度より長い波長で強力な吸光度を有するテトラゾリウ
ム指示試薬を開発する必要性が認識されている。たとえ
ば、ヘモグロビンの色による妨害は、試料が全血である
場合に特に問題である。約６４０ｎｍを超える有意の吸
収を示す指示試薬が、ヘモグロビン妨害を実質的に克服
するために必要である。一般に用いられるテトラゾリウ
ム塩指示試薬は、塩化２−（４−ヨードフェニル）−３
−（４−ニトロフェニル）−５−フェニルテトラゾリウ
ム（ＩＮＴ）、塩化３−（４，５−ジメチルチアゾール
−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウム（Ｍ
ＴＴ）、及び塩化２，２’，５，５’−テトラフェニル
−３，３’−（３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジフ
ェニレン）ジテトラゾリウム（ＮＢＴ）である。これら
の化合物は、４６５〜６０５ｎｍの範囲で最大吸収（Ｕ
Ｖｍａｘ）を示す。

【０００５】慣用的に用いられる従来技術のテトラゾリ
ウム塩指示試薬の別の欠点は、それらの測色反応を測定
するために用いられる計測の進展に関する。より小型で
、安価な反射率メーターの開発は、急速に進歩しつつあ
る。このような計量器のより高価な構成分の一つは、光
源、入射光又は反射光の波長を選択又は限定するための
フィルター又はその他の分光要素、及びセンサーから成
る光学系である。光学系要素の機能を削除するか、又は
組み合わせるか、あるいはより安価な要素、たとえば照
明光源にＬＥＤを用いることによって、原価の顕著な節
減を実現することができる。しかしながら、市販のＬＥ
Ｄは、製造のばらつき及び温度依存性により、有意に変
化し得る中心波長を有する光を発する。慣用的に用いら
れるテトラゾリウム塩指示試薬ＩＮＴ、ＭＴＴ、及びＮ
ＢＴは、それらのＵＶｍａｘを超える領域で強く傾斜す
る反射スペクトルを有する。したがって、ＬＥＤの製造
のばらつきを修正するために各計器を個々に検量しなけ
れば、そして温度によるばらつきを修正するためにテス
トランを行わねば、検定結果に大きな誤差が生じ得る。

【０００６】以下は、測色分析における種々のテトラゾ
リウム塩の使用に関して教示している従来の技術の代表
的なものである。Ｔａｎａｋａらの特開昭６１−８４号
（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０４：２０３４６９ｙ）は、
ニッケル（ＩＩ）の存在下における２−（２−ベンゾチ
アゾリル）−３−（カルボキシフェニル）−５−フェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムハロゲン化物の還元によって
得られるホルマザンキレートを用いるグルコースの検出
を記載している。Ｌｉｍｂａｃｈらの西独特許第３，２
４７，８９４号（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔ．１０１：１２５
９２９ｖは、グルコース検定におけるＩＮＴの使用に関
する。Ｒｉｔｔｅｒｓｄｏｒｆらの西独特許第２，１４
７，４６６号は、還元物質、たとえば還元糖、アスコル
ビン酸、及びケトステロイドの測定における７種の２−
（２−ベンゾチアゾリル）−３−フェニル−５−（４−
［トリメチルアンモニオ］フェニル）テトラゾリウム塩
の使用を記載している。

【０００７】文献で公知の種々の２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩及び／又はそれらの対応するホルマザンの代
表的なものを以下に示す。Ｓｅｒｅｂｒｙａｋｏｖａら
，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．
１０：１４０３−１４０５（１９７０）は、ベンゾチア
ゾリル−３−フェニル−（メチル）−５−ｐ−ニトロ（
ジメチルアミノ）フェニルホルマザンの合成及び染色特
性を記載している。著者らは、Ｎ−５フェニルのパラ位
置の電子求引性のニトロ基及びＮ−１位置のベンゾチア
ゾリル基がともに深色移動を示すと記載している。 Ｂｅｄｎｙａｇｉｎａ　　ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏ
ｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．２：３４２−３４５（１９
６７）は、１−ベンゾチアゾリル−、及び１−ベンズオ
キサゾリル−３−メチル（又はフェニル）−５−アリー
ルホルマザンの合成を記載している。色の深さと複素環
の塩基度との関係も考察されている。Ｇｕｌｅｍｅｎａ
ら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ
．６：７７４−７７７（１９７４）は、ベンゾチアゾリ
ルホルマザンの構造及び特性に及ぼすｏ−ニトロ基の効
果を記載している。イオン化定数ならびにＩＲ及びＵＶ
スペクトルが測定され、構造と関連づけられた。Ｌｉｐ
ｕｎｏｖａら，Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓ
ｏｅｄｉｎ．４：４９３−４９９（１９７４）は、３−
（メチル，イソプロピル，フェニル）−１−ベンゾチア
ゾリル−５−ニトロフェニルホルマザンの調製及びそれ
らのスペクトル特性を記載している。Ｇｌｕｅｍｉｎａ
ら，Ｚｈ．Ｐｒｉｋｌ．Ｓｐｅｋｔｒｏｓｋ．２２（５
）：９４１−９４３（１９７５）は、１−ベンゾチアゾ
リル−、１−チアゾリル−、及び１−（５−ブロモチア
ゾリル）−３−メチル−５−（ｐ−ニトロフェニル）ホ
ルマザンに関する、溶剤及び温度変化の条件による正及
び負の両方のＵＶ熱変色性の観察を記載している。Ｐｏ
ｎｙａｅｖら，Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ．５５（
１１）：２６１５−２６１７（１９８５）は、光誘導形
態の１−ベンゾチアゾリル−３−メチル−５−フェニル
ホルマザン類似化合物の相互転換の動力学的研究を記載
している。これらの形態はトリフェニルホルマザンより
濃い色になることが示された。Ｌｉｐｕｎｏｖａら，Ｋ
ｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉｎ．（１
９７１）８３１−８３５は、Ｎ−１−ベンゾチアゾリル
ホルマザンの可視スペクトルに及ぼすＮ−５−ナフチル
又はｏ−トリル基の深色効果を比較している。Ｊｏｈｎ
ｅら，Ｐｈａｒｍａｚｉｅ　　３４：７９０−７９４（
１９７９）は、化合物１−（４−メチル−５−カルボエ
トキシチアゾール−２−イル−３−（３−ピリジル）−
５−（２−カルボキシフェニル）ホルマザン及び１−（
４−メチル−５−カルボエトキシチアゾール−２−イル
−３−（２−ピリジル）−５−（２−カルボキシフェニ
ル）ホルマザン、ならびにある種の２−（４，５−ジフ
ェニルチアゾール−２−イル）テトラゾリウム塩を記載
している。

【０００８】種々の２−ベンゾチアゾリルテトラゾリウ
ム塩及び関連化合物は、米国特許第３，６５５，３８２
号及び第４，２２１，８６４号の記載内容に代表される
ような、写真の分野にも用いられている。

【０００９】

【本発明の要約】以下のＡ式の２−チアゾリルテトラゾ
リウム塩は、約６００ｎｍを超える、好ましくは約６５
０ｎｍを超える広範なプラトーを示す反射スペクトルを
特徴とすることが見出された。このような反射率プラト
ーにより、試験試料を（ａ）分析対象物と反応して還元
物質、たとえばＮＡＤＨを生成する試薬、及び（ｂ）上
記還元物質により還元されて色原性染料物質を生成する
指示試薬化合物を含有する試験組成物と混和した固体担
体マトリックスを包含する試験具と接触させ、そして光
源で担体マトリックスを照射し、検出器構成分で反射光
を測定することにより、担体マトリックスの反射率を検
知することによって、色原性染料物質を測定する分析的
検定の精度が改良される。本化合物の反射率プラトー特
性は、ＬＥＤ光源を用いる場合、検出器要素に達する光
が狭い波長のバンドから成り、その中心波長が約±５ｎ
ｍを上回る変動に感受性である状況でに特に重要である
。

【００１０】本発明のチアゾリルテトラゾリウム塩は、
式Ａを有する。

【００１１】

【化９】

【００１２】式Ａにおいて、Ｒ３　はアリール又はスチ
リルであり、Ｒ４　はアリールであり、Ｘは好適な対陰
イオンである。

【００１３】Ｒ１　及びＲ２　置換基に関して、便宜上
、本化合物は４つの主要群に分類される： １群化合物　　−　　Ｒ１　及びＲ２　が一緒になって
、非置換ベンゾ環を形成する非置換ベンゾチアゾリル、
２群化合物　　−　　Ｒ１及びＲ２　が一緒になって、
以下に記載されるように置換されるベンゾ環を形成する
置換ベンゾチアゾリル、３群化合物　　−　　（ｉ）Ｒ
１はカルボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリール
オキシ、カルバモイル、又はシアノであり、Ｒ２　はア
ルキル又はクロロであるか、あるいは （ｉｉ）Ｒ１　はアルキル又はアリールであり、Ｒ２　
はカルボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオ
キシ、又はシアノであるか、あるいは （ｉｉｉ）Ｒ１　はフルオロ置換基が式中のチアゾリル
残基に隣接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキ
ルであり、Ｒ２　はクロロである、特定のアルキル置換
チアゾリル、ならびに４群化合物　　−　　Ｒ１　又は
Ｒ２　の一方又は両方が置換又は非置換フェニルであり
、一方のみが置換又は非置換フェニルである場合は他方
は水素又はアルキルであるモノ−及びジフェニル置換チ
アゾリル。

【００１４】

【好ましい態様の説明】以下の定義が対象の開示に適用
される： ”Ｃ１−４　”　　−　　残基を、たとえば炭素原子を
含めた適切な１〜４個の原子を含有する形態に限定する
ために用いられる。たとえばＣ１−４アルキル。 ”アルキル”　　−　　一般式Ｃｎ　Ｈ２ｎ＋１の直鎖
及び分枝鎖炭化水素残基、好ましくは”低級アルキル”
、たとえばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、及びｔｅｒｔ−ブチルの
Ｃ１−４　アルキル、ならびに高級アルキル、たとえば
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等。 ”アルコキシ”　　−　　残基−ＯＲ（式中、Ｒはアル
キルである）。 ”アルキルアミド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ
’（式中、Ｒ及びＲ’は、同一であっても異なってもよ
く、アルキルである）。 ”アルキルチオ”　　−　　残基−ＳＲ（式中、Ｒはア
ルキルである）。 ”アミド”　　−　　残基−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｈ。 ”アミノ”　　−　　残基−ＮＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ
’は同一であっても異なってもよく、水素又はアルキル
である）。 ”アリール”　　−　　芳香族炭素環式又は複素環式環
又は環系からこのような環又は環系に結合する水素原子
を除去することにより誘導される有機残基、たとえばフ
ェニル、ナフチル、ピリジル、オキサゾリル、キノリル
、チアゾリル、チエニル、及びフラニル。 ”アリールアミド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｒ
’（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく
、アリールである）。 ”アリールオキシ”　　−　　残基−ＯＲ（式中、Ｒは
アリールである）。 ”アリールチオ”　　−　　残基−ＳＲ（式中、Ｒはア
リールである）。 ”カルボアルコキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（式中、
Ｒはアルキルである）。 ”カルバボアリールオキシ”−残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（
式中、Ｒはアリールである）。 ”カルバモイル”　　−　　残基−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲＲ’
（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、
水素又はアルキルである）。 ”カルボキシル”　　−　　残基−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ。 ”ハロ”　　−　　フルオロ、クロロ、及びブロモ。 ”イミダゾ”　　−　　二価残基−Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ−。 ”メチレンジオキシ”　　−　　式−Ｏ−ＣＨ２　−Ｏ
−の二価残基。 ”フェニルアゾ”　　−　　残基−Ｎ＝Ｎ−フェニル。 ”スチリル”　　−　　残基−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ（式中、
Ｒはアリールである）。 ”スルホ”　　−　　残基−ＳＯ３　。 ”スルファミド”　　−　　残基−ＮＲＳＯ２　Ｒ’（
式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、ア
ルキル、アリール、又は水素である）。 ”スルファモイル”　　−　　残基−ＳＯ２　ＮＲＲ’
（式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、
アルキル、アリール、又は水素である）。 ”トリアルキルアンモニオ”　　−　　残基−ＮＲ３＋
（式中、Ｒはアルキルである）。 ”ウレイド”　　−　　残基−ＮＲＣ（＝Ｏ）ＮＲ’（
式中、Ｒ及びＲ’は同一であっても異なってもよく、ア
ルキル、アリール、又は水素である）。

【００１５】特に別記しない限り、置換されることもあ
る残基、例えばアルキル、アリール、フェニルアゾ、及
びスチリルの場合における上記の用語の使用は、このよ
うな残基の合理的に置換された形態、ならびにそれらの
非置換形態を包含するように意図されると理解されるべ
きである。本発明の有用な化合物を生成する合理的な置
換は、当業者には明らかであって、いくつか名前を挙げ
ると、アルコキシ、アミノ、アルキルチオ、カルボアル
コキシ、カルボキシ、ヒドロキシ、スルホ、及びスルフ
ァモイルといった置換基を含むが、これらに限定される
ものではない。

【００１６】プラトー化合物 限定された反射率プラトー特性を有する２−チアゾリル
テトラゾリウム塩は、文献で公知の化合物と新規の化合
物とを包含する。このような化合物は、本発明の方法に
おいて使用が見出されるであろう。概して、このような
化合物は、４主要群に関して上記のようなＲ１　及びＲ
２　置換基を有するＡ式を有する。２群（置換ベンゾチ
アゾリル）化合物に関しては、Ｒ１及びＲ２　が一緒に
なってベンゾ環を形成して式Ａ１：

【００１７】

【化１０】

【００１８】（式中、（ｉ）Ｒ５　及びＲ６　、又はＲ
６　及びＲ７　、又はＲ７　及びＲ８　は一緒になって
、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、ア
ルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリー
ルチオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シ
アノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、
スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイ
ドで置換されることもあるベンゾ又はシクロヘキシル環
を形成し、そしてその他は、同一であっても異なっても
よく、水素、アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、
アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチ
オ、アリールチオ、アミノ、カルバモイル、カルボアル
コキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホ
ンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、
又はウレイドである、あるいは（ｉｉ）Ｒ５　、Ｒ６　
、Ｒ７　及びＲ８のうちの一つ又はそれ以上がアルコキ
シ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミ
ド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、ア
ミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ
、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファモ
イル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであり、
その他が、もしあれば、水素である）のベンゾチアゾリ
ル残基を生じるのが好ましい。

