JPH0435725B2

JPH0435725B2 -

Info

Publication number: JPH0435725B2
Application number: JP1227461A
Authority: JP
Inventors: Nobuhiro Watanabe; Kenichi Kokubu; Teruo Sakagami
Original assignee: Kureha Corp
Current assignee: Kureha Corp
Priority date: 1988-09-09
Filing date: 1989-09-04
Publication date: 1992-06-12
Also published as: JPH02167501A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、反射防止層を有する光学材料および
その製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズなどの
光学レンズ、その他のプラスチツク製光学材料に
おいては反射防止性を有することが要求され、特
に眼鏡用レンズなどにおいては、キズの発生を防
止するためのハードコート層の他に、ゴーストや
フレアと呼ばれる反射像の形成を防止するため、
単層または多層からなる反射防止層を形成するこ
とが行われている。

従来、反射防止層を形成する方法としては、真
空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテイ
ング法、CVD法などの蒸着法により、ガラスま
たはプラスチツクよりなる基体の表面に直接、あ
るいは基体の表面に有機物質よりなるハードコー
ト層やプライマーコート層を形成した上で、シリ
カその他の無機材料を被着させる方法が知られて
いる。

しかしながら、このような蒸着法によつて反射
防止層を形成する方法においては、概して生産性
が低くて高価となるという欠点に加え、基体の特
性が発現されなくなつたり、あるいは損なわれる
という問題点がある。例えば、基体がプラスチツ
ク基体である場合には、基体それ自体は染色可能
性を有するが蒸着法による反射防止層の形成によ
つて染色可能性が失われ、また蒸着のための苛酷
な条件によつて当該プラスチツク基体の耐衝撃性
が格段に低下するようになる。また、蒸着法にお
いては基体を例えば300℃以上に加熱することが
必要とされるが、プラスチツク基体はそのような
高温に加熱することはできない。しかし、低い加
熱温度で蒸着を行うと、形成される蒸着膜は基体
に対する密着性が不十分なものとなる。

また、基体の表面に有機物質よりなるハードコ
ート層やプライマーコート層を形成した場合に
は、それらの耐久性および耐熱性が低いため、更
にその上に蒸着法によつて反射防止層を形成する
と、クラツクや当該反射防止層の剥離が比較的早
い時期に発生するという問題点がある。

一方、以上のような蒸着法によらずに、有機物
質または無機物質よりなる材料を、デイツピング
法、スピンコート法、スプレイコート法などによ
つて基体の表面に塗布し、これによつて単層また
は多層の反射防止層を形成する方法も多く提案さ
れており、例えば特開昭59−49501号公報、特開
昭59−49502号公報、特開昭60−68319号公報、特
開昭60−213901号公報などにおいては、ケイ素含
有化合物による被膜またはシリカ微粉末を分散し
てなる被膜よりなる反射防止層を形成することが
記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の反射防止層は酸化ケイ素の低屈折性を利
用するものであるが、酸化ケイ素の屈折率は1.46
であつて十分に低いものではなく、このため、必
ずしも優れた反射防止効果を得ることができな
い、という問題点がある。

〔発明の目的〕

本発明は、屈折率が十分に低く、これによつて
優れた反射防止効果が発揮される反射防止層を有
する光学材料を提供することを目的とする。

本発明の他の目的は、上記のような反射防止層
を有する光学材料を有利に製造することのできる
方法を提供するにある。

〔発明の概要〕

本発明の反射防止層を有する光学材料は、屈折
率が1.48以上の透明なプラスチツク基体と、この
プラスチツク基体の表面を覆うよう形成した、平
均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マグネシウムよ
りなる無機微粉末がバインダー中に分散されてな
り、前記プラスチツク基体よりも0.02以上低い屈
折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防止層とを
有してなることを特徴とする。

本発明の製造方法は、屈折率が1.48以上の透明
なプラスチツク基体の表面に、平均粒子径が0.3
〜200nmのフツ化マグネシウムよりなる無機微粉
末とバインダーの材料とを含有する反射防止層形
成塗布液を塗布し、前記無機微粉末がバインダー
中に分散されてなり、前記プラスチツク基体より
も0.02以上低い屈折率を有する厚さ50〜5000nm
の反射防止層を形成することを特徴とする。

