JPH04360883A - オキセタン誘導体の製造法 - Google Patents
オキセタン誘導体の製造法Info
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた農業用殺菌活性
及び抗真菌活性を有する一般式(I)
及び抗真菌活性を有する一般式(I)
【0003】
【化6】
【0004】[式中、X1 、X2 及びX3 は同一
又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基又はハ
ロゲノ低級アルコキシ基を示し、R1 及びR2 は同
一又は異なって、低級アルキル基を示し、AはN又はC
Hを示す。]で表わされる化合物を立体選択的に製造す
る方法に関する。
又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基又はハ
ロゲノ低級アルコキシ基を示し、R1 及びR2 は同
一又は異なって、低級アルキル基を示し、AはN又はC
Hを示す。]で表わされる化合物を立体選択的に製造す
る方法に関する。
【0005】すなわち、一般式(I)で表わされる化合
物は不斉炭素が3個存在し、4個のジアステレオアイソ
マーが存在する。これらのジアステレオアイソマーは、
それぞれ農業用殺菌活性及び抗真菌活性が異なっており
、そのうちより高活性な立体配位を有する一般式(I)
で表わされる異性体を立体選択的に製造する方法を提供
する。
物は不斉炭素が3個存在し、4個のジアステレオアイソ
マーが存在する。これらのジアステレオアイソマーは、
それぞれ農業用殺菌活性及び抗真菌活性が異なっており
、そのうちより高活性な立体配位を有する一般式(I)
で表わされる異性体を立体選択的に製造する方法を提供
する。
【0006】
【従来の技術】農業用殺菌活性及び抗真菌活性を有する
トリアゾール系化合物は多種知られているが、オキセタ
ン骨格を有する化合物としては、ヨーロッパ公開特許公
報(EP−318214A)に記載されている(A)が
製造されているのみである。
トリアゾール系化合物は多種知られているが、オキセタ
ン骨格を有する化合物としては、ヨーロッパ公開特許公
報(EP−318214A)に記載されている(A)が
製造されているのみである。
【0007】
【化7】
【0008】しかし、化合物(A)の製造方法は、
【0
009】
009】
【化8】
【0010】であり、オキセタン環4位の立体配位を規
制することができず4位がα配位の異性体と4位がβ配
位の異性体の両方が生成する。このため、化合物(c)
の両異性体をクロマトグラフィーで分離し、得られた各
異性体を用いて環化反応を行ない、化合物(A)の4位
がα配位の異性体と4位がβ配位の異性体を得ている。
制することができず4位がα配位の異性体と4位がβ配
位の異性体の両方が生成する。このため、化合物(c)
の両異性体をクロマトグラフィーで分離し、得られた各
異性体を用いて環化反応を行ない、化合物(A)の4位
がα配位の異性体と4位がβ配位の異性体を得ている。
【0011】又、オキセタン環の製造法としては、佐藤
及び田村、テトラヘドロン・レターズ、第25巻 第
1821頁乃至第1824頁(1984年):T.Sa
to,K.Tamura.,Tetrahedron
Letters, vol 25,1821〜1824
(1984)に、
及び田村、テトラヘドロン・レターズ、第25巻 第
1821頁乃至第1824頁(1984年):T.Sa
to,K.Tamura.,Tetrahedron
Letters, vol 25,1821〜1824
(1984)に、
【0012】
【化9】
【0013】で表わされる光反応により、化合物(d)
と化合物(e)から化合物(f)を得たとの報告がある
。しかし、その収率、物性及び最適波長についての記載
はない。更に、化合物(f)のオキセタン環4位の立体
についての考察は全くなされていず、しかも化合物(f
)においてはオキセタン環3位についての立体異性体は
存在しない。
と化合物(e)から化合物(f)を得たとの報告がある
。しかし、その収率、物性及び最適波長についての記載
はない。更に、化合物(f)のオキセタン環4位の立体
についての考察は全くなされていず、しかも化合物(f
)においてはオキセタン環3位についての立体異性体は
存在しない。
【0014】一方、フェニルグリオキシル酸エステル類
(g)とオレフィン(h)との光反応でオキセタン環(
i)を得たとの報告が、T.Oppenlaender
and P.schoenholzer [Helv
etica Chimica Acta,Vol.72
,1792,(1989) ]によってなされている。 しかし、オキセタン環2位の不斉については記載がある
ものの、オキセタン環の3位又は4位は不斉炭素ではな
く、当然のことではあるがそれらの位置の立体について
は何ら記載がない。
(g)とオレフィン(h)との光反応でオキセタン環(
i)を得たとの報告が、T.Oppenlaender
and P.schoenholzer [Helv
etica Chimica Acta,Vol.72
,1792,(1989) ]によってなされている。 しかし、オキセタン環2位の不斉については記載がある
ものの、オキセタン環の3位又は4位は不斉炭素ではな
く、当然のことではあるがそれらの位置の立体について
は何ら記載がない。
【0015】
【化10】
【0016】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、トリア
ゾール骨格を有する誘導体の合成とその生理活性につい
て永年に亘り鋭意研究を行なった結果、従来のトリアゾ
ール系化合物とは構造を異にする、オキセタン骨格を有
する新規なトリアゾール系化合物が、優れた農業用殺菌
活性及び抗真菌活性を有することを見い出し、更にそれ
ら化合物の異性体のうちでもより高活性な異性体を立体
選択的に製造する方法を見い出し、本発明を完成した。
ゾール骨格を有する誘導体の合成とその生理活性につい
て永年に亘り鋭意研究を行なった結果、従来のトリアゾ
ール系化合物とは構造を異にする、オキセタン骨格を有
する新規なトリアゾール系化合物が、優れた農業用殺菌
活性及び抗真菌活性を有することを見い出し、更にそれ
ら化合物の異性体のうちでもより高活性な異性体を立体
選択的に製造する方法を見い出し、本発明を完成した。