【００１９】４群（フェニル置換チアゾリル）化合物に
関しては、Ｒ１及びＲ２　の一方又は両方が非置換フェ
ニルであるか、又は独立してアルコキシ、アリールオキ
シ（好ましくはフェノキシ）、アルキル、アミド、アル
キルアミド、アリールアミド（好ましくはフェニルアミ
ド）、アルキルチオ、アリールチオ（好ましくはベンズ
チオ）、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カ
ルボアリールオキシ（好ましくはカルボフェノキシ）、
カルボキシ、シアノ、ハロ、ニトロ、スルホ、スルホン
アミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又
はウレイドで置換されるフェニルであり、１個のみが置
換又は非置換フェニルである場合は、その他は水素、ア
ルキル、又はクロロであるのが好ましい。

【００２０】１ないし４群の各々に関しては、Ｒ３　及
びＲ４　は広範に変化し得る。本質的に、Ｒ３　がアリ
ール基又はスチリル基でありＲ４　がアリール基である
式Ａの任意のテトラゾリウム塩は、本発明の所望の反射
率プラトー特性を有する。しかしながら、Ｒ３　及びＲ
４　位置での特定のアリール残基の選択は、ホルマザン
の強度（吸光係数）、ならびにプラトーの位置（深色性
）及び扁平度に影響を及ぼす。

【００２１】好ましいＲ３　及びＲ４　残基合成及びホ
ルマザンの反射スペクトル特性の見地から、本明細書に
記載のような１ないし４群の各々に関しては、Ｒ３　は
好ましくは、以下の： （ａ１　）式Ｂ：

【００２２】

【化１１】

【００２３】（式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−
であり、 （ｉ）Ｙ１　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル
、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキル
チオ、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、Ｙ２　は
アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アル
キルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリール
チオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カル
ボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スル
ホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ
、又はウレイドであり、Ｙ３　はアルコキシ、アリール
オキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリール
アミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、
カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルボキシ
ル、シアノ、ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スル
ホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルア
ンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ４　はアルコキシ、
ハロ、又は水素であるか、あるいは （ｉｉ）Ｙ２　及びＹ３　が一緒になってメチレンジオ
キシ又はイミダゾを形成し、Ｙ１　及びＹ４　が水素で
ある）の残基、 （ｂ１　）２−、３−、又は４−ピリジル、（ｃ１　）
２−又は３−チエニル、及び（ｄ１　）２−又は３−フ
ラニルから選択され、そしてＲ４　が好ましくは以下の
： （ａ２　）式Ｃ：

【００２４】

【化１２】

【００２５】（式中、Ｙ５　はアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
ミド、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニト
ロ、又はウレイドであり、Ｙ６　はアルコキシ、アリー
ルオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリー
ルアミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル
、カルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水
素、ニトロ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル
、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ７
　はアルコキシ、アリールオキシ、アミド、アルキルア
ミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキシル、シア
ノ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スル
ホ、スルホンアミド、スルファモイル、又はウレイドで
あり、Ｙ８　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル
、ハロ、水素又はニトロである）の残基、（ｂ２　）式
Ｄ：

【００２６】

【化１３】

【００２７】（式中、Ｙ９　はアルコキシ、アリールオ
キシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールア
ミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カ
ルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、
ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホンアミド、スル
ファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドで
ある）の残基、（ｃ２　）２−、４−、６−、又は８−
キノリル、あるいは２−メチルキノリル、及び（ｄ２　
）アントラニルから選択される。

【００２８】最も好ましいＲ３　及びＲ４　残基優れた
反射率プラトーを有するものである１ないし４群の最も
好ましい化合物は、Ｒ３　が以下の：（ａ１　）式Ｅ：

【００２９】

【化１４】

【００３０】（式中、（ｉ）Ｙ２　、Ｙ３　及びＹ４　
は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、 （ｉｉ）Ｙ４　が水素であり、Ｙ２　及びＹ３　がいず
れもＣ１−４　アルコキシであるか、又は一緒になって
メチレンジオキシを形成し、あるいは （ｉｉｉ）Ｙ２　及びＹ４　がいずれも水素であり、Ｙ
３　がＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキル、Ｃ
１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキルチオ、カ
ルバモイル、カルボ（Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボ
キシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、トリ（Ｃ１−４
　）アルキルアンモニオ、又はウレイドである）の残基
、及び（ｂ１　）２−又は３−チエニルから選択される
ものである。

【００３１】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ３　が以下の： ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
シフェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−
メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、４−メ
チルチオフェニル、４−フェニル、４−ハロフェニル、
４−シアノフェニル、４−ニトロフェニル、２−チエニ
ル、及び３−チエニルから選択されるのが更に好ましい
。

【００３２】最も好ましいＲ４　残基は、：（ａ２　）
上記の式Ｃ （式中、（ｉ）Ｙ５　は水素であり、Ｙ６　、Ｙ７　、
及びＹ８　は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、（ｉｉ
）Ｙ５　及びＹ８　はともに水素であり、Ｙ６　及びＹ
７　はともにＣ１−４　アルコキシであるか又は一緒に
なってメチレンジオキシを形成し、（ｉｉｉ）Ｙ５　、
Ｙ６　及びＹ８　は各々水素であり、Ｙ７　はＣ１−４
　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　
アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（
Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、ヒド
ロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホンア
ミド、スルファモイル、又はウレイドであり、（ｉｖ）
Ｙ５　はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ６　及びＹ
８　はいずれも水素であり、Ｙ７　はＣ１−４　アルコ
キシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキル
チオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（Ｃ１−４
　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ニトロ
、フェニルアゾ、又はウレイドであり、（ｖ）Ｙ５　及
びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、あるいは（ｖ
ｉ）Ｙ５　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、
Ｙ７　はＣ１−４　アルキルアミド又はベンズアミドで
ある）の残基、及び （ｂ２　）上記の式Ｄ （式中、Ｙ９　はＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　ア
ルキル、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキ
ルチオ、ベンズアミド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、
スルホ、スルホンアミド、又はウレイドである）の残基
、及び（ｃ２　）８−キノリルである。

【００３３】製造された化合物の特性及び合成に基づけ
ば、Ｒ４　が以下の：３，４，５−トリメトキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、２，４−ジメトキシ
フェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−メ
トキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、４−メチ
ルチオフェニル、４−カルボキシフェニル、４−ニトロ
フェニル、２−メトキシフェニル、２−メトキシ−４−
カルボキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、２
，５−ジメトキシフェニル−４−ベンズアミドフェニル
、１−ナフチル、４−ニトロ−１−ナフチル、４−メト
キシ−１−ナフチル、８−キノリル、２−メチル−４−
カルボキシフェニル、４−カルボメトキシフェニル、４
−シアノフェニル、及び４−シアノ−１−ナフチルから
選択されるのが更に好ましい。

【００３４】新規のテトラゾリウム塩本発明はさらに、
以下の１ないし４群内の新規のテトラゾリウム塩を提供
する： １群 式Ｆ：

【００３５】

【化１５】

【００３６】（式中、Ｒ３　及びＲ４　は、上記のよう
なそれらの好ましい残基から選択される）の化合物。 ２群 式Ｇ：

【００３７】

【化１６】

【００３８】（式中、 （１）Ｒ６　、Ｒ７　、及びＲ８　はすべて水素であり
、Ｒ５　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、カ
ルバモイル、カルボアルコキシ、又はカルボキシである
か、あるいは （２）Ｒ５　、Ｒ６　、及びＲ８　はすべて水素であり
、Ｒ７　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、ア
ミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ
、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シ
アノ、ハロ、ヒドロキシ、スルホ、スルホンアミド、ス
ルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイド
であるか、あるいは （３）Ｒ５　は水素であり、Ｒ６　、Ｒ７　及びＲ８　
は独立してアルコキシ、アリールオキシ、又はアルキル
であるか、あるいは （４）Ｒ６　及びＲ８　はいずれも水素であり、Ｒ５　
はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、カルバモイ
ル、カルボアルコキシ、又はカルボキシであり、Ｒ７は
アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アル
キルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリール
チオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ
、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファモ
イル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドであるか
、あるいは （５）Ｒ５　及びＲ６　は一緒になってベンゾ環を形成
し、Ｒ７　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、
アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチ
オ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、
カルボキシ、シアノ、ハロ、水素、又はウレイドであり
、Ｒ８　は水素であるか、あるいは （６）Ｒ７　及びＲ８　は一緒になってベンゾ環を形成
し、Ｒ５　及びＲ６　はいずれも水素であるか、あるい
は（７）Ｒ６　及びＲ７　は一緒になってシクロヘキシ
ル環を形成し、Ｒ５　はアルキル、アルコキシ、ハロ、
又は水素であり、Ｒ８　は水素であって、そしてＲ３　
及びＲ４　が上記のようなそれらの好ましい残基から選
択される化合物。

【００３９】最も好ましい化合物は、（ｉ）Ｒ５　、Ｒ
６　、Ｒ７　、及びＲ８　のすべてが水素である、（ｉ
ｉ）Ｒ５　、Ｒ６　、及びＲ８　は水素であり、Ｒ７　
はＣ１−４　アルコキシ（特に好ましい）、Ｃ１−４　
アルキル、カルボキシ、又はハロである、あるいは（ｉ
ｉｉ）Ｒ５　及びＲ６　は一緒になってベンゾ環を形成
し、Ｒ７は水素又はＣ１−４　アルコキシであり、Ｒ８
　は水素である化合物である。

【００４０】３群 上記の式Ａ（式中、（ａ）Ｒ１　はカルボ（Ｃ１−４　
）アルコキシであり、Ｒ２　はＣ１−４　アルキル又は
クロロであるか、あるいは（ｂ）Ｒ１　はＣ１−４　ア
ルキル又はフェニルであり、Ｒ２　はカルボ（Ｃ１−４
　）アルコキシであるか、あるいは（ｃ）Ｒ１　はジ−
又はトリ−フルオロメチルであり、Ｒ２　はクロロであ
って、Ｒ３　及びＲ４　は上記のようなそれらの好まし
い残基から選択される）の化合物。 最も好ましいのは、Ｒ１　がジ−又はトリフルオロメチ
ルであり、Ｒ２がクロロである化合物である。

【００４１】４群 上記の式Ａ（式中、 （ｉ）Ｒ１　及びＲ２　の両方が非置換フェニルである
か、又はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミ
ド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、
アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カル
ボアリールオキシ、カルボキシ、シアノ、ハロ、トリア
ルキルアンモニオ、及びウレイドでパラ置換されるフェ
ニルであるか、あるいは （ｉｉ）Ｒ１　及びＲ２　の一方が非置換フェニルであ
るか、あるいはアルコキシ又はアリールオキシでパラ置
換されるフェニルであり、他方は水素である）の化合物
。

【００４２】この群の最も好ましい化合物は、Ｒ１　及
びＲ２　の両方が非置換フェニルであるか、一方が非置
換フェニルであり、他方がＣ１−４　アルコキシでパラ
置換されるフェニルであるか、あるいはＲ１　が非置換
フェニル、又はＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アル
キル、又はハロでパラ置換されるフェニルであり、Ｒ２
　が水素であるものである。

【００４３】好ましい新規の２−チアゾリルテトラゾリ
ウム塩指示試薬のさらなる記述は、本明細書とともに同
一日付けで提出された、それぞれ２−ベンゾチアゾリル
テトラゾリウム塩指示試薬、置換２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩指示試薬、及びフェニル置換２−チアゾリル
テトラゾリウム塩指示試薬という表題の、そして審理予
定番号ＭＳ−１６３４、ＭＳ−１６３５、及びＭＳ−１
６３６により確認される共通に譲渡された米国特許出願
に見出される。

【００４４】対陰イオン 対陰イオンの選択は、主として特定のテトラゾリウム塩
の安定性及び溶解性の考察に基づく。概して、塩化物、
臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、フルオロホウ酸塩、過塩素
酸塩、及び硫酸塩などの無機陰イオン；ならびに酢酸塩
、シュウ酸塩、酒石酸塩、及びアリールスルホン酸塩（
ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩）な
どの有機陰イオンのような対陰イオンから選択される。

【００４５】合成方法 テトラゾリウム塩は、文献で十分公知の方法によって合
成される（Ｈｏｏｐｅｒ，Ｗ．Ｄ．，Ｒｅｖ．Ｐｕｒｅ
　　ａｎｄ　　Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，１９６９，１９
，２２１；Ｐｕｔｔｅｒ，Ｒ．，ｉｎ　　Ｍｅｔｈｏｄ
ｅｎ　　ｄｅｒ　　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅ
ｍｉｅ，Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ−Ｍｕｌｌｅｒ　　編
，Ｔｈｉｅｍｅ　　Ｖｅｒｌａｇ：Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ
，１９６５，Ｂｄ．１０／３，ｐ．６３３；Ｎｉｎｅｈ
ａｍ，Ａ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９５５，ｐｐ．
３５５−４８３）。一般に、本発明のテトラゾリウム塩
は、まず２−ヒドラジノチアゾールをアルデヒドと反応
させ、次にその結果生じたヒドラゾンをジアゾ化アニリ
ンで処理して合成する。その結果生じたホルマザンを、
次に十分公知の方法によって酸化して、テトラゾリウム
塩にする。その結果として、合成は３つの主な出発原料
、すなわちアルデヒド、アニリン、及び２−ヒドラジノ
チアゾールを包含する。

【００４６】

【化１７】

【００４７】２−ヒドラジノチアゾールの合成本発明の
１群化合物は、非置換２−ヒドラジノベンゾチアゾール
（Ｒ１及びＲ２　は一緒になって非置換ベンゾ環を形成
する）から合成する。

【００４８】２群化合物のための置換２−ヒドラジノベ
ンゾチアゾールは、まずチオシアン酸塩で１−ハロ−２
−ニトロアレン（１）を置換してニトロチオシアン酸塩
（２）を生成することによって該ハロゲン化物から合成
する。次にこれをスズのような還元剤で還元して、その
結果生じたアミノチオシアン酸塩（３）を環化して、２
−アミノベンゾチアゾール（４）にする。

【００４９】

【化１８】

【００５０】アミンをチオシアノゲンで処理することに
よっても、同じアミノチオシアン酸塩（３）を合成し得
る（Ｍｅｔｚｇｅｒ，Ｊ．Ｖ．，　　Ｃｏｍｐｒｅｈｅ
ｎｓｉｖｅ　　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　　Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ，Ａ．Ｒ．Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ，Ｃ．Ｗ．Ｒ
ｅｅｓ　　編；Ｐｅｒａｇａｍｏｎ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒ
ｋ，１９８４；Ｖｏｌ．６，Ｐａｒｔ　　４ｂ，ｐ．３
２４）。