〔発明の具体的説明〕

以下、本発明について具体的に説明する。

本発明においては、反射防止層が形成される基
体として、その屈折率が1.48以上の透明なプラス
チツク基体が用いられる。このようなプラスチツ
ク基体であれば、その材質が限定されるものでは
なく、例えばポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、酢酸セルロース、そ
の他の樹脂よりなるものを用いることができ、更
に近年、高屈折率材料として提案されている各種
のアクリレート共重合体、メタクリレート共重合
体、芳香族ブロム化合物を含有するポリマー、ポ
リウレタンなどを使用することもできる。

本発明において用いられるプラスチツク基体は
その屈折率が1.48以上のものであることが必要で
あり、屈折率が1.48未満のプラスチツク基体を用
いると、実質的に反射防止効果が発現されない場
合がある。そして、屈折率が1.54以上のプラスチ
ツク基体を用いると、十分に優れた反射防止効果
を得ることができる。

このように、プラスチツク基体の屈折率は1.48
以上であることが必要であるが、本発明において
は、屈折率が比較的低くて例えば屈折率が1.53以
下のプラスチツク材料に反射防止層を形成する場
合に、当該プラスチツク材料の表面に、屈折率が
1.48以上、好ましくは1.53以上の透明な有機物質
よりなる表面層を形成し、これによつて表面部分
の屈折率を調節したものをプラスチツク基体とし
て用いることができる。この表面層は、その屈折
率がプラスチツク材料の屈折率と近似したもので
あることが好ましい。この表面層は、ハードコー
ト層としての性質を有するものとして形成するこ
とも可能である。

本発明において用いられるプラスチツク基体
は、最終的に使用目的に応じた形態とされ得るも
のであればよく、例えば各種のレンズなどの光学
材料としての形態を有するものであつてもよい
し、平板、その他の形態を有し、後に光学材料の
形態に加工されるものであつてもよい。このよう
なプラスチツク基体は、射出成型法や注型重合法
などによつて製造することができる。

本発明においては、プラスチツク基体の表面を
覆うよう反射防止層が形成される。この反射防止
層は、フツ化マグネシウム微粉末を主体とする無
機微粉末がバインダー中に分散されてなるもので
ある。この無機微粉末は、フツ化マグネシウム微
粉末のみよりなるものであつてもよいし、あるい
はフツ化マグネシウム微粉末を主体とし、他の無
機物質の微粉末を含有するものであつてもよい。

ここにフツ化マグネシウム微粉末としては、平
均粒子径が0.3〜200nmのものが用いられるが、
特に0.5〜100nmの微粉末が好ましい。平均粒子
径が0.3nm未満のフツ化マグネシウム微粉末は製
造が困難であるためにコストが高くなつて実用的
ではなく、一方、平均粒子径が200nmより大きい
ものを使用すると、形成される反射防止層の透明
性が低下する。

フツ化マグネシウム微粉末と共に用いられる無
機物質の微粉末としては、例えばシリカ（SiO₂、
屈折率1.46）、フツ化アルミニウム（AlF₃、屈折
率1.33〜1.39）、フツ化カルシウム（CaF₂、屈折
率1.44）、フツ化リチウム（LiF、屈折率1.36〜
1.37）、フツ化ナトリウム（NaF、屈折率1.32〜
1.34）およびフツ化トリウム（ThF₄、屈折率1.45
〜1.5）などを挙げることができる。これらの微
粉末は、平均粒子径が0.3〜200nmのものが好ま
しく、またその１種または２種以上を用いること
ができる。

以上の無機物質の微粉末が併用される場合にお
いては、無機微粉末全体の50重量％以上の割合の
部分が前記フツ化マグネシウム微粉末であること
が好ましい。

以上のフツ化マグネシウムを主体とする無機微
粉末が、後述するバインダー中に分散されて反射
防止層が形成される。この反射防止層の屈折率は
プラスチツク基体に対して0.02以上低いことが必
要であり、この屈折率の差が0.02以上でない場合
には優れた反射防止効果を得ることができない。
また、反射防止層におけるフツ化マグネシウムを
主体とする無機微粉末の割合は、耐擦傷性の点か
ら、反射防止層全体の３重量％以上、特に５重量
％以上であることが好ましい。