【0017】
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規なオキセ
タン誘導体又はそれらの塩の製造法及びそれらの分離法
よりなる。
タン誘導体又はそれらの塩の製造法及びそれらの分離法
よりなる。
【0019】本発明は、一般式(V)
【0020】
【化11】
【0021】[式中、X1 、X2 、X3 及びRは
前記と同意義を示し、AはN又はCHを示す。]で表さ
れる化合物と、一般式(VI)
前記と同意義を示し、AはN又はCHを示す。]で表さ
れる化合物と、一般式(VI)
【0022】
【化12】R1 −CH=CH−R2
(VI)[式中、R1 及びR2 はは前記と同意義
を示す。]で表される化合物とを光照射のもとに反応し
、一般式(IV)
(VI)[式中、R1 及びR2 はは前記と同意義
を示す。]で表される化合物とを光照射のもとに反応し
、一般式(IV)
【0023】
【化13】
【0024】[式中、X1 、X2 、X3 、R1
、R2 及びRは前記と同意義を示す。]で表される化
合物を立体選択的に製造する方法及び、一般式(II)
、R2 及びRは前記と同意義を示す。]で表される化
合物を立体選択的に製造する方法及び、一般式(II)
【0025】
【化14】
【0026】[式中、X1 、X2 、X3 、R1
及びR2 は前記と同意義を示し、Yは求核性脱離基を
示す。]で表わされる化合物と、トリアゾール又はイミ
ダゾールとを反応し、一般式(I)
及びR2 は前記と同意義を示し、Yは求核性脱離基を
示す。]で表わされる化合物と、トリアゾール又はイミ
ダゾールとを反応し、一般式(I)
【0027】
【化15】
【0028】[式中、X1 、X2 、X3 、R1
及びR2 は前記と同意義を示し、AはN又はCHを示
す。]で表わされる化合物を立体選択的に製造する方法
に関する。
及びR2 は前記と同意義を示し、AはN又はCHを示
す。]で表わされる化合物を立体選択的に製造する方法
に関する。
【0029】本発明は、以下の式で表される。
【0030】
【化16】
【0031】更に、一般式(I)の化合物を塩に誘導す
ることによって、一般式(I)の化合物を反応混合物か
ら単離する方法に関する。
ることによって、一般式(I)の化合物を反応混合物か
ら単離する方法に関する。
【0032】X1 、X2 及びX3 の定義における
「ハロゲン原子」とは、弗素原子、塩素原子、臭素原子
又は沃素原子を示し、好適には、弗素原子又は塩素原子
である。
「ハロゲン原子」とは、弗素原子、塩素原子、臭素原子
又は沃素原子を示し、好適には、弗素原子又は塩素原子
である。
【0033】上記において、X1 、X2 、X3 、
R1 、R2 及びRの定義における「低級アルキル基
」とは、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−
ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチ
ル、ネオペンチル、n−ヘキシル、4−メチルペンチル
、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3,3
−ジメチルブチル、2,2 −ジメチルブチル、1,1
−ジメチルブチル、1,2 −ジメチルブチル、1,
3 −ジメチルブチル、2,3 −ジメチルブチルのよ
うな炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
り、好適には炭素数1乃至4個のアルキル基であり、更
に好適にはメチル基又はエチル基である。
R1 、R2 及びRの定義における「低級アルキル基
」とは、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−
ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチ
ル、ネオペンチル、n−ヘキシル、4−メチルペンチル
、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3,3
−ジメチルブチル、2,2 −ジメチルブチル、1,1
−ジメチルブチル、1,2 −ジメチルブチル、1,
3 −ジメチルブチル、2,3 −ジメチルブチルのよ
うな炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
り、好適には炭素数1乃至4個のアルキル基であり、更
に好適にはメチル基又はエチル基である。
【0034】上記において、X1 、X2 、X3 、
R1 、R2 及びRの定義における「低級アルコキシ
基」とは、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合し
た基である。
R1 、R2 及びRの定義における「低級アルコキシ
基」とは、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合し
た基である。
【0035】上記において、X1 、X2 及びX3
の定義における「低級ハロゲノアルキル基」とは、例え
ば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオ
ロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロ
メチル、2,2,2 −トリクロロエチル、2,2,2
−トリフルオロエチル、2−ブロモエチル、2−クロ
ロエチル、2−フルオロエチル、2,2 −ジブロモエ
チルのような、前記「低級アルキル基」に1乃至3個ハ
ロゲン原子が置換した基であり、好適には、例えばトリ
フルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル
、2−ブロモエチル、2−クロロエチル又は2−フルオ
ロエチルのような炭素数1乃至2個の低級アルキル基に
フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が1乃至3個置換し
た基であり、更に好適には、トリフルオロメチル、トリ
クロロメチル、ジフルオロメチル、2−ブロモエチル、
2−クロロエチル又は2−フルオロエチルである。
の定義における「低級ハロゲノアルキル基」とは、例え
ば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオ
ロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロ
メチル、2,2,2 −トリクロロエチル、2,2,2
−トリフルオロエチル、2−ブロモエチル、2−クロ
ロエチル、2−フルオロエチル、2,2 −ジブロモエ
チルのような、前記「低級アルキル基」に1乃至3個ハ
ロゲン原子が置換した基であり、好適には、例えばトリ
フルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル
、2−ブロモエチル、2−クロロエチル又は2−フルオ
ロエチルのような炭素数1乃至2個の低級アルキル基に
フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が1乃至3個置換し
た基であり、更に好適には、トリフルオロメチル、トリ
クロロメチル、ジフルオロメチル、2−ブロモエチル、
2−クロロエチル又は2−フルオロエチルである。
【0036】上記において、X1 、X2 及びX3
の定義における「低級ハロゲノアルコキシ基」とは、前
記「低級ハロゲノアルキル基」が酸素原子に結合した基
である。
の定義における「低級ハロゲノアルコキシ基」とは、前
記「低級ハロゲノアルキル基」が酸素原子に結合した基
である。
【0037】上記において、Rの定義における「アラル
キル基」とは、「アリール基」が前記「低級アルキル基
」に結合した基をいい、例えば、ベンジル、α− ナフ
チルメチル、β− ナフチルメチル、ジフェニルメチル
、トリフェニルメチル、α− ナフチルジフェニルメチ
ルのような1乃至3個のアリ−ル基で置換された低級ア
ルキル基、4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチ
ルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メ
トキシベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−ク
ロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジ
ル、4−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−
ニトロフェニル) メチル、ピペロニルのような低級
アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ
基でアリ−ル環が置換された1乃至3個のアリ−ル基で
置換された低級アルキル基のような基であり、好適には
、例えば、ベンジル基又はジフェニルメチル基のような
、炭素数6ないし12個のアリール基が1又は乃至2個
炭素数1又は2個の低級アルキル基に結合した基であり
、更に好適にはベンジル基又はジフェニルメチル基であ
る。
キル基」とは、「アリール基」が前記「低級アルキル基
」に結合した基をいい、例えば、ベンジル、α− ナフ
チルメチル、β− ナフチルメチル、ジフェニルメチル
、トリフェニルメチル、α− ナフチルジフェニルメチ
ルのような1乃至3個のアリ−ル基で置換された低級ア
ルキル基、4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチ
ルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メ
トキシベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−ク
ロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジ
ル、4−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−
ニトロフェニル) メチル、ピペロニルのような低級
アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ
基でアリ−ル環が置換された1乃至3個のアリ−ル基で
置換された低級アルキル基のような基であり、好適には
、例えば、ベンジル基又はジフェニルメチル基のような
、炭素数6ないし12個のアリール基が1又は乃至2個
炭素数1又は2個の低級アルキル基に結合した基であり
、更に好適にはベンジル基又はジフェニルメチル基であ
る。
【0038】上記において、Rの定義における「二環式
テルペン炭化水素残基」とは、例えば、3−ピナニル、
カンフェニル、ノカラジエニル、ノカラニル、ボルネニ
ル、ノルボラニル基などである。
テルペン炭化水素残基」とは、例えば、3−ピナニル、
カンフェニル、ノカラジエニル、ノカラニル、ボルネニ
ル、ノルボラニル基などである。
【0039】Rの定義における「保護基」とは、反応に
おける水酸基の保護基であり、例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタ
ノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタ
ノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、
パルミトイル、ステアロイルのようなアルカノイル基、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルカノ
イル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアル
カノイル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルのよ
うな不飽和アルカノイル基等の脂肪族アシル基;ベンゾ
イル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリー
ルカルボニル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベ
ンゾイルのようなハロゲン化アリールカルボニル基、2
,4,6 −トリメチルベンゾイル、4−トリオイルの
ような低級アルキル化アリールカルボニル基、4−アニ
ソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基
