JPH04346946A - フッ素化炭化水素の製造法 - Google Patents

フッ素化炭化水素の製造法

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JPH04346946A
JPH04346946A JP14674791A JP14674791A JPH04346946A JP H04346946 A JPH04346946 A JP H04346946A JP 14674791 A JP14674791 A JP 14674791A JP 14674791 A JP14674791 A JP 14674791A JP H04346946 A JPH04346946 A JP H04346946A
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JP
Japan
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acid ester
general formula
formula
hcf2
fluorinated
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Application number
JP14674791A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Okada
由治 岡田
Kohei Morikawa
宏平 森川
Sumio Soya
征矢 住男
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
  本発明は、一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)(式中、nは3
または4。)で表されるフッ素化炭化水素の製造法に関
する。この化合物は、各種産業分野にて有用であり、そ
の中でも特に電子部品のはんだ付けの際に使用されるフ
ラックスを除去するのに好適なフラックス洗浄剤として
利用できる。
【0002】
【従来の技術】1,1,2−トリクロロ−1,2,2−
トリフルオロエタン(以下、フロン−113という。)
は、毒性が少なく、化学的に安定であるうえに、特徴あ
る溶解性を持つために、各種産業分野にて溶剤等に用い
られている。しかし、フロン−113は対流圏での寿命
が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線により
、分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を
起こし、オゾン層を破壊するとのことから、フロン−1
13の使用規制が実施されることになった。このため、
これらの従来のフロンに変わり、オゾン層を破壊しにく
い代替フロンの探索が活発に行われている。   本発明者等は先に、一般式(II):      
HCF2 (CF2 )n CH3         
        (II)  (式中、nは3または4
。) で表されるフッ素化炭化水素が、フロン−113の代替
品として適当であることを明らかにした(特願平2−5
1388)。この化合物は分子内に塩素原子を持たない
ため、先に述べたオゾン層破壊の原因物質にはなり得な
い。
【0003】   しかるに、この一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)  (式中、n
は3または4。) で表されるフッ素化炭化水素の効率の良い、優れた製造
法は未だほとんど知られていなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
  従来知られていた一般式(II):      H
CF2 (CF2 )n CH3          
       (II)  (式中、nは3または4。 ) で表されるフッ素化炭化水素の合成法は、ジャーナル 
 オブ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ(J
.Am.Chem.Soc.78,4999(1956
).)に報告がある。例えば、2,2,3,3,4,4
,5,5−オクタフルオロペンタンは次のようにして得
られる。 すなわち1−ヨウ化−2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロペンタンと、亜硫酸ナトリウムの反応
(収率33%)、1−ヨウ化−2,2,3,3,4,4
,5,5−オクタフルオロペンタンと硫化ナトリウムの
反応(収率19%)、1−ヨウ化−2,2,3,3,4
,4,5,5−オクタフルオロペンタンと水素化アルミ
ニウムリチウムの反応(収率45%)、等である(A)
。       HCF2 (CF2 )3 CH2 I→
HCF2 (CF2 )3 CH3   (A)
【00
05】原料となる1−ヨウ化−2,2,3,3,4,4
,5,5−オクタフルオロペンタンは、例えば、2,2
,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタノー
ル4−メチルベンゼンスルホン酸エステルを原料として
合成される。   以上のように一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)  (式中、n
は3または4。) で表されるフッ素化炭化水素の製造は、2段階を要し、
収率も30%を越えないなど、効率的な合成法ではなか
った。
【0006】   本発明は、こうした背景の中で、一般式(I): 
     HCF2 (CF2 )n CH2 OX 
           (I)(式中、nは3または4
、Xはベンゼンスルフォニル基、メタンスルフォニル基
、4−メチルベンゼンスルフォニル基のうちのいずれか
を示す。)で表されるフッ素化アルコール−スルホン酸
エステル誘導体を出発原料とした収率の良い一般式(I
I):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)  (式中、n
は3または4。) で表されるフッ素化炭化水素の製造法を提供することが
目的である。
【0007】
【課題を解決するための手段】
  本発明者等は、一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)  (式中、n
は3または4。) で表されるフッ素化炭化水素の製造法について鋭意検討
の結果、一般式(I):       HCF2 (CF2 )n CH2 OX
            (I)(式中、nは3または
4、Xはベンゼンスルフォニル基、メタンスルフォニル
基、4−メチルベンゼンスルフォニル基のうちのいずれ
かを示す。)で表されるフッ素化アルコール−スルホン
酸エステル誘導体を原料として、1ステップで収率の良
い製造法を確立するに至り、この発明を完成した。
【0008】すなわち、本発明は、一般式(I):  
    HCF2 (CF2 )n CH2 OX  
          (I)(式中、nは3または4、
Xはベンゼンスルフォニル基、メタンスルフォニル基、
4−メチルベンゼンスルフォニル基のうちのいずれかを
示す。)で表されるフッ素化アルコール−スルホン酸エ
ステル誘導体を、N−メチルピロリドン溶液中、ヨウ化