本発明において、反射防止層は次のようにして
形成される。すなわち、上述のフツ化マグネシウ
ムを主体とする無機微粉末をバインダーの材料お
よび必要な分散媒体と共に混合して反射防止層形
成用塗布液を調製し、これをプラスチツク基体の
表面に塗布し、更に加熱などの硬化処理により硬
化させて反射防止層を形成する。

上記バインダーとしては、膜形成性を有する樹
脂を用いることができる。そのような樹脂として
は、例えばアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、アリキド樹脂、塩化ビニル樹
脂、フツ素樹脂、シリコン樹脂などの熱可塑性樹
脂または熱可硬化樹脂が用いられる。熱可硬化樹
脂がバインダーとされる場合においては、その材
料として当該樹脂の前駆体が用いられ、これによ
つて反射防止層形成用塗布液が調製される。

以上の樹脂の他、本発明においては、加熱によ
り硬化する被膜を形成する金属アルコキシドをバ
インダーとして用いることができ、特に低い屈折
率の反射防止層が形成されることから、シランの
アルコキシドを用いることが好ましい。そしてシ
ランのアルコキシドとしては、アルコキシシラン
またはカーボンフアンクシヨナルポリオルガノシ
ロキサンが用いられる。

アルコシシランの具体例としては、例えばテト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ
ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシ
シラン、エチルトリブトキシシラン、プロピルト
リメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラ
ン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルト
リブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキ
シシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブドキ
シシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチ
ルプロピルジエトキシシランなどがある。

カーボンフアンクシヨナルポリオルガノシロキ
サンとしては、例えば３，４−エポキシシクロヘ
キシルアルキルトリアルコキシシラン、メタクリ
ロキシアルキルトリアルコキシシラン、ビニルト
リアルコキシシラン、γ−グリシドキシアルキル
トリアルコキシシラン、アミノアルキルトリアル
コキシシランなどがある。

以上のバインダーの材料は、反射防止層形成用
塗布液において、フツ化マグネシウムを主体とす
る無機微粉末が分散された分散媒中に分散もしく
は溶解される。特にバインダーがシランのアルコ
キシドであるときには、フツ化マグネシウムを主
体とする無機微粉末と有機溶剤よりなる分散媒中
で混合することにより、あるいは更にその一部を
オリゴマー状に加水分解して熟成させることによ
り、好適な反射防止層形成用塗布液を得ることが
できる。

反射防止層形成用塗布液の調製を容易にするた
めに、必要に応じて、フツ化マグネシウムを主体
とする無機系微粒子について、親水化処理または
疎水化処理を行うことができる。

反射防止層形成用塗布液は、上述の無機微粉末
とバインダーとが水または有機溶剤よりなる分散
媒中に、プラスチツク基体に対して容易に塗布す
ることができるよう、適当な濃度で均一に分散さ
れたものとされる。特に均一な塗布を達成するた
めには、分散媒として有機溶剤を用いることが好
ましい。

分散剤として用いられる有機溶剤としては、例
えばアルコール、ケトン、エステル、ハロゲン化
炭化水素、エーテルなどがあり、特にメチルアル
コール、エチルアルコール、ブチルアルコール、
ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコー
ルなどのアルコール類が好ましく用いられる。

反射防止層形成用塗布液には、更に塗膜の表面
の平滑性を向上させるためのフローコントロール
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを添加するこ
とも可能である。

このような反射防止層形成用塗布液は、プラス
チツク基体の表面に、通常のデイツピング法やス
ピンコート法を利用して塗布され、形成された塗
膜を硬化させることにより、反射防止膜が形成さ
れる。

反射防止層形成用塗布液の塗布に際しては、プ
ラスチツク基体の表面に前処理を施すことが好ま
しく、これにより、反射防止層のプラスチツク基
体に対する密着性を向上させることができる。