、4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのよう
なニトロ化アリールカルボニル基、2−(メトキシカル
ボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル
化アリールカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのよ
うなアリール化アリールカルボニル基等の芳香族アシル
基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチル
ジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソロピルシリル、フェニルジイソロピ
ルシリルのような1乃至2個のアリール基で置換された
トリ低級アルキルシリル基等のシリル基;メトキシメチ
ル、1,1 −ジメチル−1−メトキシメチル、エトキ
シメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、
ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低級アル
コキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルのような
低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2
−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエト
キシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメチル
等のアルコキシメチル基;1−エトキシエチル、1−(
イソプロキシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル
基、2,2,2 −トリクロロエチルのようなハロゲン
化エチル基、2−(フェニルゼレネニル)エチルのよう
なアリールゼレネニル化エチル基等の置換エチル基;ベ
ンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジ
フェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジ
フェニルメチル、9−アンスリルメトルのような1乃至
3個のアリール基で置換された低級アルキル基、4−メ
チルベンジル、2,4,6 −トリメチルベンジル、3
,4,5 −トリメチルベンジル、4−メトキシベンジ
ル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、2−ニト
ロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル
、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、4−シア
ノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−ニトロフェニ
ル)メチル、ピペロニルのような低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が
置換された1乃至3個のアリール基で置換された低級ア
ルキル基等のアラルキル基;メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブトキ
シカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、2
,2,2 −トリクロロエトキシカルボニル、2−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又は
トリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビニルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニルのようなアルケ
ニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル、
4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4 −ジ
メトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニトロ
基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキ
シカルボニル基のような反応における保護基であり、好
適には、脂肪族アシル基、トリ低級アルキルシリル基又
はアルコキシメチル基である。
おける水酸基の保護基であり、例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタ
ノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタ
ノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、
パルミトイル、ステアロイルのようなアルカノイル基、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルカノ
イル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアル
カノイル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルのよ
うな不飽和アルカノイル基等の脂肪族アシル基;ベンゾ
イル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリー
ルカルボニル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベ
ンゾイルのようなハロゲン化アリールカルボニル基、2
,4,6 −トリメチルベンゾイル、4−トリオイルの
ような低級アルキル化アリールカルボニル基、4−アニ
ソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基