【００５１】

【化１９】

【００５２】次に、１４０℃でエチレングリコール中で
ヒドラジンを２−アミノベンゾチアゾール（４）と反応
させて、２−ヒドラジノベンゾチアゾール（５）を合成
する（Ｌｉｕ，Ｋ−Ｃ．，Ｓｈｉｈ，Ｂ−Ｊ．，Ａｒｃ
ｈ．Ｐｈａｒｍ．，１９８５，１８，２８３）。

【００５３】

【化２０】

【００５４】２−アミノベンゾチアゾール（４）のその
他の合成方法は、芳香族アミン（６）を無機酸及びチオ
シアン酸塩と反応させてチオウレア（８）を生成する（
Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．ＩＶ，１８
０）か、又は芳香族アミンをＮ−ベンゾイルチオシアン
酸塩と反応させてＮ−ベンゾイルチオウレア（７）を形
成し、次いでベンゾイル基を加水分解してチオウレアを
生成する（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．
ＩＩＩ，６３５）。これらの文献には、チオウレアのそ
の他の合成方法も見出される。次に、これらのチオウレ
アを臭素のような試薬で酸化して、２−アミノベンゾチ
アゾールを生成する（Ｂｈａｒｇａｖｅ，Ｐ．Ｎ．Ｂａ
ｌｉｇａ　　Ｂ．Ｔ．，Ｊ．Ｉｎｄ．Ｃｈｅｍ．，１９
５８，５，８０７）。

【００５５】

【化２１】

【００５６】本発明の種々の種類の３群化合物に必要な
２−ヒドラジノベンゾチアゾリルは、以下のようにして
合成する。

【００５７】既知の２−クロロ−４−メチルチアゾール
（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９１９，ｐｐ．１０７１−
１０９０）を１００℃で塩素化すると、主として２，５
−ジクロロ−４−ジクロロメチルチアゾール（１４）が
生じ、１６０℃では２，５−ジクロロ−４−トリクロロ
メチルチアゾール（９）が生じる。

【００５８】４−カルボアルコキシ−５−クロロチアゾ
ールは、４−トリクロロメチル−２，５−ジクロロチア
ゾール（９）を加水分解してカルボン酸（１０）とする
ことにより合成する（欧州特許公告第３４８，７３５号
）。塩化チオニルのような試薬で処理すると、酸塩化物
を生じ、それはアルコール又はアミンと反応して、４−
カルボアルコキシ（１１）又はＮ−アルキルカルバモイ
ル（１２）チアゾールを生じる。４−カルバモイル−２
，５−ジクロロチアゾールの脱水は、文献で十分公知の
方法により達成されて、４−シアノ−２，５−ジクロロ
チアゾール（１３）を生じる（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．Ａｄｖ
ａｎｃｅｄ　　ＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ　　
Ｔｈｉｒｄ　　Ｅｄｉｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅ
ｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９
８５，ｐｐ．９３２−９３３）。

【００５９】

【化２２】

【００６０】４−ジ及びトリフルオロメチル−５−クロ
ロ−２−ヒドラジノチアゾールの合成には、それぞれ中
間物質４−ジクロロメチル−２，５−ジクロロチアゾー
ル（１４）及びトリクロロメチル化合物（９）を用いる
。各々をフッ化水素で処理すると、フルオロメチル化合
物（１５及び１６）が生じ、これをヒドラジンに暴露す
ると２−ヒドラジン誘導体が生じる。

【００６１】

【化２３】

【００６２】チアゾール、４−アルキル又はアリール−
５−カルボアルコキシ、アミド、あるいはシアノ−２−
置換チアゾールは、適切なβ−ケトエステルをハロゲン
化し、それをチオウレア又はチオセミカルバゾンと反応
させることによって合成する（Ｍｅｔｚｇｅｒ．Ｊ．Ｖ
．，　　Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　　Ｈｅｔｅｒｏ
ｃｙｃｌｉｃ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｋａｔｒｉｔｚ
ｋｙ，Ａ．Ｒ．，Ｒｅｅｓ，Ｃ．Ｗ．編；Ｐｅｒａｇａ
ｍｏｎ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８５；ｖｏｌ．６，
Ｐａｒｔ　　４　　ｐ．２９７；Ｂｅｙｅｒ，Ｈ．，Ｂ
ｕｌｋａ，Ｅ．，Ｚ．Ｃｈｅｍ．，１９６２，２，３２
１−３２８）。

【００６３】

【化２４】

【００６４】上記の模式図（式中、Ｒ１　は水素であり
、Ｒ２　はアリールである）中のチアゾールは、適切な
α−ハロアセトフェノン（Ｒ１　＝Ｈ、及びＲ２　＝ア
リール）から合成することができる。

【００６５】４群化合物の場合、必要な出発原料は、以
下のように合成する：

【００６６】２つの方法により４，５−ジフェニル−２
−ヒドラジノチアゾールを合成する。１つは、まず２つ
のアルデヒド間にベンゾイン縮合（１７）物質を形成す
ることによるものである（Ｉｄｅ，Ｗ．Ｓ．，Ｂｕｃｋ
，Ｊ．Ｓ．，Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．，１９４８，Ｖｏｌ
．４，２６９）。この方法で得られないベンゾインは、
フェニル置換”アシル陰イオン等価物”と別のアルデヒ
ドを縮合し、その後カルボニル保護基を除去することに
より合成する（Ｂｅｒｔｚ，Ｓ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９８０，１７，８３１
）。特定の例としては、金属化したＯ−トリメチルシリ
ルシアノヒドリン（１９）とアリールアルデヒドとの縮
合がある。この物質（２０）を、酢酸水溶液を用いて脱
保護化して、ベンゾイン物質（１７）を生じる。

【００６７】

【化２５】

【００６８】次に、ベンゾイン物質を、塩化チオニルの
ような慣用試薬を用いてハロゲン化物（１８）に変換し
て、α−ハロケトン（１８）を生成し、これをチオウレ
アと反応させて４，５−ジフェニル−２−アミノチアゾ
ールを生成する（Ｔｒａｕｍａｎｎ，Ｖ．，Ｌｉｅｂｉ
ｇｓ　　Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，１８８８，２５０，３１
；Ｄｏｄｓｏｎ　　ら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
，１９４５，６７，２４４２）。これらを、ベンゾ化合
物の実施例に関して記載されているように、ヒドラジン
を用いて２−ヒドラジノ化合物に変換し得る。

【００６９】同じα−ハロケトンは、チオシアン酸塩と
反応して、α−チオシアノケトン（２１）を生じ、それ
は容易に環化される。たとえば、塩化水素ガスと反応さ
せた場合、２−クロロチアゾール（２２）が得られるが
、これはヒドラジンと反応して２−ヒドラジノチアゾー
ルを生じる。

【００７０】

【化２６】

【００７１】あるいは、α−ハロケトンは、ハロケトン
をＮ−アリールチオセミカルバゾン（２３）で処理する
ことにより、必要なヒドラゾン（２４）を直接生成する
ために用い得る（Ｊｏｈｎ，Ｓ．，Ｓｃｈａｋｓ，Ａ．
，Ｈａｒｔｕｎｇ，Ｓ．，Ｓｃｈａｒｆ，Ｋ．−Ｄ．及
び　　Ｎｏｖｅｒ，Ｌ．，Ｐｈａｒｍａｚｉｅ，１９７
９，３４，７９０）。

【００７２】

【化２７】

【００７３】アルデヒドの合成 アルデヒドは、市販品を購入するか、あるいは当業者に
よく知られた方法で合成することもできる。

【００７４】たとえば、アリールメタンのベンジル酸化
（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ　　Ｏｒｇａｎ
ｉｃ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　Ｔｈｉｒｄ　　Ｅｄｉ
ｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏ
ｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐ．１０７９）
、アリール酸塩化物（同書　　ｐ．３９６）、又はアリ
ール酸誘導体の還元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｒ．Ｃ．，Ｃｏｍ
ｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　　ＯｒｇａｎｉｃＴｒａｎｓｆ
ｏｒｍａｔｉｏｎｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１
９８９；ｐｐ．６０４−６０５）により、アルデヒドを
合成する。

【００７５】アルデヒドを合成するために、アリールハ
ロゲン化物を用いてもよい。この方法では、金属転位反
応は、アルデヒドを生成するために、種々の試薬、例え
ばジメチルホルムアミドで処理できるアリール金属種を
生じる（同書　　ｐ．６８１−６８３）。

【００７６】前述のアリールアルデヒド、酸、メタン、
及びハロゲン化合物は、テトラゾリウム塩に転換される
前に種々の官能基で誘導される。これは、芳香族求核性
置換（Ｍａｒｃｈ，Ｊ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ　　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　　ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＴｈｉｒｄ　　Ｅｄｉ
ｔｉｏｎ；Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏ
ｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８５；ｐｐ．５７６−
６０７）、芳香族求電子性置換（同書　　ｐｐ．４４７
−５１１）、又はヘテロ原子向性金属化反応（Ｇｓｃｈ
ｗｅｎｄ，Ｈ．Ｗ．，Ｒｏｄｒｉｇｕｅｚ，Ｈ，Ｒ．，
　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，Ｊｏｈｎ
　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ　　Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙ
ｏｒｋ，１９７９；Ｖｏｌ．２６，１）によって達成さ
れる。

【００７７】テトラゾリウム塩のアルデヒド部分がフェ
ノール又はアミンを含有する場合は、この基は、これら
とテトラゾリウム塩を合成するために用いられるジアゾ
化アニリン又は酸化剤との間の反応が起きないよう、保
護されねばならない。

【００７８】これは、酢酸塩としてヒドロキシアリール
アルデヒドを保護し、ホルマザンを生成するための一連
の反応を実施し、ついでｐＨ１０で酢酸塩を加水分解す
ることによって達成される。ｐＨ５に酸性化し、ついで
濾過すると、所望のホルマザンが生じる。

【００７９】テトラゾリウム塩の合成に際して、その結
果生じたホルマザンを酸化剤と反応させる場合は、フェ
ノールをジヒドロピランのような酸性で不安定な基によ
って保護し（Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．，Ｐｒｏｔｅｃｔ
ｉｖｅ　　Ｇｒｏｕｐｓ　　ｉｎＯｒｇａｎｉｃ　　Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　ａｎｄ
　　Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ；１９８１，ｐｐ．
８７−１１３）、これを酸性条件下でテトラゾリウム塩
を攪拌することにより除去する。

【００８０】同様に、アルデヒド部分におけるアミンは
、それらの反応を阻止するために保護されねばならない
。これは、酸性で不安定なカルバミド酸塩を用いること
によって、最もよく成し遂げられ（同書　　ｐｐ．２１
８−２４７）、そのカルバミド酸塩は、酸性条件下でテ
トラゾリウム塩を攪拌することにより、後に除去される
。

【００８１】アリールアミンの合成 アリールアミンは、対応するニトロ又はアジド化合物の
還元（Ｌａｒｏｃｋ，Ｐ．Ｃ．，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓ
ｉｖｅ　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔ
ｉｏｎｓ；ＶＣＨ：Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ，１９８９；ｐ
ｐ．４１２−４１５又は４０９−４１０）、アリール金
属化合物と求電子性窒素試薬間との反応（同書ｐｐ．３
９９−４００）、又はアシルアジド又は酸化アミドの転
位（同書　　ｐｐ．４３１−４３２）により合成する。

【００８２】アルデヒドの場合と同様に、求電子性及び
求核性の芳香族置換を用いて、異なる官能基をアリール
アミン又は合成前駆体に導入することができる。

【００８３】

【発明の効果】

分析方法 本発明は、本明細書に記載された２−チアゾリルテトラ
ゾリウム塩指示試薬が、約６００ｎｍを超えるその反射
スペクトルにおいて広範なプラトーを示す、という所見
を利用する。本発明の最も好ましい指示試薬化合物は、
約６５０ｎｍを超えるプラトーを有する（すなわち、最
も平坦な約５０ｎｍ幅部分が６４０〜６６０ｎｍで始ま
る）。このような反射率プラトーは、試薬ストリップか
らの反射率の測定を基準にした分析試験の精度を改良す
る。

【００８４】試薬ストリップは、当該分析対象物を含有
する液体試験試料と接触させると反応して変色する試験
組成物を包含する固体担体マトリックスからなる分析具
として、当業界で公知である。このような試験組成物は
、本発明の場合、（ａ）分析対象物と反応して還元物質
を生じる単数又は複数の試薬、及び（ｂ）このような還
元物質により還元されて色原性ホルマザン染料物質を生
じ得る、本明細書に記載されているような２−チアゾリ
ルテトラゾリウム塩を包含する。このような試薬ストリ
ップの呈色応答は、肉眼で観察されて半定量的値を示す
が、しかしながら、定量的結果は、あらかじめ確定され
た波長で担体マトリックスの反射率を測定することによ
って得られる。このような測定は、反応した担体マトリ
ックスを光源で照射し、検出器要素で反射光を測定する
ことにより、担体マトリックスの反射率を検知すること
を含む。

【００８５】反射率プラトーを有するテトラゾリウム塩
指示試薬の所見を用いると、その光学系（光源、検出器
要素、スペクトル制御要素、たとえばフィルター、及び
その他の部分の組合）の中心波長のばらつきを受けやす
い計器を用いて試薬ストリップからの反射率を読み取る
場合に、特に有益である。光学系の中心波長のばらつき
は、種々の因子、たとえば主照明光源又はフィルターの
ようなスペクトル制御要素の中心波長のばらつきによっ
て引き起こされる。たとえば、光源として発光ダイオー
ド（ＬＥＤ）を用いると、放射される光の波長は、一般
にひとつの計器内では±４ｎｍ変化し、製造のばらつき
のために、異なる計器のＬＥＤ間では±８ｎｍまで変化
する。さらに、ＬＥＤは温度効果によっても、同様に中
心波長の変化を受けやすい。広帯光源をフィルターとと
もに用いて中心波長のスペクトル制御を提供する場合、
ひとつの計器内のばらつきは一般に１ｎｍ以下であるが
、しかしながら計器間では、ばらつきは±６ｎｍという
高さである。したがって、本発明は、計器中の検出要素
に反応する光の中心波長が約±５ｎｍの範囲のばらつき
を受ける場合に適用可能である。