このような前処理としては、薬品処理または活
性化ガス処理などがなされる。薬品処理は、酸ま
たはアルカリによる処理が一般的である。また、
活性化ガス処理としては、コロナ放電処理、低温
プラズマ処理などがあり、その他、紫外線とオゾ
ンを利用した処理も有効である。これらの前処理
は、複数の処理を連続的にまたは段階的にあるい
は並行して実施することも可能である。

一般に透明な基体の表面に単層の反射防止層を
形成する場合において、当該基体の屈折率をn₀、
反射防止層の屈折率をn₁、その層厚をd₁、設計波
長をλとすると、n₁・d₁＝λ／４あるいはその奇
数倍であるときに、垂直に入射する光に対する位
相差が180度となつて干渉による反射光の強度は
最小となる。これを位相の条件という。ここで
（n₁・d₁）は光学膜厚といい、物質の屈折率と設
計波長λが定まれば、反射防止層の具体的な厚さ
が設計される。ここで設計波長λは、一般に可視
域の300〜800nmの波長の範囲から目的に応じて
選ばれる。

また、反射防止層の屈折率が基体の屈折率の平
方根に等しい場合すなわちn₁＝√₀の場合に反射
率が最小となる。これを振幅の条件という。

従つて、反射防止層の形成に用いる材料を適当
に選択して、反射防止層の屈折率と膜厚を制御す
ることにより、これら２つの条件をできるだけ満
足させることが好ましい。

反射防止層は、その厚さが小さいほど、位相の
条件を容易に実現することができるので反射防止
効果の発現のために望ましい。一方、反射防止層
は実際上光学材料の最外表面を形成するものとな
るのである程度の硬度を有することが実用上必須
であり、これを達成するためには、反射防止層は
厚さが大きいものであることが望ましい。このよ
うな観点から、本発明においては、反射防止層の
厚さは50〜5000nm、好ましくは100〜3000nmの
範囲内とされる。

なお、反射防止層の形成に用いる材料を適当に
選択することにより、反射防止層の諸性能、例え
ばプラスチツク基体に対する密着性、耐擦傷性な
どを良好なものとすることが可能である。

〔効果〕

本発明の反射防止層を有する光学材料は、プラ
スチツク基体を覆うよう形成された、バインダー
中にフツ化マグネシウム微粉末を主体とする無機
微粉末が分散された反射防止層を有し、しかもこ
のフツ化マグネシウムの屈折率が1.38ときわめて
低いために優れた反射防止効果が得られる。ま
た、フツ化マグネシウム微粉末が平均粒子径が
0.3〜200nmの非常に粒子径の小さいものである
ため、形成される反射防止層に十分な透明性が得
られる。更にこの反射防止層は、有機物質よりな
るバインダーによつて形成されているため染色可
能性を有す、優れた耐擦傷性および耐久性を得る
ことができ、プラスチツク基体に対して高い密着
性を得ることができる。

また、反射防止層を形成するためには、反射防
止層形成用塗布液をプラスチツク基体の表面に塗
布して硬化させればよいので、製造がきわめて容
易で生産の効率が高く、しかもプラスチツク基体
の有する特性が阻害されることがなく、耐衝撃性
が低下するようなこともない。

本発明の光学材料は、眼鏡用レンズを始め、サ
ングラス、フアシヨングラス、スキー用またはバ
イク用ゴーグル、安全メガネ、双眼鏡レンズ、カ
メラレンズ、その他の用途に好ましく使用するこ
とができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明するが、本
発明がこれらに限定されるものではない。

実施例１プラスチツク基体ジエチレングリコールビスアリルカーボネート
35重量部とジアリルフタレート65重量部とを、イ
ソプロペニルパーオキシジカーボネートを重合開
始剤として共重合させ、厚さ２mmの板状に成型さ
れたプラスチツク基体を製造した。このプラスチ
ツク基体の屈折率は1.54であつた。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径が約20nmのフツ化マグネシウム微
粉末60重量部と、エポキシ樹脂（旭電化工業社製
の「EP4100」と「ED503」と「EH261」とを重
量で46：31：23の割合で混合したもの）40重量部
とを、エチルアルコール中に混合し分散させて固
形分濃度5.5重量％の反射防止層形成用塗布液Ａ
を調製した。