アルカリ金属と反応させることによる   一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
              (II)  (式中、n
は3または4。) で表されるフッ素化炭化水素の製造法である。
【0009】一般式(I)で表されるフッ素化アルコー
ル−スルホン酸エステル誘導体としては、2,2,3,
3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタノール4−
メチルベンゼンスルホン酸エステル、2,2,3,3,
4,4,5,5−オクタフルオロペンタノールベンゼン
スルホン酸エステル、2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロペンタノールメタンスルホン酸エステ
ル、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−デカフ
ルオロヘキサノール4−メチルベンゼンスルホン酸エス
テル等があげられる。また、一般式(II)で表される
フッ素化炭化水素は、2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロペンタン、2,2,3,3,4,4,
5,5,6,6−デカフルオロヘキサンを表す。
【0010】ヨウ化アルカリ金属には、ヨウ化カリウム
、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウムなどがあげられる
。ヨウ化アルカリ金属は通常、フッ素化アルコール−ス
ルホン酸エステル誘導体の1〜5等量用いられるが、経
済性等考慮して1〜2等量が望ましい。反応温度は、1
70〜250℃であるが、より好ましくは、190〜2
10℃で行われる。
【0011】
【実施例】以下に、実施例をあげて本発明を更に詳細に
検討する。〈参考例1〉2,2,3,3,4,4,5,
5−オクタフルオロペンタノール4−メチルベンゼンス
ルフォナートの製造。2,2,3,3,4,4,5,5
−オクタフルオロペンタノール(32g)と4−メチル
ベンゼンスルホン酸クロライド(27g)を、反応容器
に加え、0℃に保った。攪拌しながら、ここに、ピリジ
ン(30ml)を、温度が0℃を越えないように30分
かけて滴下した。滴下終了後、0℃で6時間攪拌した。 その後、氷水(50ml)の中に反応液をうつし、反応
を停止した。この液から、有機物をジエチルエーテルで
抽出した。ジエチルエーテル層は、0.1N塩酸で洗浄
し、ついで純水で洗浄、更に0.1N水酸化ナトリウム
水溶液で洗浄、純水で洗浄した。この洗浄工程を3回繰
り返した。ジエチルエーテル層は、無水硫酸ナトリウム
で乾燥の後ジエチルエーテルを留去して、2,2,3,
3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタノール4−
メチルベンゼンスルフォナート(31g)を得た(収率
92%)。
【0012】〈実施例1〉2,2,3,3,4,4,5
,5−オクタフルオロペンタンの合成。2,2,3,3
,4,4,5,5−オクタフルオロペンタノール4−メ
チルベンゼンスルフォナート(5.79g)、ヨウ化カ
リウム(3.73g)、N−メチルピロリドン(30m
l)を、反応容器に加えた。この反応装置に、蒸留装置
を取り付けた後、攪拌しながら、200℃に加熱した。 徐々に生成物が留出し、5時間で、2.6gに達した。 こうして得られた留出物を、再び蒸留し、2,2,3,
3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタン(2.4
5g)を得た(収率76%)。
【0013】〈実施例2〉2,2,3,3,4,4,5
,5,6,6−デカフルオロヘキサンの合成。2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6−デカフルオロヘキサ
ノール4−メチルベンゼンスルフォナート(8.72g
)、ヨウ化カリウム(5.00g)、N−メチルピロリ
ドン(40ml)を、反応容器に加えた。この反応装置
に、蒸留装置を取り付けた後、攪拌しながら、200℃
に加熱した。徐々に生成物が留出し、5時間で、4.0
gに達した。こうして得られた留出物を、再び蒸留し、
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−デカフルオ
ロヘキサン(3.72g)を得た(収率70%)。
【0014】
【発明の効果】一般式(II)で表されるフッ素化炭化
水素は、各種産業分野で様々な用途が期待されるのみな
らず、F−113を代替するフラックス洗浄剤として極
めて価値の高いものである。本発明に示された製造法に
よれば、従来、適当な製造法が無かった、一般式(II
)で表されるフッ素化炭化水素を、効率良く容易に製造
することができ、有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(I):       HCF2 (CF2 )n CH2 OX
                (I)(式中、nは3または
    4、Xはベンゼンスルフォニル基、メタンスルフォニル
    基、4−メチルベンゼンスルフォニル基のうちのいずれ
    かを示す。)で表されるフッ素化アルコール−スルホン
    酸エステル誘導体を、N−メチルピロリドン溶液中、ヨ
    ウ化アルカリ金属と反応させることによる   一般式(II):       HCF2 (CF2 )n CH3   
                  (II)(式中、nは3
    または4。)で表されるフッ素化炭化水素の製造法。
JP14674791A 1991-05-22 1991-05-22 フッ素化炭化水素の製造法 Pending JPH04346946A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5288422A (en) * 1993-03-15 1994-02-22 Alliedsignal Inc. Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane, chlorinated ethylenes, and optionally nitromethane
US5290473A (en) * 1993-03-15 1994-03-01 Alliedsignal Inc. Azeotrope-like compositons of 1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane, C1-C5 alkanol and optionally nitromethane
JPH11110925A (ja) * 1997-09-26 1999-04-23 Internatl Business Mach Corp <Ibm> ディスク・ドライブ装置のアーム・アセンブリ及びこれの製造方法
US6212046B1 (en) 1997-09-26 2001-04-03 International Business Machines Corporation Arm assembly for a disk drive device and a method for fabricating the same

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