【００８６】本発明に用いるための試薬ストリップを製
造する場合、担体マトリックスの選択、分析対象物と反
応して還元物質を生じる試験試薬、及びこのような試薬
及びテトラゾリウム指示試薬が担体マトリックスに包含
される方法は、試薬ストリップの当業界には十分公知で
ある。ちょうど２〜３の実施例を詳述するために、一般
的担体マトリックスは多孔性かつ吸収性の紙、布、ガラ
ス繊維フィルター、重合性膜及びフィルム等である。組
込み方法には、１つ又はそれ以上の工程での、溶液、懸
濁液、又はその他の液体形態の試験組成物による形成さ
れた担体マトリックスの含浸、その後のマトリックスの
乾燥；たとえば、フィルム又は膜形成処方物の溶液の注
ぎ込み又は層形成による、試験組成物の１つ又はそれ以
上の成分の存在下でのマトリックスの形成が含まれる。

【００８７】試薬ストリップに包含される試験試薬に関
しては、本発明のテトラゾリウム塩はＮＡＤＨの検出に
特に有益である。ＮＡＤＨは種々の生化学物質に特異的
な酵素触媒検出反応で生成されるため、本化合物は、グ
ルコース及びコレステロールの測定におけるような医学
的診断試験に特に有用である。しかしながら、概して、
ＮＡＤＨのみならずその他の還元物質、たとえば硫化水
素ガス、ジボラン、水素化ヒ素、又は水素化リンも、検
出可能である。

【００８８】

【実施例】以下の実施例で本発明をさらに説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００８９】Ａ．化合物合成 ヒドラゾンの合成 １２５ｍｌの無水エタノール中の２５ｍｍｏｌの適切な
アルデヒド及び２５ｍｍｏｌの適切なヒドラジンのスラ
リーを、３時間還流した。ソックレー抽出器中で、モレ
キュラーシーブ３Ａを用いて水を除去した。混合液を室
温に冷却し、次いで濾過して、ヒドラゾンを生成した。

【００９０】ホルマザンの合成 ６０ｍｌの３Ｎ　　ＨＣｌ中の８．５ｍｍｏｌのアミン
のスラリー又は溶液を５℃に冷却することにより、まず
ジアゾニウム塩を合成した。次に、５ｍｌの水に溶解し
た亜硝酸ナトリウム（０．７０ｇ、１０．１５ｍｍｏｌ
）を滴下した。３０分攪拌後、混合液を、１２０ｍｌの
１：１（容量比）ＤＭＦ−ピリジン混液に溶解した８．
５ｍｍｏｌのヒドラゾンの冷（−２５℃）混合液に滴下
した。 反応は、滴下中は−１５℃より高温にしない。２時間の
攪拌を行いつつ、その混合液を室温まで加温した。濾過
により、黒色固体としてホルマザンを生じた。不純物は
、メタノールで何度も洗浄するか、又はメタノールに溶
解した固体を還流し、熱い間に濾過することにより除去
することができた。

【００９１】テトラゾリウム塩の合成 １．５ｍｍｏｌのホルマザンのスラリーを、２０ｍｌの
酢酸及び４ｍｌの亜硝酸イソアミルとともに１６〜４８
時間攪拌した。次に、その混合液を濾過して、テトラゾ
リウム塩を得た。その塩が沈殿しない場合は、エテール
で希釈すると沈殿を生じた。

【００９２】２，５−ジクロロ−４−ジクロロメチルチ
アゾール 最初は８０℃で、発熱反応が徐々に終了した後は１００
℃で、約１００時間、５８８８ｇ（４２．９ｍｏｌ）９
７．３％２−クロロ−４−メチル−チアゾール中に、塩
素を激しく流し込んだ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９１
９，ｐｐ．１０７１−１０９０）。室温に冷却して一夜
放置後、生じた２，５−ジクロロ−４−ジクロロメチル
チアゾールの結晶沈殿物を濾し取り、セラミッククレー
上で脱水した。収量３９０７ｇ（理論値の３８．４％）
。

【００９３】塩素化混合液の液体画分を、２ｍの充填カ
ラム中で分別蒸留した。１０１〜１０３℃／６ｍｂａｒ
で得られた蒸留物の大部分を結晶化し、ついでセラミッ
ククレー上で脱水した。分別蒸留による２，５−ジクロ
ロ−４−ジクロロメチルチアゾールの収量：２７３３ｇ
（理論値の２６．９％）。

【００９４】総収量６６４０ｇ（理論値の６５．３％）
。融点４２〜４４℃（石油エーテルから再結晶化）。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　中）：δ＝６．７８ｐｐ
ｍ．

【００９５】２，５−ジクロロ−４−トリクロロメ
チルチアゾール 攪拌器、温度計、還流冷却器及びガス導入管を装備した
三つ口フラスコ中で、１０９３ｇ（８．１９ｍｏｌ）の
２−クロロ−４−メチルチアゾールと４リットルの塩化
メチレンの混合液に、室温で塩素ガスを通しはじめた。 発熱反応が止んだ後、塩素を持続的に導入しながら徐々
に温度を上げて、塩化メチレンを留去した；溶融液を約
１６０℃まで徐々に加熱した。約１６０℃で、ガスクロ
マトグラムがほとんど専ら所望の化合物２，５−ジクロ
ロ−４−トリクロロメチルチアゾールを示すまで、余剰
の塩素ガスの大部分（漏出ガスのかすかに緑がかった色
で認知できる）を発泡させた。塩素化の総持続時間は４
０〜５０時間であった。

【００９６】１４ｍｂａｒで１５０℃の頭頂温度までの
粗蒸留により、約９５％の純度の２，５−ジクロロ−４
−トリクロロメチルチアゾール２０５７ｇが生じたが、
これは純生成物における理論収量の８８％に相当する。 銀被覆２２０ｃｍ充填カラムによる精密蒸留で、２，５
−ジクロロ−４−トリクロロメチルチアゾールが得られ
た。１６ｍｂａｒでの沸点は１２３〜１２５℃であった
。

【００９７】２，５−ジクロロ−４−ジフルオロメチル
チアゾール １０１０ｇ（４．２６ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４
−ジクロロメチルチアゾールを、ＶＡオートクレーブ中
、１４５℃／２５ｂａｒで、１５００ｍｌの無水フッ化
水素酸によりフッ素化した。生成したＨＣｌを連続的に
除去した。反応終了時に、室温、真空下で、余剰のフッ
化水素酸を吸引除去した。残渣を氷水中に注ぎ、ジクロ
ロメタン中に取り出して、硫酸ナトリウム上で脱水し、
蒸留した。収量は７５３ｇ（理論値の８６．６％）の２
，５−ジクロロ−４−ジフルオロメチルチアゾールであ
った。融点７４〜７５℃／１８ｍｂａｒ；ｎＤ２０　＝
１．５１７１。

【００９８】２，５−ジクロロ−４−トリフルオロメチ
ルチアゾール ７５０ｇ（２．７６ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４−
トリクロロメチルチアゾールを、１３０℃／１９〜２０
ｂａｒのＶＡオートクレーブ中で、１００ｍｌ無水フッ
化水素酸でフッ素化した。生成したＨＣｌを絶えず除去
した。反応終了時に室温、真空下で、余剰のフッ化水素
酸を吸引除去した。残渣を氷水に注ぎ入れ、ジクロロメ
タン中に取り出して、硫酸ナトリウム上で脱水し、蒸留
した。

【００９９】収量は５７０ｇ（理論値の９３％）の２，
５−ジクロロ−４−トリフルオロメチルチアゾールであ
った。融点１６４℃；ｎＤ２０　＝１．４７７４。

【０１００】５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−トリフ
ルオロメチルチアゾール ７５ｇ（１．５ｍｏｌ）のヒドラジン水和物を、２５℃
の反応温度を超えないような速度で、１１１ｇ（０．５
ｍｏｌ）の２，５−ジクロロ−４−トリフルオロメチル
チアゾール及び５００ジオキサンの混合物に添加した。 室温でさらに２０時間攪拌後、反応混合液を２．５リッ
トル氷水中で攪拌した。ついで濾別し、残渣を水で洗浄
して、脱水した。

【０１０１】収量は８７．３ｇ（理論値の８０．３％）
の５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−トリフルオロメチ
ルチアゾールであった。融点１３６〜１３７℃。

【０１０２】５−クロロ−２−ヒドラジノ−４−ジフル
オロメチルチアゾール５−クロロ−２−ヒドラジノ−４
−トリフルオロメチルチアゾールと同様に、２，５−ジ
クロロ−４−ジフルオロメチルチアゾールから５−クロ
ロ−２−ヒドラジノ−４−トリフルオロメチルチアゾー
ルが、収率５１．３％で得られた。融点１３２℃（分解
）（シクロヘキサンからの再結晶化後）。

【０１０３】少量の化合物が、７０℃／０．１ｍｂａｒ
で昇華された。

【０１０４】Ｂ．試薬ストリップの調製各指示試薬を試
薬ストリップに含浸し、既知量のグルコース、コレステ
ロール、又はＮＡＤＨを含有する溶液で試験した。試薬
ストリップは、単一の試薬パッドが付着するポリスチレ
ンハンドルからなる。試薬パッドは０．２ｘ０．２イン
チ四方で、適切な分析対象物を含有する試料のアリコー
トを用いた場合に計器で読み取れる変色をさせる試薬を
含有する。乾相試薬パッドは、実施例のようにセルロー
ス繊維又はナイロン膜から成る固体支持体である。試薬
パッドをまず、メタノールのような溶剤に溶解した当該
テトラゾリウム塩（０．８Ｍ／リットル）及び洗剤（０
．３％）の溶液で含浸した。試薬パッドに含浸される第
二溶液は、以下の成分を含有した：

【０１０５】

【表１】

【０１０６】０〜３３ｍＭ／リットルの少なくとも５つ
の異なる分析対象物濃度を有する約０．０１ｍｌのいく
つかの試験溶液（血清、血漿、水溶液）を、乾燥試薬パ
ッドの中央に塗布した。約６０秒の遅滞時間後、各指示
試薬の反射スペクトルを、４００〜１１００ｎｍの波長
範囲にわたって、５ｎｍ増分で測定した。

【０１０７】Ｃ．実用性データ 以下は、本発明の種々の合成されたテトラゾリウム塩に
固有のスペクトル及びその他の分析データの表である。 化合物は、それらのベンゾチアゾリル残基の形態により
、ついでそれらのＲ４　置換基により、最後にそれらの
Ｒ３　置換基によって、順にまとめられている。たとえ
ば、示された最初の化合物は、Ａ．１．ａ）であり、Ａ
式（式中、Ｒ１　及びＲ２　は一緒になって非置換ベン
ゾチアゾリル環を形成し、Ｒ４　は４−ニトロフェニル
であり、Ｒ３　は４−アセトアミドフェニルである）を
有し；第二の化合物Ａ．１．ｂ）は、化合物Ａ．１．ａ
）と同じＲ１　、Ｒ２　、及びＲ４　置換基を有するが
、しかしＲ３　はフェニルである；等。

【０１０８】テトラゾリウム塩の反射スペクトルは、そ
れらが観察又は測定される周囲の状況によるものと理解
される。個々のテトラゾリウム塩を比較するために、以
下のデータは６００ｎｍより大きい波長での反射スペク
トルの最も平坦な部分の相対的扁平度の測定値を含み、
スペクトルは上記のパートＢに記載されたように調製さ
れたグルコース又はコレステロール試薬ストリップを用
いて発生される。スペクトルの相対的扁平度は、下記の
ように検出された分析対象物のレベルに関して標準化さ
れるＫ／Ｓ単位のデータで表される。

【０１０９】Ｋ／Ｓは、式：（１−Ｒ）２　／２Ｒ（式
中、Ｒは計器で読み取る反射率単位である）で定義され
る。Ｋ／Ｓのパーセント変化（百分率で表される）は、
５０ｎｍの範囲にわたる変化を、このような範囲での高
及び低Ｋ／Ｓ値の平均で割った値である。

【０１１０】本化合物のプラトー特性は、本発明の目的
に関しては、約６００ｎｍを超える波長で始まる３０〜
５０ｎｍ波長スパンにわたる約１７％未満の反射スペク
トルのパーセント変化（上記の段落に記載されているよ
うなＫ／Ｓにより表される）と理解されるべきである。 最も好ましいのは、テトラゾリウム塩指示試薬が５０ｎ
ｍ波長スパンにわたって約５％又はそれ未満のＫ／Ｓの
パーセント変化を示すものである。

【０１１１】図面を参照すると、図１〜４は、グルコー
スの種々の濃度で、従来技術のテトラゾリウム塩ＩＮＴ
、ＭＴＴ、ＮＢＴ、及びＵＳＳＲを還元した場合に生じ
るホルマザンの反射スペクトルを示す。比較のために、
図５〜１６は、本発明の選択された化合物に関する対応
スペクトルを示す。本化合物からのホルマザンのスペク
トルにおけるプラトーの存在、及び従来の技術からのホ
ルマザンの場合のその不在は、容易に明らかである。

【０１１２】上記の４つの従来技術の化合物は、以下の
ように６５０〜７００ｎｍの波長範囲にわたるＫ／Ｓの
パーセント変化を示す： ＩＮＴ　　　　　　　　　　　　　　７１％ＭＴＴ　　
　　　　　　　　　　１７８％ＮＢＴ　　　　　　　　
　　　　　　７３％ＵＳＳＲ　　　　　　　　　　　　
２８％

【０１１３】ホルマザンに関するパーセントＫ／
Ｓが低いほど、テトラゾリウム塩は反射率の測定に、そ
れゆえ分析対象物濃度の測定に用いる光学系の中心波長
のばらつきに、より多く対応できる。

【０１１４】以下の非標準的略語を、以後の文中に用い
る： ”ＵＶ”　　−　　ホルマザンのＵＶ反射スペクトルの
最大反射率ピークの波長（ｎｍ）。吸光係数及び測定中
に用いる溶剤は、括弧内に示される。 ”ｎｍ”　　−　　５０ｎｍ波長スパンにわたるホルマ
ザンの反射スペクトルの最も扁平な部分の位置（開始及
び収量波長（ｎｍ）で表される）。 ”Ｋ／Ｓ”　　−　　反射スペクトルの上記の最も平坦
な５０ｎｍ部分のＫ／Ｓにおけるパーセント変化。反射
スペクトルを生じるために用いられる分析対象物の濃度
は、括弧内に示される。Ｍｍｏｌは、ｍｍｏｌ／リット
ルでの濃度を示す。