反射防止層上記プラスチツク基体を濃度５％の水酸化ナト
リウム水溶液中に50℃で10分間浸漬させてその表
面に前処理を施し、このプラスチツク基体の表面
に、上記反射防止層形成用塗布液Ａをデイツピン
グ法により塗布し、その後60℃で30分間、80℃で
16時間加熱して硬化させ、平均厚さ300nm、屈折
率1.40の反射防止層を形成して光学材料を製造し
た。

評価以上のようにした得られた光学材料は、赤紫色
の反射光色を有し、その全光線透過率は96.4％で
あつた。そして、反射防止層を形成する前のプラ
スチツク基体の全光線透過率は91.8％であり、従
つて、反射防止層により優れた反射防止効果が得
られることが明らかである。

また、この光学材料を、赤、青、黄の３色混合
した分散染料液中に90℃で25分間浸漬して染色処
理を行つたところ、全光線透過率が60％に低下す
るまでに染色された。この染色後の光学材料にお
いて、反射防止層の剥離は認められず、反射防止
効果の低下も認められなかつた。

また、反射防止層に縦横に１mm間隔の切り込み
を入れて合計100個の反射防止層片を形成し、そ
の上に粘着テープを貼付した後剥離させてこのと
きに粘着テープと共に剥離される反射防止層片の
有無を調べることにより、反射防止層の密着性テ
ストを行つた。その結果、剥離された反射防止層
片の数は０であつた。

また、反射防止層の表面に500ｇの荷重でスチ
ールウールを対接させた状態で10回往復動させて
擦過し、これによつて反射防止層に生ずる傷の状
態をＡ，A′，Ｂ，B′，Ｃ，C′の６段階で評価す
る耐擦傷性テストを行つたところ、結果はＢであ
つた。ここに、評価がＡ，A′，Ｂ，またはB′で
あれば、実用上問題のない耐擦傷性を有するもの
と認められる。

更に、上記光学材料に「サンシヤインウエザ
ーメーター」よりの光を400時間照射する加速処
理を行い、その後に、クラツクの発生の有無を調
べ、また上記と同様の密着性テストおよび耐擦傷
性テストを行つた。その結果、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。

実施例２プラスチツク基体市販のジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート製眼鏡用レンズ（外径70mm、中心厚1.8mm、
度数−0.25ジオプトリー、屈折率1.49）をプラス
チツク材料として用意した。

一方、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン35重量部と、メチルアルコールシリカゾル
50重量部と、0.01Nの塩酸10重量部と、無水マレ
イン酸５重量部との混合物100重量部に、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルフオスフアイト）
チタネート「プレンアクト41B」（味の素(株)製）
20重量部を添加して表面層形成用塗布液Ａを調製
した。そして上記プラスチツク材料の表面に実施
例１と同様にして前処理を施した上、上記表面層
形成用塗布液Ａをデイツピング法により塗布し、
その後60℃で20分間、120℃で３時間加熱して硬
化させ、平均厚さ2500nm、屈折率1.57のハード
コート層としての性質を有する表面層を形成し、
プラスチツク基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例１において調製した反射防止層形成用塗布液
Ａを、実施例１におけると同様ではあるがデイツ
ピング速度を調整した条件で塗布し硬化処理し
て、平均厚さが100nm、屈折率1.40の反射防止層
を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8％であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.3％であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして
赤、青、黄の３色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が74％に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。

また、実施例１と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は０、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。

更に実施例１におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。

またこの反射防止層を有する光学材料に対して
落球法による耐衝撃性テストを行つた。すなわち
温度20℃において高さ1.27ｍの位置より重さ16.3
ｇの鋼球を光学材料上に自由落下させて光学材料
の破損の有無を調べた。その結果、光学材料に全
く破損は認められなかつた。

なお、上記表面層を有するプラスチツク基体に
通常のスパツタリング法によつてフツ化マグネシ
ウムを被着させて反射防止層を形成して比較用の
光学材料を製造した。しかし、この光学材料は、
落球法による耐衝撃性テストにおいて、完全に破
砕した。