、4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのよう
なニトロ化アリールカルボニル基、2−(メトキシカル
ボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル
化アリールカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのよ
うなアリール化アリールカルボニル基等の芳香族アシル
基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチル
ジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソロピルシリル、フェニルジイソロピ
ルシリルのような1乃至2個のアリール基で置換された
トリ低級アルキルシリル基等のシリル基;メトキシメチ
ル、1,1 −ジメチル−1−メトキシメチル、エトキ
シメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、
ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低級アル
コキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルのような
低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2
−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエト
キシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメチル
等のアルコキシメチル基;1−エトキシエチル、1−(
イソプロキシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル
基、2,2,2 −トリクロロエチルのようなハロゲン
化エチル基、2−(フェニルゼレネニル)エチルのよう
なアリールゼレネニル化エチル基等の置換エチル基;ベ
ンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジ
フェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジ
フェニルメチル、9−アンスリルメトルのような1乃至
3個のアリール基で置換された低級アルキル基、4−メ
チルベンジル、2,4,6 −トリメチルベンジル、3
,4,5 −トリメチルベンジル、4−メトキシベンジ
ル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、2−ニト
ロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル
、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、4−シア
ノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−ニトロフェニ
ル)メチル、ピペロニルのような低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が
置換された1乃至3個のアリール基で置換された低級ア
ルキル基等のアラルキル基;メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブトキ
シカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、2
,2,2 −トリクロロエトキシカルボニル、2−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又は
トリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビニルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニルのようなアルケ
ニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル、
4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4 −ジ
メトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニトロ
基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキ
シカルボニル基のような反応における保護基であり、好
適には、脂肪族アシル基、トリ低級アルキルシリル基又
はアルコキシメチル基である。
【0040】Rの定義における「シクロアルキル基」と
は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル基のような炭素数3乃至6個の
シクロアルキル基であり、好適にはシクロヘキシル基で
ある。
は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル基のような炭素数3乃至6個の
シクロアルキル基であり、好適にはシクロヘキシル基で
ある。
【0041】Yの定義における「求核性脱離基」とは、
例えば、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような
低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタン
スルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオ
キシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基
;ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニル
オキシのようなアリ−ルスルホニルオキシ基等の脱離基
を示し、好適にはハロゲン原子又は低級アルカンスルホ
ニルオキシ基であり、更に好適には塩素原子又はメタン
スルホニルオキシ基である。
例えば、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような
低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタン
スルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオ
キシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基
;ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニル
オキシのようなアリ−ルスルホニルオキシ基等の脱離基
を示し、好適にはハロゲン原子又は低級アルカンスルホ
ニルオキシ基であり、更に好適には塩素原子又はメタン
スルホニルオキシ基である。
【0042】本発明の一般式(I)乃至(V)で表わさ
れる化合物として、好適には、一般式(I)、(II)
、(III)及び(IV)においてR1及びR2 がと
もにメチル基であり、X1 がベンゼン環の4位の塩素
原子又は弗素原子でありX2 及びX3 が水素原子で
ある化合物を挙げることができ、一般式(V)において
X1 がベンゼン環の4位の塩素原子又は弗素原子であ
りX2 及びX3 が水素原子である化合物を挙げるこ
とができる。
れる化合物として、好適には、一般式(I)、(II)
、(III)及び(IV)においてR1及びR2 がと
もにメチル基であり、X1 がベンゼン環の4位の塩素
原子又は弗素原子でありX2 及びX3 が水素原子で
ある化合物を挙げることができ、一般式(V)において
X1 がベンゼン環の4位の塩素原子又は弗素原子であ
りX2 及びX3 が水素原子である化合物を挙げるこ
とができる。
【0043】本方法の第一工程は、カルボニル化合物(
V)とオレフィン化合物(VI)とを光反応に付し、オ
キセタン化合物(IV)を立体選択的に製造する工程で
ある。
V)とオレフィン化合物(VI)とを光反応に付し、オ
キセタン化合物(IV)を立体選択的に製造する工程で
ある。
【0044】Rとしては、好適には、例えば、イソプロ
ピル基、s−ブチル基、s−ヘキシル基のような1位で
分枝しているアルキル基、ベンズヒドリル基のような前
記「アリール基」が2又は3個置換したメチル基、又は
(−)−メンチル基、(+)−メンチル基、8−フェニ
ルメンチル基、(−)−2−フェニルシクロヘキシル基
、(+)−2−フェニルシクロヘキシル基、2−ヒドロ
キシシクロヘキシル基、2−アセトキシシクロヘキシル
基、2−メトキシエトキシシクロヘキシル基、2−(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)シクロヘキシル基、2
−ベンジルシクロヘキシル基のような前記「シクロヘキ
シル基」の2位にアルキル基、フェニル基、アラルキル
基、水酸基若しくは水酸基の保護基で保護された水酸基
を置換基として持つシクロヘキシル基であり、更に好適
には、2位にアルキル基、フェニル基、アラルキル基、
水酸基又は水酸基の保護基で保護された水酸基を置換基
として持つシクロヘキシル基である。
ピル基、s−ブチル基、s−ヘキシル基のような1位で
分枝しているアルキル基、ベンズヒドリル基のような前
記「アリール基」が2又は3個置換したメチル基、又は
(−)−メンチル基、(+)−メンチル基、8−フェニ
ルメンチル基、(−)−2−フェニルシクロヘキシル基
、(+)−2−フェニルシクロヘキシル基、2−ヒドロ
キシシクロヘキシル基、2−アセトキシシクロヘキシル
基、2−メトキシエトキシシクロヘキシル基、2−(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)シクロヘキシル基、2
−ベンジルシクロヘキシル基のような前記「シクロヘキ
シル基」の2位にアルキル基、フェニル基、アラルキル
基、水酸基若しくは水酸基の保護基で保護された水酸基
を置換基として持つシクロヘキシル基であり、更に好適
には、2位にアルキル基、フェニル基、アラルキル基、
水酸基又は水酸基の保護基で保護された水酸基を置換基
として持つシクロヘキシル基である。
【0045】照射する最適光の波長は、原料であるカル
ボニル化合物とオレフィン化合物によって異なるが、お
おむね280−600nmの光が含まれるものならば光
源に限定はないが、好適には300〜400nmであり
、更に好適には350nm前後である。280nm以下
の波長が含まれる場合はフィルター等を用いて除くのが
好ましい。
ボニル化合物とオレフィン化合物によって異なるが、お
おむね280−600nmの光が含まれるものならば光
源に限定はないが、好適には300〜400nmであり
、更に好適には350nm前後である。280nm以下
の波長が含まれる場合はフィルター等を用いて除くのが
好ましい。
【0046】本工程は、溶媒の存在下に行なわれ、使用
される溶媒としては反応を阻害しないものであれば特に
限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノ
ール、i−プロパノール等のアルコール類、エーテル、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、ヘキサン、ペンタ
ン、シクロヘキサン等の低級脂肪族炭化水素類又はこれ
らの混合溶媒が用いられ、好ましくは285nm以下の
光が透過するのを防ぐため、溶媒でありながらフィルタ
ーの役目を果たす、芳香族炭化水素類(特にベンゼン、
トルエン、クロルベンゼン)又はそれらの混合溶媒が用
いられる。
される溶媒としては反応を阻害しないものであれば特に
限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル
、ベンゾニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノ
ール、i−プロパノール等のアルコール類、エーテル、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、ヘキサン、ペンタ
ン、シクロヘキサン等の低級脂肪族炭化水素類又はこれ
らの混合溶媒が用いられ、好ましくは285nm以下の
光が透過するのを防ぐため、溶媒でありながらフィルタ
ーの役目を果たす、芳香族炭化水素類(特にベンゼン、
トルエン、クロルベンゼン)又はそれらの混合溶媒が用
いられる。
【0047】なお、285nm以下の光が透過するのを