【０１１５】以下は、反射スペクトルが図面の図５〜１
６に示される化合物の一覧である。以下の表中のそれら
の簡略参照番号及び所在は、化合物名の前の大括弧中に
示される。 ［ＭＢＬ１０］［Ａ−２−６］　　２−（ベンゾチアゾ
ール−２−イル）−３−（４−メトキシフェニル）−５
−フェニルテトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ１５］［Ｂ−６−ａ］　　２−（６−エトキシ
ベンゾチアゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）
−５−（４−アセトアミドフェニル）テトラゾリウム塩
［ＬＮＨ８２］［Ｇ−１−ａ］　　２−（ナフト［１，
２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（２−メトキシ
−４−カルボキシフェニル）−５−（３，４−メチレン
ジオキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＨＴＣ５７］［Ｇ−１７−ａ］　　２−（ナフト［１
，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−カルボ
キシフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テ
トラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４２］［Ｇ−２３−ａ］　　２−（ナフト［１
，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（４−メチル
チオフェニル）−５−（４−アセトアミドフェニル）テ
トラゾリウム塩 ［ＨＴＣ４１］［Ｈ−１−ａ］　　２−（８−メトキシ
ナフト［１，２−ｄ］チアゾール−２−イル）−３−（
３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（４−メト
キシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＬＮＨ５０］［Ｉ−１−ａ］　　２−（４−ジフルオ
ロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−（
４−メトキシフェニル）−５−［４−（２−（２−（２
−エトキシ）エトキシ）エトキシ）フェニル］テトラゾ
リウム塩 ［ＫＪＥ１６６７］［Ｉ−１−ｄ］　　２−（４−ジフ
ルオロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３
−（４−メトキシフェニル）−５−（３，４−メチレン
ジオキシフェニル）テトラゾリウム塩 ［ＫＪＥ１７４５］［Ｉ−２−ａ］　　２−（４−ジフ
ルオロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（３，
４−メチレンジオキシフェニル）テトラゾリウム塩［Ｈ
ＴＣ４５］［Ｉ−９−ａ］　　２−（４−ジフルオロメ
チル−５−クロロチアゾール−２−イル）−３−（２−
メトキシフェニル）−５−（３，４−メチレンジオキシ
フェニル）テトラゾリウム塩 ［ＫＪＥ１６８９］［Ｊ−４−ａ］　　２−（４−トリ
フルオロメチル−５−クロロチアゾール−２−イル）−
３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−５−（３
，４−メチレンジオキシフェニル）テトラゾリウム塩［
ＫＪＥ１２６４］［Ｑ−１−ａ］　　２−（４，５−ビ
ス（４−メトキシフェニル）チアゾール−２−イル）−
３−（４−カルボキシフェニル）−５−（２−チエニル
）テトラゾリウム塩

【０１１６】 表 Ａ．ベンゾチアゾール−２−イル １．　　Ｒ４　＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４７８ｎ
ｍ（７．８ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６２０−６
７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４１，１６９１，１６８４，１６
１４，１６００，１５３５，１４８６，１４６０，１４
２５，１３８５，１３１８，１２６２，１１８３，９７
９，８５３ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＮＨｚ，ＣＤＣｌ３　）：δ　　８：６
７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，ＡｒＮＯ２　　　Ｈ）
，８．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．３６（
ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ＡｒＨ），８．３７−８．
４１（ｍ，１Ｈ，ＡｒＨ），７．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，ＡｒＨ），７．９６−７．９９（ｍ，１Ｈ
，ベンゾチアゾールＨ），７．６７−７．７８（ｍ，３
Ｈ，ベンゾチアゾールＨ）．質量スペクトル　　ＦＡＢ
　　ｍ／ｅ：１２０（８１．１），１６２（１００） ｂ）Ｒ３　＝フェニル ＵＶ：５４０ｎｍ（４．７９ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｃ）Ｒ３　＝フェニル ＵＶ：５７６ｎｍ（３．８９ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１１
．１ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ３　＝４−ニトロスチリル ＵＶ：５１２ｎｍ（１１．２ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｅ）Ｒ３　＝４−メトキシスチリル ＵＶ：５１４ｎｍ（７．１７ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｆ）Ｒ３　＝４−ニトロフェニル ＵＶ：５４２ｎｍ（２．１ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｇ）Ｒ３　＝４−フェニルフェニル ＵＶ：５５８ｎｍ（１４．１ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｈ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ
：５８４ｎｍ（４．８ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ
：５７０−６２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（９．１ｍｍｏ
ｌ） ｉ）Ｒ３　＝４−フェノキシフェニル ＵＶ：５６４ｎｍ（１０．３ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｊ）Ｒ３　＝２−チエニル ＵＶ：５６６ｎｍ（６．３ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｋ）Ｒ３　＝５−ニトロ−２−チエニルＵＶ：５１４ｎ
ｍ（１５．２ｘ１０３　，ジオキサン）；ｌ）Ｒ３　＝
３，４−ジメトキシフェニルＵＶ：５８８ｎｍ（２．３
ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：６００−６５０ｎｍ
；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１ｍｍｏｌ） ｍ）Ｒ３　＝４−ピリジル ＵＶ：５１６ｎｍ（８．６ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎ）Ｒ３　＝５−ブロモ−２−チエニルＵＶ：５１８ｎ
ｍ（６．１ｘ１０３　，ジオキサン）；ｏ）Ｒ３　＝３
−チエニル ＵＶ：５１２ｎｍ（７．５ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｐ）Ｒ３　＝２−ピリジル ＵＶ：４７８ｎｍ（９．６ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｑ）Ｒ３　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：５４６ｎｍ（２．９６ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｒ）Ｒ３　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５８２ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｓ）Ｒ３　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
５７８ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：
５６０−６１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏ
ｌ） ｔ）Ｒ３　＝４−（メチルチオ）フェニルＵＶ：５７６
ｎｍ（１．５ｘ１０３　，ジオキサン）；ｕ）Ｒ３　＝
１，４−ベンゾジオキシルＵＶ：５８２ｎｍ（４．８ｘ
１０３　，ジオキサン）；

【０１１７】２．　　Ｒ４　
＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ３　＝フェニル ＵＶ：４６８ｎｍ（１４．５ｘ１０３　，ジオキサン）
，４７６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（２２ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝アセトアミドフェニル（ＭＢＬ１０）ｎｍ
：６６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（３３ｍｍｏｌ
）

【０１１８】３．　　Ｒ４　＝４−メトキシ−１−ナフ
チルａ）Ｒ３　＝フェニル ＵＶ：５０４ｎｍ（７．８ｘ１０３　，ジオキサン），
４９５ｎｍ（水）

【０１１９】４．　　Ｒ４　＝４−ブロモフェニルａ）
Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４８０ｎｍ（
７．７ｘ１０３　，ジオキサン）

【０１２０】Ｂ．６−
エトキシベンゾチアゾール−２−イル １．　　Ｒ４　＝４−ニトロフェニル ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９８ｎ
ｍ（３．２ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６２５−６
７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１４ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４４７，１６０１，１５３５，１４
５９，１２５５，１１８３，８５３ｃｍ−１ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３　）：δ　　８：４２−８．７０（５Ｈ），８
．１６−８．３２（２Ｈ），８．０３−８．１２（１Ｈ
），７．６９−７．８４（２Ｈ），７．１６−７．２７
（１Ｈベンゾチアゾール），４．１８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ），２．５６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）
．１．４６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１７（
ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）ｂ）Ｒ３　＝４−ヒドロキ
シフェニル ＵＶ：６０１ｎｍ（１３ｘ１０３　，ジオキサン）；ｃ
）Ｒ３　＝４−（２，３−ジヒドロキシプロピルチオ）
フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（８．４ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｄ）Ｒ３　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：６０４ｎｍ（５．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：５４０−５９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１２１】２．　　Ｒ４　＝フェニルａ）Ｒ３　＝４
−（ジヒドロキシプロピルチオ）フェニルＵＶ：５３０
ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｂ）Ｒ３　＝４
−（トリメチルアンモニウム）フェニルＵＶ：５３０ｎ
ｍ（８．３ｘ１０３　，ジオキサン）ｃ）Ｒ３　＝４−
アセトアミドフェニルＵＶ：５４５ｎｍ（水） ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１２２】３．　　Ｒ４　＝４−ニトロ−１−ナフチ
ルａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６１２
ｎｍ（３．４ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６７５−
７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１４．１ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝（４−トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：６３４ｎｍ（４．６ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１２３】４．　　Ｒ４　＝８−キノリルａ）Ｒ３　
＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６２８ｎｍ（１２．
１ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ
／Ｓ：８％（８．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３６，１６８４，１６００，１５
３１，１４５８，１４２３，１３８５，１３１８，１２
５８，９５９，９３９，８３４ｃｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６　）：δ　　１０．８（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），８
．６７−８．８３（ｍ，３Ｈ），８．３４（ｄ，２４，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｐＨ），８．１１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７
．８Ｈｚ），８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｐ
Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），７．７
４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４．３Ｈｚ）．７．
４６（１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１２（ｄｄ，１Ｈ
，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．６Ｈｚ），４．１０（ｑ，２Ｈ
，Ｊ＝７．０Ｈｚ，−ＣＨ２　−Ｍｅ），２．２６（ｓ
，３４，ＣＨ３　−ＣＯ），１．３５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ，Ｍｅ）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：５０８（Ｍ＋　−１
，１８．７），３５３（２４．１），１２８（１００）

【０１２４】５．　　Ｒ４　＝３，４−メチレンジオキ
シフェニル ａ）Ｒ３　＝４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５０
４ｎｍ（ε５．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６７
０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６５，１６０２，１５４０，１５
０１，１４６２，１３８４，１２５４，１１７９，１１
１７，１０３７，９３２，８１３ｃｍ−１ＮＭＲ（３０
０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８．０１（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝９．０８），７．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８
．１４Ｈｚ，１．７９Ｈｚ），７．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．４６Ｈｚ），７．５３−７．６１（ｍ，２Ｈ），
７．２６−７．３６（ｍ，３Ｈ），６．３４（ｓ，２Ｈ
，−ＯＣＨ２　Ｏ−），６．２６（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ
２　Ｏ−），４．１７（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．９９Ｈｚ，
−ＣＨ２　ＣＨ３　），１．４０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．
９４Ｈｚ，−ＣＨ２　ＣＨ３）．質量スペクトル（ＦＡ
Ｂ）ｍ／ｅ：９３．１（１００），１８５．２（２７．
８），３４０（１６．９），４４８（３．０，Ｍ＋　−
１），４８９（１．４，Ｍ＋　），４９０（７．６，Ｍ
＋　＋１）．

【０１２５】６．　　Ｒ４　＝１−ナフチ
ルａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ１５
）ＵＶ：５３２ｎｍ（１３ｘ１０３　，ジオキサン）６
３２ｎｍ（水） ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）１　ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，８０：２０　　
ＣＤＣｌ３　／ＤＭＳＯ−ｄ６）： １０．３５（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ
），８．２８（ｍ，２Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝８，１
Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈ），７．９５（
ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ），７．８−７．６（ｍ，３Ｈ），７
．５８（ｄ，Ｊ＝７．５，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝
９，１Ｈ），７．０８（ｄｄ，Ｊ＝２．５９，９，１Ｈ
），４．１３（ｑ，Ｊ＝７，２Ｈ），２．２（ｓ，３Ｈ
），１．４３（ｔ，Ｊ＝７，３Ｈ）．ｂ）Ｒ３　＝４−
ニトロフェニル（ＨＴＣ１５）ＵＶ：６００ｎｍ（８．
４ｘ１０３　，ジオキサン）６２０ｎｍ（水） ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（９．４ｍｍ
ｏｌ）

【０１２６】７．Ｒ４　＝２−メチル−４−カルボキシ
フェニル ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６００−
６３０ｎｍ（１１ｘ１０３　，ジオキサン） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１２７】８．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニルａ）
Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９２ｎｍ（
９．５ｘ１０３　，ジオキサン）６１０ｎｍ（水） ｎｍ：６１５−６６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２％（８．１ｍｍ
ｏｌ）

【０１２８】９．Ｒ４　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝フェニル ＵＶ：４８８ｎｍ（１４．５ｘ１０３　，ジオキサン）

【０１２９】１０．Ｒ４　＝４−クロロ−１−ナフチル
ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６００ｎ
ｍ（水） ｎｍ：６１０−６６０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１３０】１１．Ｒ４　＝４−シアノ−１−ナフチル
ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６３２ｎ
ｍ（９．１ｘ１０３　，ジオキサン）６０６ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１３１】Ｃ．（５，６，７，８）−テトラヒドロナ
フト［２，３−ｄ］チアゾール−２−イル１．　　Ｒ４
　＝４−ニトロナフチル ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：６２４ｎ
ｍ（５．１ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６３５−６
８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１４ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６３５，１５４０，１５００，１４
７０，１４４０，１３９０，１２６０，１１２０，１０
４０，９２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３　）：δ　　８．９
９−９．１２（ｍ，１Ｈ，ナフタレン），８．６０（ｄ
，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ，ナフタレン），７．７２−７．９４（ｍ，
６Ｈ，ナフタレン及びベンゾチアゾール），７．５５（
ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），７．１２
−７．２３（ｍ，２Ｈ，ナフタレン），７．０１（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，ＰｈＮＨＡＣ），２．７０−２
．９０（ｂｒ　　Ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２　−），１．８０
−２．９５（ｍ，７Ｈ，ＣＨ３　ＣＯ−及び−ＣＨ２　
−）． 質量スペクトル（Ｅ２）ｍ／ｅ：１２１（２２．４），
１４９（１００），１６５（３４．７），１６４（２０
．７），２０５（２６．２），３４９（Ｍ＋　−１−Ｃ
１０Ｈ２　ＮＯ２　，１２．１）． 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：３５０（Ｍ＋　−Ｃ
１０Ｈ２　ＮＯ２　，１００）． ｂ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．１％（１４ｍ
ｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６２６ｎｍ（１．２ｘ１０３　，ジオキサン）；ｎｍ：
６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（９．１ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ３　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６１２ｎｍ（３．４ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８．５％（１４ｍ
ｍｏｌ）

【０１３２】２．　　Ｒ４　＝４−ニトロフェニルａ）
Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５９６ｎｍ（
２．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６４０−６９０
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１４ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９０ｎｍ（９．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏｌ
） ｃ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５９８ｎｍ（４．４ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６
４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１４ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ３　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（６．０ｘ１０３　，ジオキサン）

【
０１３３】３．　　Ｒ４　＝１−ナフチルａ）Ｒ３　＝
４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキシ）エトキシ
）フェニル ＵＶ：４３６ｎｍ（１２ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）