以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。

実施例３プラスチツク基体実施例１で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク基体を用意した。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径約20nmのフツ化マグネシウム微粉
末を５重量％含有するエチルアルコール100重量
部と、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン３重量部と、メチルトリメトキシシラン15重
量部と、0.01Nの塩酸10重量部と、無水マレイン
酸0.5重量部との混合物に、ｎ−プロピルアルコ
ール50重量部と、エチルセロソルブ3.7重量部と
を添加し、攪拌して反射防止層形成用塗布液Ｂを
調製した。

反射防止層上記プラスチツク基体の表面に実施例１と同様
にして前処理を施した上、上記反射防止層形成用
塗布液Ｂをデイツピング法により塗布し、その後
60℃で１時間、120℃で３時間加熱して硬化させ、
平均厚さ250nm、屈折率1.41の反射防止層を形成
して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.4％であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は91.8
％であり、従って、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして
赤、青、黄の３色混合した分散染色液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が42％に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。

また、実施例１と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は０、耐擦
傷性テストの評価はＢであつた。

実施例４プラスチツク基体市販のジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート製眼鏡用レンズ（外径70mm、中心厚2.0mm、
度数−0.25ジオプトリー、屈折率1.49）をプラス
チツク材料として用意した。

一方、市販のシリコン系ハードコート剤「スミ
マールＧ−35」（住友化学(株)製）100c.c.に、平均粒
子径60nmのコロイド状五酸化アンチモンゾル
「ATM−130S」（日産化学社製）15ｇと、イソプ
ロピルアルコール10ｇと、エチルセロソルブ５ｇ
とを添加して、表面層形成用塗布液Ｂを調製し
た。

上記プラスチツク材料の表面に実施例１と同様
にして前処理を施した上、上記表面層形成用塗布
液Ｂをデイツピング法により塗布し、加熱硬化さ
せて平均厚さ3600nm、屈折率1.57のハードコー
ト層としての性質を有する表面層を形成してプラ
スチツク基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例３において調製した反射防止層形成用塗布液
Ｂを用い、実施例３におけると同様に塗布および
硬化処理して、平均厚さが270nm、屈折率1.41の
反射防止層を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.4％であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.3％であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして
赤、青、黄の３色混合した分散染色液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が48％に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。

またこの反射防止層を有する光学材料に対し
て、実施例２と同様にして落球法による耐衝撃性
テストを行つたところ、光学材料に全く破損は認
められなかつた。

なお、上記表面層を有するプラスチツク基体に
通常のスパツタリング法によつてフツ化マグネシ
ウムを被着させて反射防止層を形成して比較用の
光学材料を製造した。しかし、この光学材料は、
落球法による耐衝撃性テストにおいて、完全に破
損した。

実施例５プラスチツク基体実施例１で用たものと同じ屈折率1.54のプラス
チツク材料を用意し、その表面に実施例１と同様
にして前処理を施し、これに実施例２で調製した
ものと同じ表面層形成用塗布液Ａをデイツピング
法により塗布し、更に加熱して硬化させ、平均厚
さ2500nm、屈折率1.57のハードコート層として
の性質を有する表面層を形成し、プラスチツク基
体を得た。

反射防止層形成用塗布液平均粒子径が約40nmのフツ化マグネシウム微
粉末を用たほかは実施例３と同様にして反射防止
層形成用塗布液Ｃを調製した。

反射防止層上記プラスチツク基体の表面に、プラズマリア
クター装置「PR−501A」（ヤマト科学社製）を
用いて酸素ガス流量150ml／分、出力500Wで１分
間プラズマによる前処理を施した上、上記反射防
止層形成用塗布液Ｃを回転数3000rpmで１分間ス
ピンコート法により塗布し、その後60℃で１時
間、120℃で３時間加熱して硬化させ、平均厚さ
98nm、屈折率1.41の反射防止層を形成して光学
材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8％であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は90.3
％であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。