防ぐフィルターとしては特に限定はないが、例えば、パ
イレックス製ガラス、特定波長をカットするガラスフィ
ルター、樹脂フィルター及び蛍光染料等を挙げることが
できる。また、これらのフィルターを用いる場合には、
溶媒は、原料を溶解するものであれば、必ずしも前記の
様にベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等を使用する
必要はない。
防ぐフィルターとしては特に限定はないが、例えば、パ
イレックス製ガラス、特定波長をカットするガラスフィ
ルター、樹脂フィルター及び蛍光染料等を挙げることが
できる。また、これらのフィルターを用いる場合には、
溶媒は、原料を溶解するものであれば、必ずしも前記の
様にベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等を使用する
必要はない。
【0048】反応温度は特に限定はなく、好適には−2
0℃乃至80℃で行なわれ、更に好適には、10℃乃至
40℃で行なわれる。
0℃乃至80℃で行なわれ、更に好適には、10℃乃至
40℃で行なわれる。
【0049】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
照射される光及び使用される溶媒の種類によって異なる
が、通常1時間乃至4日間であり、好適には2時間乃至
2日間である。
照射される光及び使用される溶媒の種類によって異なる
が、通常1時間乃至4日間であり、好適には2時間乃至
2日間である。
【0050】第二工程はエステル化合物(IV)を還元
し、アルコール化合物(III)を製造する工程である
。
し、アルコール化合物(III)を製造する工程である
。
【0051】この工程は、一般的なエステル還元法、例
えば新実験化学講座(日本化学会編)第15巻酸化と還
元[II]に記載の方法を用いて、行なうことができる
。還元剤としては、好適には、例えばリチウムアルミニ
ウムハイドライド、ソジウムボロハイドライド−リチウ
ムクロライド、リチウムボロハイドライドのような水素
化ホウ素化合物である。
えば新実験化学講座(日本化学会編)第15巻酸化と還
元[II]に記載の方法を用いて、行なうことができる
。還元剤としては、好適には、例えばリチウムアルミニ
ウムハイドライド、ソジウムボロハイドライド−リチウ
ムクロライド、リチウムボロハイドライドのような水素
化ホウ素化合物である。
【0052】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
ければ特に限定はないが、好適にはテトラヒドロフラン
、エチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテ
ル類である。
ければ特に限定はないが、好適にはテトラヒドロフラン
、エチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテ
ル類である。
【0053】反応時間は、用いられる試薬、温度等によ
り変わるが、通常30分乃至5時間であり、好適には1
時間乃至3時間である。
り変わるが、通常30分乃至5時間であり、好適には1
時間乃至3時間である。
【0054】第三工程は、アルコール化合物(III)
の保護されていない水酸基を求核性脱離基Yに変換し、
化合物(II)を製造する工程である。
の保護されていない水酸基を求核性脱離基Yに変換し、
化合物(II)を製造する工程である。
【0055】例えば、Yがハロゲン原子の場合には、通
常ハロゲン化試薬とされているものを使用して実施され
るが、好適には、チオニルクロリド、チオニルブロミド
、チオニルアイオダイドのようなチオニルハライド類、
スルホニルクロリド、スルホニルブロミドのようなスル
ホニルハライド類、三塩化燐、三臭化燐のような三ハロ
ゲン化燐類、五塩化燐、五臭化燐、五沃化燐のような五
ハロゲン化燐類又はオキシ塩化燐、オキシ臭化燐のよう
なオキシハロゲン化燐類を使用して行なわれ、好適には
、オキシハロゲン化燐類又はチオニルハライド類が使用
される。
常ハロゲン化試薬とされているものを使用して実施され
るが、好適には、チオニルクロリド、チオニルブロミド
、チオニルアイオダイドのようなチオニルハライド類、
スルホニルクロリド、スルホニルブロミドのようなスル
ホニルハライド類、三塩化燐、三臭化燐のような三ハロ
ゲン化燐類、五塩化燐、五臭化燐、五沃化燐のような五
ハロゲン化燐類又はオキシ塩化燐、オキシ臭化燐のよう
なオキシハロゲン化燐類を使用して行なわれ、好適には
、オキシハロゲン化燐類又はチオニルハライド類が使用
される。
【0056】なお、3α:3β≒1:1のアルコール化
合物(III)をチオニルクロライドで塩素化すると、
望ましい配位である3位がα配位の塩化物(II)(Y
=Cl)のみが生成しする。これは、他の立体異性体に
比べ生物活性が高い化合物(I)を製造する上で極めて
好都合である。
合物(III)をチオニルクロライドで塩素化すると、
望ましい配位である3位がα配位の塩化物(II)(Y
=Cl)のみが生成しする。これは、他の立体異性体に
比べ生物活性が高い化合物(I)を製造する上で極めて
好都合である。
【0057】又、Yがスルホニル基の場合には、例えば
、不活性用在中、塩基存在下又は日存在下、化合物(I
II)と一般式R3 SO2 −O−SO2 R3 を
有する化合物(式中、R3 はメチル、エチルのような
低級アルキル基;トリフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチルのようなハロゲン低級アルキル基;ベンゼン、p
−トルエンのようなアリール基を示す。)又は式R3
SO2 −Zを有する化合物(式中、R3 は、前記と
同意義を示し、Zは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子の
ようなハロゲン原子を示す。)を反応させることにより
達成される。
、不活性用在中、塩基存在下又は日存在下、化合物(I
II)と一般式R3 SO2 −O−SO2 R3 を
有する化合物(式中、R3 はメチル、エチルのような
低級アルキル基;トリフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチルのようなハロゲン低級アルキル基;ベンゼン、p
−トルエンのようなアリール基を示す。)又は式R3