【０１
３４】Ｄ．６−メチルベンゾチアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：４９２ｎｍ（４
．７ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５５−７０５ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６０４，１５４０，１４９６，１４
６４，１４３２，１３７０，１３１７，１２５４，１１
２３，１０３７，９９３，８２２，７７０，７３５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．１７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ
−８．４８Ｈｚ）．７．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１
３Ｈｚ，１．７６Ｈｚ），７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｆ＝１
．７２Ｈｚ），７．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１９Ｈ
ｚ，１．５３Ｈｚ），７．４９（ｓ，２Ｈ），７．３２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１６Ｈｚ），６．３０（ｓ，２４
，−ＯＣＨ２　−Ｏ），３８５（ｓ．３Ｈ，−ＯＭｅ）
，３．７９（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ），２．５４（ｓ，３Ｈ
，−ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．２（１００，
１８５（６２．８），３１０（２５．９），３２５（４
．１），５０４（１０．９，Ｍ＋　−１）ｂ）Ｒ３　＝
４−アセトアミドフェニルＵＶ：４９２ｎｍ（３．６×
１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ
／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
４９２ｎｍ（４．９×１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６
５５−７０５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１１．１ｍｍｏｌ）

【０１３５】２．Ｒ＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ３　
＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４８８ｎｍ（３．９
×１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；
Ｋ／Ｓ：８％（１７．７ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１６９０，１５９９，１５３１，１５
０１，１４５９，１４２２，１３７０，１３１７，１２
６５，１１８１，１１６４，１０２１，９７７，８３７
，７４７，６９５ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１
０．４５（６，１Ｈ，−ＮＨＡｃ），８．３０（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．７５Ｈｚ，Ｐｈ−Ｈ），８．１７（ｓ，１
Ｈ，ＰｈＨ），７．９０−８．１１（ｍ，５Ｈ），７．
２６−７．４０（ｍ，１Ｈ），３．８４（ｓ，３Ｈ，−
ＯＭｅ），２．５０（ｓ，３Ｈ，−Ｍｅ），２．１４（
ｓ，３Ｈ，ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３，１００，１４
９（８．１），１６３（１９．９），１８５（９１．１
），３２３（２１．６）４５７（７．１，Ｍ＋　−１）

【０１３６】Ｅ．６−カルボキシベンゾチアゾール−２
−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：４０８ｎｍ（４
．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６５５−７３５ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０５，３２００−２５００（ｂｒ
ｏａｄ），１７００，１６０２，１５００，１４５１，
１２５９，１１２２，１０３４，９９０，８１５，７７
１ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．５７（ｓ，１Ｈ、ＰｈＨ），７．９５（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝８．０９，１．６８Ｈｚ）．７．８５（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝１．７０Ｈｚ），７．１７−７．４３（ｍ，４Ｈ）
，７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．１１（
ｓ，２Ｈ），３．９０（ｓ．３Ｈ，ＯＭｅ），３．７４
（ｓ，６Ｈ，ＯＭｅ） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３．１（５７．１
），１６７．２（１００），１８５．２（５０．８），
３４０．１（４８．１，Ｍ＋　−Ｃ８　Ｈ５　ＮＳＯ２
　）

【０１３７】２．Ｒ４　＝４−ニトロフェニルａ）Ｒ３
　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５６８ｎ
ｍ（０．６×１０３　，ジオキサン）

【０１３８】Ｆ．
５，６，７−トリメトキシベンゾチアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９４ｎｍ（ジオキサン） ５１６ｎｍ（水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１９％（８．３ｍ
ｍｏｌ） １　ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）：８．３３（ｍ，３
Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝７，２Ｈ），７，３５（ｍ，
３Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ）
，３．８５（ｓ，６Ｈ）

【０１３９】Ｇ．ナフト〔１，２−α〕チアゾール−２
−イル １．Ｒ４　＝２−メトキシ−４−カルボキシフェニル（
ＬＨＮ８２） ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５６８ｎｍ（４．５ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６５０
−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１１．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７１３，１６０５，１４９９，１４
６６，１４３３，１３１５，１２５９，１２０９，１０
３７，７４１ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ８
．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，−Ｐｈ），８．１
７−８．１７（ｍ，３Ｈ），８．００−７．９６（ｍ，
２Ｈ），７．８７−７．６６（ｍ，５Ｈ），７．３３（
ｄ，１Ｈ，Ｊ−８．１Ｈｚ），６．３０（ｓ，２４，Ｏ
ＣＨ２　Ｏ９，３．８２（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ）質量ス
ペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９３（１００），１８５（
４７），３４６（１８），５２４（２３，Ｍ＋　−１） ｂ）Ｒ＝４−（２−（２−（ヒドロキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５６６ｎｍ（３．２ｘ１０３　．Ｈ２　Ｏ）ｎｍ
：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１１．１ｍｍｏ
ｌ）

【０１４０】２．Ｒ＝４４　−アセトアミドフェニルａ
）Ｒ３　＝４−シアノフェニル ＵＶ：５２４ｎｍ（９×１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（８．１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３７，３０４７，１６９４，１５
９４，１５３７，１５０３，１４６２，１４１４，１３
８４，１２６５，１１７２，９８５，８４８ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ（３００　　ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１０
．８５（ｓ，１Ｈ，ＮＨＡｃ），８．５９（ｄ，２４，
Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ），８．３０−８．６４（ｍ，９４），７．７９−７
．７６（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ，−ＮＨＣＯ
ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：９１（１００），１
０９（２８），１８１（５６），２１７（４５），２３
２（１３），３２７（８），４８８（１０，Ｍ＋　−１
），４８７（４，Ｍ＋　） ｂ）Ｒ３　＝４−カルボメトキシフェニルＵＶ：５５８
ｎｍ（１２ｘ１０３　，４２０）ｎｍ：６６０−７１０
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（８．３ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝メチレンジオキシフェニルｎｍ：６８５−
７３５；Ｋ／Ｓ：７％（８．１ｍｍｏｌ）

【０１４１】３．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：５２０ｎｍ（１１ｘ１０３　，水）ｎｍ：６７０
−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１３％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５６５ｎｍ（１０．３ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（１１．４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）

【
０１４２】４．Ｒ４　＝３，４−メチレンジオキシａ）
Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：５４４ｎｍ（
１０．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６８５−７３５
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２６％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４３】５．Ｒ４　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５４６
ｎｍ（７．９ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６７５−７
２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４４】６．Ｒ４　＝１−アントリルａ）Ｒ４　＝
３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：６４４ｎｍ（
４．１ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：７５０−８００ｎ
ｍ；Ｋ／Ｓ：３２％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４５】７．Ｒ４　＝８−キノリルａ）Ｒ３　＝３
，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：６４０ｎｍ（３
．９ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０−７００ｎｍ
；Ｋ／Ｓ：５％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：
６２８ｎｍ（１２．１ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６
５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４６】８．Ｒ４　＝２，５−ジメトキシ−４−ニ
トロフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：６５４ｎ
ｍ（７．０ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５５−７０
５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４７】９．Ｒ４　＝２−メトキシ−４−カルボメ
トキシフェニル ａ）ＵＶ：６３０ｎｍ（６．３ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）
ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１４８】１０．Ｒ４　＝２−メトキシ−５−アセト
アミドフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５８４ｎｍ（７．０ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６６
０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１４９】１１．Ｒ４　＝２−メトキシフェニルａ）
Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシＵＶ：６１８ｎｍ（
１０．４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０−７００
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１５０】１２．Ｒ４　＝２，４−ジメトキシフェニ
ルａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ
：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３３％（８．３ｍｍｏ
ｌ）

【０１５１】１３．Ｒ４　＝２−メトキシ−４−ニトロ
フェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６５０ｎｍ（１４ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎｍ：６５０
−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１５２】１４．Ｒ４　＝２，５−ジメトキシフェニ
ルａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシｎｍ：６６５
−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３６％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１５３】１５．Ｒ４　＝４−ニトロナフチルａ）Ｒ
３　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：６２２ｎｍ（１５．６ｘ１０３　，ジオキサン）
６３２ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１３．８
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１５ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝フェニル ＵＶ：６１８ｎｍ（１２．６ｘ１０３　，ジオキサン）
ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（１４ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ４　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキ
シ）エトキシ）エトキシフェニル ＵＶ：６２８（６．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｅ）Ｒ４
　＝４−（１′−（ヒドロキシメチル）−２′，３′−
ジヒドロキシプロピルチオ）フェニルＵＶ：６２４ｎｍ
（５．１８ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６３５−６
８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１ｍｍｏｌ）

【０１５４】１６．Ｒ４　＝４−ニトロフェニルａ）Ｒ
３　＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチオ）
フェニル ＵＶ：６０４ｎｍ（４．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１１．１ｍｍ
ｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：５７２ｎｍ（１４．７ｘ１０３　，ジオキサン）

【０１５５】１７．Ｒ＝４−カルボキシフェニルａ）Ｒ
３　＝４−アセトアミドフェニル（ＨＴＣ５７）ＮＭＲ
（ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ１０．４６（ｓ，１Ｈ），８
．５−８．２２（ｍ，１Ｈ），８．１７（ｄ，，Ｊ＝８
，１Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝８．８，２Ｈ），７．８
５（ｄｄ，Ｊ＝７．６，０．９，１Ｈ），７．７８−７
．６５（ｍ，３Ｈ），２．０８（ｓ，３Ｈ） ＵＶ：５９８ｎｍ（ジオキサン） ６１４ｎｍ（１０．５ｘ１０３　，水）ｎｍ：６５０−
７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７．５％（１３．８ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−（３−トリメチルアンモニオプロポキ
シ）フェニル ＵＶ：６３２ｎｍ（１４．７ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）ｎ
ｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．６ｍｍ
ｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝４−（２′，３′−ジヒドロキシプロピル
チオ）フェニル ＵＶ：６５４ｎｍ（１．０ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４５−６９５；Ｋ／Ｓ：１１％（１１．１ｍｍｏ
ｌ） ｄ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−（ヒドロキシエト
キシ）エトキシ）エトキシ）フェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６．５％（８．３
ｍｍｏｌ） ｅ）Ｒ３　＝カルボメトキシフェニル ｎｍ：６０５−６５５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１．５％（８．
３ｍｍｏｌ）

【０１５６】１８．Ｒ４　＝２−メチル−４−カルボキ
シフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６２０−６４０ｎｍ（ジオキサン）６１４ｎｍ（８．４
ｘ１０３　，水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：３％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１５７】１９．Ｒ４　＝２−メチル−４−ニトロフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
６４４ｎｍ（１１．３ｘ１０３　，ジオキサン）６２５
ｎｍ（９．２ｘ１０３　，水） ｎｍ：６５５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１４ｍｍｏ
ｌ）

【０１５８】２０．Ｒ４　＝フェニル ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５１６ｎ
ｍ（７．１ｘ１０３　，ジオキサン）５２６ｎｍ（７．
１ｘ１０３　，水）

【０１５９】２１．Ｒ４　＝４−メトキシフェニルａ）
Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５０２ｎｍ（
９．５ｘ１０３　，ジオキサン）５００ｎｍ（水）

【０１６０】２２．Ｒ４　＝４−フェニエルアゾフェニ
ルａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：６１４ｎｍ（ジオキサン） ６１８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６１】２３．Ｒ４　＝４−メチルチオフェニル（
ＨＴＣ４２） ａ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：５２４ｎ
ｍ（ジオキサン） ５２６ｎｍ（水） ｎｍ：６７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６２】２４．Ｒ４　＝４−（３，４−ジヒドロキ
シブチルアミド）フェニル ａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５８８ｎｍ（９ｘ１０３　，ジオキサン）５７８
ｎｍ（１２ｘ１０３　，水）

【０１６３】２５．Ｒ４　＝４−カルボメトキシフェニ
ルａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５９８ｎｍ（９．４ｘ１０３　，ジオキサン）５
８１ｎｍ（９．１ｘ１０３　，水） ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０１６４】２６．Ｒ４　＝４−シアノフェニルａ）Ｒ
３　＝３−メトキシフェニル ＵＶ：６０２ｎｍ（１２．３ｘ１０３　，ジオキサン）
６０８ｎｍ（水） ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．３ｍｍ
ｏｌ）

【０１６５】２７．Ｒ４　＝４−ベンズアミド−５−メ
チル−２−メトキシフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６９０−７４０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１０．３ｍｍｏ
ｌ）

【０１６６】２８．Ｒ４　＝４−ベンズアミド−２，５
−ジメトキシフェニル ａ）ｎｍ：７１５−７６５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（１０
．３ｍｍｏｌ）

【０１６７】Ｈ．８−メトキシナフト〔１，２−α〕チ
アゾール−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝４−メトキシフェニル（ＨＴＣ４１）ＵＶ：４６
６（９．２ｘ１０３　，ジオキサン）５３０（９ｘ１０
３　，水） ｎｍ：６７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＪＳＯ−ｄ６　）：δ　　
８．３３（ｍ，３Ｈ），７．９７（ｍ，１Ｈ），７．９
０（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｓ
，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９，２Ｈ），４．１０（
ｓ，３Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３
Ｈ），３．７８（ｓ，６Ｈ）

【０１６８】Ｉ．４−ジフルオロメチル−５−クロロチ
アゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル（ＬＮＨ５０）ＵＶ：４８０ｎ
ｍ（１２．８ｘ１０３　，ジオキサン）ｎｍ：６４５−
６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（１７．７ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４２，１６１２，１５０４，１４
６４，１４５１，１２６１，１１７８，１１２６，１０
６１，８３７，６５８ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００Ｍ　　Ｈｚ，ＤＭＪＳＯ−ｄ６　）：δ
　　８．２４（ｅ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ．Ｐｈ−ＯＭ
ｅ），７．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ
−），７．２７−７．３３（ｍ，４Ｈ，ＰｈＨ），７．
２６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０４Ｈｚ，−ＣＨＦ２　），
４．２２−４．３２（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２　Ｏ），３．
９０（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ），３．２０−３．６８（ｍ
，１０Ｈ，−ＯＣＨ２　ＣＨ２　−） 質量スペクトル（ＦＡＢ）：１０７（１００），１３５
（６５．４），５６８（４．５，Ｍ＋　−Ｈ），５７０
（１．９，Ｍ＋１） ｂ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−メトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４６８ｎｍ（１０．２ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｃ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエト
キシ）エトキシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４６６ｎｍ（７．６ｘ１０３　，ジオキサン）；
ｎｍ：６４５−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ｄ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪ
Ｅ１６６７） ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（１１．１ｍ
ｍｏｌ）