実施例６プラスチツク基体実施例１で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク材料を用意した。

一方、多官能性アクリル樹脂であるジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート15重量部と、芳
香族アクリル樹脂である２−ヒドロキシ−３−フ
エノキシプロピルアクリレート15重量部と、エチ
ルアルコール70重量部とに、光重合開始剤「イル
ガキュア184」0.6重量部を添加して表面層形成用
塗布液Ｃを調製した。そして上記プラスチツク材
料の表面に実施例１と同様にして前処理を施した
上、上記表面層形成用塗布液Ｃをデイツピング法
により塗布し、その後60℃で10分間予備乾燥さ
せ、その後、出力500Wの高圧水銀ランプを具え
てなる紫外線照射装置よりの光を下方に15cm離間
した位置において10秒間照射して硬化させ、平均
厚さ3000nm、屈折率1.56のハードコート層とし
ての性質を有する表面層を形成し、プラスチツク
基体を得た。

反射防止層上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例５において調製した反射防止層形成用塗布液
Ｃを用い、実施例５におけると同様に塗布および
硬化処理して、平均厚さが98nm、屈折率1.41の
反射防止層を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8％であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.7％であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。

実施例７プラスチツク基体実施例１で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク基体を用意した。

反射防止層形成用塗布液実施例３における反射防止層形成用塗布液Ｂに
おいて、ｎ−プロピルアルコール50重量部の代わ
りにジアセトンアルコール７重量部を用いたほか
は同様にして、反射防止層形成用塗布液Ｄを調製
した。

反射防止層上記プラスチツク基体の表面に、プラズマリア
クター装置「PR−501A」（ヤマト科学社製）を
用いて酸素ガス流量150ml／分、出力500Wで１分
間プラズマによる前処理を施した上、上記反射防
止層形成用塗布液Ｄをデイツピング法により塗布
し、その後60℃で30分間、120℃で３時間加熱し
て硬化させ、平均厚さ500nm、屈折率1.41の反射
防止層を形成して光学材料を製造した。

評価以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.0％であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は91.5
％であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして
赤、青、黄の３色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が47％に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。

更に実施例１におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐衝撃性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。

実施例８プラスチツク基体１−アクリロキシ−２，４，６，−トリブロモ
ベンゼン25重量部と、２，２−ビス（４−メタク
リロキシエトキシ−３，５−ジブロモフエニル）
プロパン50重量部と、スチレン15重量部とを共重
合させ、厚さ２mmの板状に成型されたプラスチツ
ク基体を製造した。このプラスチツク基体の屈折
率は1.60であつた。

反射防止層形成用塗布液実施例３における反射防止層形成用塗布液Ｂに
おいて、フツ化マグネシウム微粉末の含有割合を
15重量％に変更すると共に、ｎ−プロピルアルコ
ールとエチルセロソルブの添加量を調整して全体
の固型分濃度を25重量％としたほかは実施例３と
同様にして、反射防止層形成用塗布液Ｅを調製し
た。

反射防止層上記プラスチツク基体を濃度20％の水酸化ナト
リウム水溶液中に80℃で30分間浸漬させて表面に
前処理を施し、このプラスチツク基体の表面に上
記反射防止層形成用塗布液Ｅをデイツピング法に
より塗布し、その後60℃で30分間120℃で３時間
加熱して硬化させ、平均厚さ2800nm、屈折率
1.40の反射防止層を形成して光学材料を製造し
た。

評価以上のようにした得られた光学材料の全光線透
過率は96.0％であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は88.6
％であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。

また、この光学材料を、実施例１と同様にして
赤、青、黄の３色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が72％に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。

Claims

【特許請求の範囲】１屈折率が1.48以上の透明なプラスチツク基体
と、このプラスチツク基体の表面を覆うよう形成
した、平均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マグネ
シウムよりなる無機微粉末がバインダー中に分散
されてなり、前記プラスチツク基体よりも0.02以
上低い屈折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防
止層とを有してなることを特徴とする反射防止層
を有する光学材料。２プラスチツク基体は、その表面に、屈折率が
1.48以上の表面層を有する請求項１に記載の反射
防止層を有する光学材料。３屈折率が1.48以上の透明なプラスチツク基体
の表面に、平均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マ
グネシウムよりなる無機微粉末とバインダーの材
料とを含有する反射防止層形成用塗布液を塗布
し、前記無機微粉末がバインダー中に分散されて
なり、前記プラスチツク基体よりも0.02以上低い
屈折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防止層を
形成することを特徴とする反射防止層を有する光
学材料の製造方法。