【０１６９】２．Ｒ３　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪ
Ｅ１７４５） ＵＶ：５００ｎｍ（５．６６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
６５−７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１７．７ｍｍｏｌ） ＮＭＲ（３００Ｍ　　Ｈｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　
　７．９１（ｄｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ），７
．３５（ｓ，３Ｈ），７．３１（ｔ，１Ｈ，ＣＨＦ２　
），７．３０（ｄ，１Ｈ），６．２８（ｓ，２Ｈ），３
．７９（ｓ，９Ｈ） ｂ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（３．６２ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．
１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３６，１６１１，１４５６，１３
８４，１３０９，１２４１，１１８０，１１２６，１０
５３，９９２ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　，３００Ｍ　　Ｈｚ）：δ　
　８．２６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８９，Ｐｈ），７．４
０（ｓ．３Ｈ，ＰｈＨ），７，３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８
．９０Ｈｚ，Ｐｈ），７．３０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５２．
３，ＨＦ２　），４．２９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．６６
，４．０Ｈｚ，ＣＨ２　−ＯＨ），３．９１（５．６４
，−ＯＭｅ），３．８５（ｓ，３Ｈ，ＯＭｅ），３．６
４−３．４１（ｍ，１０Ｈ，−ＣＨ２　Ｏ）質量スペク
トル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：６２８（１３．５），６３０（
６．０）

【０１７０】３．Ｒ４　＝１−ナフチルａ）Ｒ３　＝４
−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）
エトキシ）フェニル ＵＶ：４４０ｎｍ（６．３２ｘ１０３　，ジオキサン）
；

【０１７１】４．１−フェニル ｂ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−エトキシ）エトキ
シ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４７４ｎｍ（１３．１ｘ１０３　，ジオキサン）
；ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２５％（１１．
１ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３９７，３３０４，２９５０，１６
１２，１４５２，１２６０，１１８０，１１２７，１０
６１，８４２ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００Ｍ　　Ｈｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　
　８．２５（ｄ，２Ｈ），Ｊ＝８．７３Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ
−），８．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．８７Ｈｚ，ＰｈＨ
），７．８８−７．９３（ｍ，１Ｈ，ＰｈＨ），７．８
０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．９０Ｈｚ，ＰｈＨ），７．３２
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８１Ｈｚ，ＰｈＯ−），７．２２
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０４．３Ｈｚ，−ＣＨＦ２　），４
．２６−４．３０（ｍ，２Ｈ，ＣＨＣＨ２　−），３．
７９−３．８２（ｍ，２Ｈ，ＣＨ２　ＣＨ２　ＯＨ），
３．３１−３，．２６（ｍ，８Ｈ，−ＯＣＨ２　ＣＨ２
　Ｏ−）質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：３０１（１
４．２），４３２（２３．９），５３８（３５．７，Ｍ
＋　−１），５３９（１１．５，Ｍ＋），５４０（１５
．８，Ｍ＋　＋１）．

【０１７２】５．Ｒ４　＝４−（２−（２−（２−ヒド
ロキシエチル）エオキシ）エトキシ）フェニルａ）Ｒ３
　＝３，４，５−トリメトキシフェニルＵＶ：５１６ｎ
ｍ（９ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）；ｂ）Ｒ３　＝３，４−
メチレンジオキシフェニルＵＶ：５１２ｎｍ（１３ｘ１
０３　，Ｈ２　Ｏ）

【０１７３】６．Ｒ４　＝４−（２
−ヒドロキシエトキシ）フェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４９２ｎｍ（１２ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）；

【０１７４
】７．Ｒ４　＝４−（２−（２−ヒドロキシエチル）エ
トキシ）フェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５１４ｎｍ（１１．３ｘ１０３　，Ｈ２　Ｏ）；

【０１
７５】８．Ｒ４　＝３，４−ジメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：４１０
ｎｍ（５．３４ｘ１０３　，水）；ｎｍ：６７５−７２
５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１１．１ｍｍｏｌ）

【０１７６】９．Ｒ４　＝２−メトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＨＴＣ４５
） ＵＶ：６１０−６４０（７．５ｘ１０３　）ｎｍ：６３
５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：７％（８．２ｍｍｏｌ）

【０１７７】Ｊ．４−トリフルオロメチル−５−クロロ
チアゾール２−イル １．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−（エトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５６０ｎｍ（５．９ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４６１，１６１２，１４５５，１３
８５，１２６３，１１７８，９９３ｃｍ−１ＮＭＲ（３
００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８．２０−８
．３２（ｍ，５Ｈ），８．０８−８．１４（ｍ，１Ｈ，
Ｐｈ），７．３２（３，１Ｈ，Ｊ＝８．９２Ｈｚ，−Ｐ
ｈＨ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８９，−ＰｈＨ
），４．１６−４．３２（ｍ，２Ｈ，ＣＨＣＨ３　）３
．３９−３．３８（ｍ，８Ｈ，エチレングリコール），
１．０９（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６．９９，−ＣＨ３　）質量
スペクトル（ＦＡＢ）：３２０（１５．６），４３６（
１８．８０，５８４（１３．９，Ｍ＋　−Ｈ）ｂ）Ｒ３
　＝４−（２−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：４９２ｎｍ（５．４ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３０１３，１６１０，１５１８，１４
５０，１２０３，１０５０，９２８，７１７，６６４ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８
．２４−８．３３（ｍ，４Ｈ，ＰｈＨ），８．１２（ｄ
，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＰｈＣＯ２　Ｈ），７．３２
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，ＰｈＣＯ２　Ｈ），４，
２７−４．２９（ｍ，２Ｈ，ＯＣＨＣＨ２　−），３．
７９−３．８２（ｍ，２Ｈ，−ＯＣＨ２　ＣＨ２　Ｏ）
，３．４０−３．６３（ｍ，８Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２　ＣＨ
２　−Ｏ−）質量スペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：１２１
（１００），１４６（２９．５），１４９（２６．５）
，６００（９．６，Ｍ＋　−Ｈ），６０２（４．２，Ｍ
＋　＋１）ｃ）Ｒ３　＝メトキシフェニル ｎｍ：６３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１１．１
ｍｍｏｌ）

【０１７８】２．フェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５２０ｎｍ（水，４．０８ｘ１０３　）ｎｍ：６３５−
６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；２１％（１１．１ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−（２−（２−（２−（エトキシ）エト
キシ）エトキシ）フェニル ＵＶ：５８０ｎｍ（７．７ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；０．６０（１１．１
ｍｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３５８２，３４６２，１６３６，１６
１４，１４８６，１４５６，１３８４，１１７９，１１
３７，１０５１，９９３，９８６，８４８，７６５，７
４５，６９１ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８
．２６（３，１Ｈ，Ｊ＝８．５４Ｈｚ，Ｐｈ−Ｏ−），
８．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４８，ＰｈＯ−），８．
００−７．７７（ｎ，５Ｈ，−Ｐｈ），７．３２（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．７３），７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．
６７，Ｐｈ−），３，３４−４，２８（ｍ，１０Ｈ，エ
チレングリコール），１．０９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９
２，−ＣＨ３　） 質量スペクトル（ＦＡＢ）： ５４０（Ｍ−Ｈ）＋ ｃ）Ｒ３　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：４９６ｎｍ（１１．４ｘ１０３　，ジオキサン）

【０１７９】３．４−ニトロフェニル ａ）Ｒ３　＝４−（トリメチルアンモニウム）フェニル
ＵＶ：５９０ｎｍ（４．７ｘ１０３　，ジオキサン）ｎ
ｍ：５２５−５７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ；１４％（１１．１ｍ
ｍｏｌ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３１，３０６５，１７５１，１７
２５，１４８６，１４６９，１３０８，１２０９，１１
８２，１１４７，９９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（３００ＮＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６　）：δ　　８
．８５＝８．９５（ｍ，１Ｈ，Ｐｈ−），８．５９（ｄ
，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ＰｈＮＯ２　），８．４７−
８，５５（ｍ，１Ｈ），８，４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．
９Ｈｚ，ＰｈＮＯ２　），８．２２−８．３５（ｍ，２
Ｈ，ＰｈＨ），７．９６−８．０５（ｍ，１Ｈ，ＰｈＨ
，７．８０−７．８７（ｍ，１Ｈ）３，７５（ｓ，９Ｈ
）質量スペクトル（ＦＡＢ）：１６４（１００，ＮＣＰ
ｈ＋　ＮＭＲ３　），１８５（２２．６），５１１（１
２．１，Ｍ＋　）

【０１８０】４．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニル（ＫＪ
Ｅ１６８９） ＵＶ：５００ｎｍ（６．６８ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
７５−７２５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１１．１ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−アセトアミドフェニルＵＶ：４９０ｎ
ｍ（７．２４ｘ１０３　，水）

【０１８１】５．Ｒ４　
＝４−（３−ジメチルアンモニオプロピルアミド）フェ
ニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４００ｎｍ（水）

【０１８２】６．Ｒ３　＝２−メトキシ−５−トリメチ
アウアンモニオフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５４０ｎｍ（水）

【０１８３】７．Ｒ４　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５００
ｎｍ（水）

【０１８４】８．Ｒ３　＝４−メトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５００
ｎｍ（水）

【０１８５】９．Ｒ４　＝３，５−ジカルボキシフェニ
ルａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ
：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１２．２ｍｏ
ｍｌ）

【０１８６】１０．Ｒ３　＝ナフチル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６８５−７３５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（９．４ｍｏｍｌ）

【０１８７】Ｋ．４−カルボキシエチル−５−クロロチ
アゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４９０ｎｍ（４．９ｘ１０３　，水）

【０１８８】Ｌ．
４−カルボメトキシ−５−クロロチアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝チエニル ａ）Ｒ３　＝３−チエニル ＵＶ：４９６ｎｍ（７．６６ｘ１０３　，水）ｂ）Ｒ３
　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６２０−
６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１１．１ｍｍｏｌ）

【０１８９】Ｍ．４−カルボキシイソプロピル−５−ク
ロロチアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝フェニル ａ）Ｒ３　＝３−チエニル ＵＶ：４６８ｎｍ（７．８ｘ１０３　，水）

【０１９０
】２．Ｒ４　＝フェニル ａ）Ｒ３　＝２−チエニル ＵＶ：４９０ｎｍ（７．６ｘ１０３　，水）

【０１９１
】３．Ｒ４　＝フェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：６％（９．４ｍｍｏｌ）

【０１９２】Ｎ．４−フェニル−５−カルボメトキシチ
アゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−メトキシフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５００ｎｍ（９．８２ｘ１０３　，水）

【０１９３】２
．Ｒ４　＝３，４−ジメトキシフェニルａ）Ｒ３　＝３
−チエニル ＵＶ：５１０ｎｍ（９，７６ｘ１０３　，水）

【０１９
４】３．Ｒ４　＝カルボキシフェニルａ）Ｒ３　＝３，
４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５００ｎｍ（５．
１０ｘ１０３　，水）ｎｍ：６６０−７１０ｎｍ；Ｋ／
Ｓ：１３％（２２ｍｍｏｌ）

【０１９５】４．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：５００ｎｍ（９．４４ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
７０−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２０％（２２ｍｍｏｌ）

【０１９６】Ｏ．４−フェニル−５−カルボメトキシチ
アゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
５００ｎｍ（７．８２ｘ１０３　，水）ｎｍ：６７０−
７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（２２ｍｍｏｌ）

【０１９７】２．Ｒ４　＝４−フェニルａ）Ｒ３　＝４
−メトキシフェニル ｎｍ：６５０−７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（９．４ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３，４−チエチル ＵＶ：４８０ｎｍ（８．７６ｘ１０３　，水）ｃ）Ｒ３
　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５００ｎ
ｍ（６．１８ｘ１０３　，水）

【０１９８】Ｐ．４−カ
ルボメトキシ−５−エチルチアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３−チエニル ＵＶ：５００ｎｍ（７．３８ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
４０−６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍｍｏｌ）

【０１９９】２．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフ
ェニル ａ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ｎｍ：６２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１４％（８．３ｍ
ｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４９０ｎｍ（７．９６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６５０−
７００ｎｍ；Ｋ／Ｓ：８％（８．３ｍｍｏｌ）

【０２００】３．Ｒ４　＝３，４−ジメトキシフェニル
ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４９０ｎｍ（５．２６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６６５−
７１５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝３−チエニル ｎｍ：６３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２０１】Ｑ．４，５−ビス（４−メトキシフェニル
）チアゾール−２−イル １．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ３　＝２−チエチル（ＫＪＥ１２６４）ＵＶ：６
２３（１１．６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６６０−７１０
ｎｍ；Ｋ／Ｓ：９％（１４ｍｍｏｌ）

【０２０２】Ｒ．４，５−ジフェニルチアゾール−２−
イル １．Ｒ４　＝カルボキシニフェル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：
４９０ｎｍ（１２．９ｘ１０３　，水）ｎｍ：６３０−
６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１６％（１５ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−メトキシフェニル ＵＶ：６１３ｎｍ（８．６６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
３０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１７％（８ｍｍｏｌ） ｃ）Ｒ３　＝２−チエチル ＵＶ：６０２ｎｍ（８．２２ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
３５−６８５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１８％（９ｍｍｏｌ） ｄ）Ｒ３　＝３−チエチル ＵＶ：５９９ｎｍ（１１．８ｘ１０３　，水）ｅ）Ｒ３
　＝４−フルオロフェニル ＵＶ：５９２ｎｍ（１３．６ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
２５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（３３ｍｍｏｌ） ｆ）Ｒ３　＝４−ヒドロキシフェニル ＵＶ：６２０ｎｍ（１１．２ｘ１０３　，水）

【０２０
３】２．Ｒ４　＝フェニル ａ）Ｒ３　＝２−チエチル ＵＶ：５７１ｎｍ（９ｘ１０３　，水）ｎｍ：６４０−
６９０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１４ｍｍｏｌ）

【０２０４】３．Ｒ４　＝３−ピリジルａ）Ｒ３　＝４
−メトキシフェニル ＵＶ：５８９ｎｍ（１１．８ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１５％（１５ｍｍｏｌ）

【０２０５】４．Ｒ４　＝８−キノリルａ）Ｒ３　＝フ
ェニル ＵＶ：６０７ｎｍ（１４．４ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
２０−６８０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１５ｍｍｏｌ）

【０２０６】５．Ｒ４　＝４−ニトロナフチルａ）Ｒ３
　＝３−チエニル ＵＶ：６９６ｎｍ（１０．４ｘ１０３　，水）ｎｍ：６
２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（１４ｍｍｏｌ）

【０２０７】６．Ｒ４　＝４−スルホフェニルａ）Ｒ３
　＝２−チエニル ＵＶ：６１０ｎｍ（６．０ｘ１０３　，水）

【０２０８
】７．Ｒ４　＝３，５−ジカルボキシフェニルａ）Ｒ３
　＝３，４−メチレンジオキシフェニルＵＶ：５９７ｎ
ｍ（５．２ｘ１０３　，水）ｎｍ：６２０−６７０ｎｍ
；Ｋ／Ｓ：７％（１４ｍｍｏｌ）

【０２０９】Ｓ．４−フェニルチアゾ−２−イル１．Ｒ
４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ３　＝
３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６４５−６９
５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２８％（８．３ｍｍｏｌ）

【０２１０】２．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニルａ）
Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６２
０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１１％（８．３ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−メチルフェニル

【０２１１】Ｔ．４（ｐ−フルオロフェニル）チアゾー
ル−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６４５
−６９５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１９％（８．３ｍｍｏｌ）

【０２１２】２．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニルａ）
Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６２
５−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１２％（８．３ｍｍｏｌ）

【０２１３】Ｕ．４−フェニル−５−メチルチアゾール
−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６２５
−６７５ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２２％（８．３ｍｍｏｌ）

【０２１４】２．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニルａ）
Ｒ３　＝２−チエニル ｎｍ：６００−６５０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（１０．３
ｍｍｏｌ） ｂ）Ｒ３　＝４−メチルフェニル ｎｍ：５８０−６３０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：５％（１０．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１５】Ｖ．４−ナフチル−５−フェニルチアゾー
ル−２−イル １．Ｒ４　＝４−カルボキシフェニル ａ）Ｒ３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：
６２０−６７０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：１０％（８．３ｍｍｏｌ
） ｂ）Ｒ３　＝２−チエチル ｎｍ：６００−６５０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：４％（１０．３ｍ
ｍｏｌ）

【０２１６】Ｗ．４−スチリル−５−フェニルチアゾー
ル−２−イル １．Ｒ４　＝３，４，５−トリメトキシフェニルａ）Ｒ
３　＝３，４−メチレンジオキシフェニルｎｍ：６７０
−７２０ｎｍ；Ｋ／Ｓ：２１％（１０．３ｍｍｏｌ）

【０２１７】本発明を、上記に特定的に説明し、例示し
た。本発明のその他の変更及び修正は、本発明の精神及
び範囲を逸脱しない限りにおいてなされ得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＩＮＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図２】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＭＴＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図３】種々のグルコース濃度での、テトラゾリウム塩
ＮＢＴを還元した場合に生じたホルマザン反射スペクト
ルを示す図である。

【図４】種々のグルコース濃度での、２−（ベンゾチア
ゾール−２−イル）−３−（１−ナフチル）−５−フェ
ニルテトラゾリウム塩（ＵＳＳＲ）を還元した場合に生
じたホルマザン反射スペクトルを示す図である。

【図５】本発明の指示薬化合物ＭＢＬ１０からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図６】本発明の指示薬化合物ＨＣＴ１５からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図７】本発明の指示薬化合物ＬＮＨ８２からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図８】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ５７からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図９】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ４２からのホルマ
ザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１０】本発明の指示薬化合物ＨＴＣ４１からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１１】本発明の指示薬化合物ＬＮＨ５０からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１２】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１６６７からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１３】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１７４５からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１４】本発明の指示薬化合物ＴＨＣ４５からのホル
マザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１５】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１６８９からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

【図１６】本発明の指示薬化合物ＫＪＥ１２６４からの
ホルマザンの対応するスペクトルを示す図である。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　試料を、（ａ）分析対象物と反応して
   還元物質を生成する試薬、及び（ｂ）上記還元物質によ
   り還元されて色原性染料物質を生成する指示試薬化合物
   を含有する試験組成物と混和した固体担体マトリックス
   を包含する試験具と接触させ、そして光源で担体マトリ
   ックスを照射し、検出器構成分で反射光を測定すること
   により担体マトリックスの反射率を検知することによっ
   て色原性染料物質を測定する液体試料中の分析対象物の
   測定方法において、上記指示試薬化合物として式Ａ：【
   化１】 （式中、（ａ）Ｒ１　及びＲ２　は一緒になってベンゾ
   環（このベンゾ環は置換されることもある）を形成し、
   あるいは （ｂ）Ｒ１　はカルボキシル、カルボアルコキシ、カル
   ボアリールオキシ、カルバモイル、又はシアノであり、
   Ｒ２　はアルキル又はクロロであるか、あるいは（ｃ）
   Ｒ１　はアルキル又はアリールであり、Ｒ２　はカルボ
   キシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ、又
   はシアノであるか、あるいは （ｄ）Ｒ１　はフルオロ置換基が式中のチアゾリル残基
   に隣接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキルで
   あり、Ｒ２　はクロロである、あるいは （ｅ）Ｒ１　又はＲ２　の一方又は両方が置換又は非置
   換フェニルであり、一方のみが置換又は非置換フェニル
   である場合は他方は水素又はアルキルであり；Ｒ３　は
   アリール又はスチリルであり、Ｒ４　はアリールであり
   、そしてＸは対陰イオンである）のチアゾリルテトラゾ
   リウム塩を用いることを含む改良された測定方法。
2. 【請求項２】　　Ｒ１　及びＲ２　が一緒になって、非
   置換のベンゾ環を形成する請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】　　Ｒ１　及びＲ２　が一緒になってベン
   ゾ環を形成して、式Ａ１： 【化２】 （式中、（ｉ）Ｒ５　及びＲ６　、又はＲ６　及びＲ７
   　、又はＲ７　及びＲ８　は一緒になって、アルコキシ
   、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド
   、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミ
   ノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、
   ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、スルファモイ
   ル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイドで置換され
   ることもあるベンゾ又はシクロヘキシル環を形成し、そ
   してその他は、同一であっても異なってもよく、水素、
   アルコキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アル
   キルアミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリール
   チオ、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、シア
   ノ、ハロ、ヒドロキシル、スルホ、スルホンアミド、ス
   ルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又はウレイド
   であるが、但しＲ６　及びＲ７　は一緒になってベンゾ
   又はシクロヘキシル環を形成し、Ｒ５　は水素でない、
   あるいは（ｉｉ）Ｒ５　、Ｒ６　、Ｒ７　及びＲ８　の
   うちの一つ又はそれ以上がアルコキシ、アリールオキシ
   、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド
   、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カルバモイル
   、カルボアルコキシ、シアノ、ハロ、ヒドロキシル、ス
   ルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキル
   アンモニオ、又はウレイドであり、その他が、もしあれ
   ば、水素である）を有するベンゾチアゾリル残基を生じ
   る請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】　　（ａ）Ｒ１　がカルボキシル、カルボ
   アルコキシ、カルボアリールオキシ、カルバモイル、又
   はシアノであり、Ｒ２　がアルキル又はクロロであるか
   、あるいは （ｂ）Ｒ１　がアルキル又はアリールであり、Ｒ２　が
   カルボキシル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキ
   シ、カルバモイル、又はシアノであるか、あるいは（ｃ
   ）Ｒ１　がフルオロ置換基が式中のチアゾリル残基に隣
   接する炭素上にあるジ又はトリフルオロアルキルであり
   、Ｒ２　はクロロである請求項１記載の方法。
5. 【請求項５】　　Ｒ１　及びＲ２　の一方又は両方が非
   置換フェニルであるか、又は独立してアルコキシ、アリ
   ールオキシ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリ
   ールアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アミノ、カ
   ルバモイル、カルボアルコキシ、カルボアリールオキシ
   、カルボキシ、シアノ、ハロ、ニトロ、スルホ、スルホ
   ンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、
   又はウレイドで置換されるフェニルであり、１個のみが
   置換又は非置換フェニルである場合は、他方は水素、ア
   ルキル、又はクロロである請求項１記載の方法。
6. 【請求項６】　　Ｒ３　が以下の： （ａ１　）式Ｂ： 【化３】 （式中、Ｑは一重結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−であり、（ｉ
   ）Ｙ１　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、ア
   ミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキルチオ
   、アリールチオ、ハロ、又は水素であり、Ｙ２　はアル
   コキシ、アリールオキシ、アルキル、アミド、アルキル
   アミド、アリールアミド、アルキルチオ、アリールチオ
   、アミノ、カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボキ
   シル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、スルホ、スルホン
   アミド、スルファモイル、トリアルキルアンモニオ、又
   はウレイドであり、Ｙ３　はアルコキシ、アリールオキ
   シ、アルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミ
   ド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カル
   ボアルコキシ、カルボアリールオキシ、カルボキシル、
   シアノ、ハロ、水素、ヒドロキシル、ニトロ、スルホ、
   スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキルアンモ
   ニオ、又はウレイドであり、Ｙ４　はアルコキシ、ハロ
   、又は水素であるか、あるいは（ｉｉ）Ｙ２　及びＹ３
   　が一緒になってメチレンジオキシ又はイミダゾを形成
   し、Ｙ１　及びＹ４　が水素である）、 （ｂ１　）２−、３−、又は４−ピリジル、（ｃ１　）
   ２−又は３−チエニル、及び（ｄ１　）２−又は３−フ
   ラニル から選択され、そしてＲ４　が以下の：（ａ２　）式Ｃ
   ： 【化４】 （式中、Ｙ５　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、ハロ、水素、ニトロ、又はウレ
   イドであり、Ｙ６　はアルコキシ、アリールオキシ、ア
   ルキル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、ア
   ルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアル
   コキシ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、
   スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、トリアルキ
   ルアンモニオ、又はウレイドであり、Ｙ７　はアルコキ
   シ、アリールオキシ、アミド、アルキルアミド、アリー
   ルアミド、アルキルチオ、アリールチオ、カルバモイル
   、カルボアルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ヒ
   ドロキシル、ニトロ、フェニルアゾ、スルホ、スルホン
   アミド、スルファモイル、又はウレイドであり、Ｙ８　
   はアルコキシ、アリールオキシ、アルキル、ハロ、水素
   又はニトロである）、 （ｂ２　）式Ｄ： 【化５】 （式中、Ｙ９　はアルコキシ、アリールオキシ、アルキ
   ル、アミド、アルキルアミド、アリールアミド、アルキ
   ルチオ、アリールチオ、カルバモイル、カルボアルコキ
   シ、カルボキシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、フェ
   ニルアゾ、スルホ、スルホンアミド、スルファモイル、
   トリアルキルアンモニオ、又はウレイドである）、（ｃ
   ２　）２−、４−、６−、又は８−キノリル、あるいは
   ２−メチルキノリル、及び （ｄ２　）アントラニル から選択される請求項１ないし５のいずれか１項に記載
   の方法。
7. 【請求項７】　　Ｒ３　が以下の： （ａ１　）式Ｅ： 【化６】 （式中、（ｉ）Ｙ２　、Ｙ３　及びＹ４　は各々Ｃ１−
   ４　アルコキシであり、 （ｉｉ）Ｙ４　が水素であり、Ｙ２　及びＹ３　がいず
   れもＣ１−４　アルコキシであるか、又は一緒になって
   メチレンジオキシを形成し、あるいは （ｉｉｉ）Ｙ２　及びＹ４　がいずれも水素であり、Ｙ
   ３　がＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキル、Ｃ
   １−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキルチオ、カ
   ルバモイル、カルボ（Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボ
   キシル、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、トリ（Ｃ１−４
   　）アルキルアンモニオ、又はウレイドである）、及び （ｂ１　）２−又は３−チエニルから選択され、そして
   Ｒ４　が以下の： （ａ２　）式Ｃ： 【化７】 （式中、（ｉ）Ｙ５　は水素であり、Ｙ６　、Ｙ７　、
   及びＹ８　は各々Ｃ１−４　アルコキシであり、（ｉｉ
   ）Ｙ５　及びＹ８　はいずれも水素であり、Ｙ６　及び
   Ｙ７　はいずれもＣ１−４　アルコキシであるか、又は
   一緒になってメチレンジオキシを形成し、（ｉｉｉ）Ｙ
   ５　、Ｙ６　及びＹ８　は各々水素であり、Ｙ７　はＣ
   １−４　アルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１
   −４　アルキルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カ
   ルボ（Ｃ１−４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ
   、ニトロ、ヒドロキシ、フェニルアゾ、スルホ、スルホ
   ンアミド、スルファモイル、又はウレイドであり、（ｉ
   ｖ）Ｙ５　はアルコキシ又はアルキルであり、Ｙ６　及
   びＹ８　はいずれも水素であり、Ｙ７　はＣ１−４　ア
   ルコキシ、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アル
   キルチオ、ベンズアミド、カルバモイル、カルボ（Ｃ１
   −４　）アルコキシ、カルボキシル、シアノ、水素、ニ
   トロ、フェニルアゾ、又はウレイドであり、（ｖ）Ｙ５
   　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであり、あるいは
   （ｖｉ）Ｙ５　及びＹ８　はＣ１−４　アルコキシであ
   り、Ｙ７　はＣ１−４　アルキルアミド又はベンズアミ
   ドである）、及び （ｂ２　）式Ｄ： 【化８】 （式中、Ｙ９　はＣ１−４　アルコキシ、Ｃ１−４　ア
   ルキル、Ｃ１−４　アルキルアミド、Ｃ１−４　アルキ
   ルチオ、ベンズアミド、シアノ、ハロ、水素、ニトロ、
   スルホ、スルホンアミド、又はウレイドである）、及び （ｃ２　）８−キノリルから選択される請求項１ないし
   ５のいずれか１項に記載の方法。
8. 【請求項８】　　Ｒ３　が以下の： ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
   シフェニル、３，４−メチレンジオキシフェニル、４−
   メトキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、及び４
   −メチルチオフェニルから選択され、Ｒ４　が以下の：
   ３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジメトキ
   シフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−メ
   チレンジオキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−
   アセトアミドフェニル、４−メチルチオフェニル、４−
   カルボキシフェニル、４−ニトロフェニル、２−メトキ
   シフェニル、２−メトキシ−４−カルボキシフェニル、
   ２，５−ジメトキシフェニル、２，５−ジメトキシ−４
   −ベンズアミドフェニル、１−ナフチル、４−ニトロ−
   １−ナフチル、４−メトキシ−１−ナフチル、８−キノ
   リル、２−メチル−４−カルボキシフェニル、４−カル
   ボメトキシフェニル、４−シアノフェニル、及び４−シ
   アノ−１−ナフチルから選択される請求項１ないし５の
   いずれか１項に記載の方法。
9. 【請求項９】　　検出器要素に達する光が狭波長バンド
   からなり、その中心波長が約±５ｎｍを上回る変動に感
   受性である請求項１記載の方法。
10. 【請求項１０】　　上記光源がＬＥＤである請求項９記
    載の方法。
11. 【請求項１１】　　上記還元物質がＮＡＤＨである請求
    項１記載の方法。