SO2 −Zを有する化合物(式中、R3 は、前記と
同意義を示し、Zは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子の
ようなハロゲン原子を示す。)を反応させることにより
達成される。
【0058】使用される溶媒としては、反応を阻害せず
、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸
プロピルのようなエステル類;エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシタンのようなエーテル
類又はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類であ
り、更に好適には、トルエンのような芳香族炭化水素類
又はメチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類で
ある。
、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸
プロピルのようなエステル類;エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシタンのようなエーテル
類又はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類であ
り、更に好適には、トルエンのような芳香族炭化水素類
又はメチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類で
ある。
【0059】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物等の無機塩
基類;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N −
ジメチルアミノ)ピリジン、 N,N−ジメチルアニリ
ン、1,5 −ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ−
5−エン、1,4 −ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、1,8 −ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデク−7−エン(DBU) のような有機塩基類又
はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよ
うな有機金属塩基類であり、更に好適にはピリジン、ト
リエチルアミンのような有機塩基である。
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物等の無機塩
基類;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N −
ジメチルアミノ)ピリジン、 N,N−ジメチルアニリ
ン、1,5 −ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ−
5−エン、1,4 −ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、1,8 −ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデク−7−エン(DBU) のような有機塩基類又
はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよ
うな有機金属塩基類であり、更に好適にはピリジン、ト
リエチルアミンのような有機塩基である。
【0060】反応温度は、ハロゲン化は室温乃至150
℃で行なわれるが、好適には80℃乃至120℃である
。スルホン化は−20℃乃至50℃で行なわれるが、好
適には、−15℃乃至室温である。
℃で行なわれるが、好適には80℃乃至120℃である
。スルホン化は−20℃乃至50℃で行なわれるが、好
適には、−15℃乃至室温である。
【0061】反応時間は、主に反応温度、原料化合物又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分間
乃至10時間である。
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分間
乃至10時間である。
【0062】第四工程は、化合物(II)からトリアゾ
ール化合物(I)を製造する工程である。
ール化合物(I)を製造する工程である。
【0063】本工程では、化合物(II)のオキセタン
環の3位に関する異性体のうち、3位がα配位の異性体
(IIa)のみが選択的に反応して、立体特異的に化合
物(I)の単一の立体異性体が生成し、β配位の異性体
(IIb)は、未反応のままである。
環の3位に関する異性体のうち、3位がα配位の異性体
(IIa)のみが選択的に反応して、立体特異的に化合
物(I)の単一の立体異性体が生成し、β配位の異性体
(IIb)は、未反応のままである。
【0064】
【化17】
【0065】反応の選択性は、3位の置換基の配位によ
って支配されるので、3位がα配位の異性体、3位がβ
配位の異性体の共存下に反応を行なっても、望ましい3
位がα配位の異性体のみが反応し、3位がβ配位の異性
体は未反応のまま定量的に回収される。このため、本反
応に先立つ原料化合物(II)の3位がα配位の異性体
と3位がβ配位の異性体の分離が要求されず、化合物(
I)の製造上、きわめて有利である。
って支配されるので、3位がα配位の異性体、3位がβ
配位の異性体の共存下に反応を行なっても、望ましい3
位がα配位の異性体のみが反応し、3位がβ配位の異性
体は未反応のまま定量的に回収される。このため、本反
応に先立つ原料化合物(II)の3位がα配位の異性体
と3位がβ配位の異性体の分離が要求されず、化合物(
I)の製造上、きわめて有利である。
【0066】化合物(I)は不斉炭素を3個有しており
、4個のジアステレオマーが存在しているが、本方法に
よればそのうちの、より活性の高い立体を持つ化合物(
I)のみをわずか4工程で製造でき、きわめて有用であ
る。
、4個のジアステレオマーが存在しているが、本方法に
よればそのうちの、より活性の高い立体を持つ化合物(
I)のみをわずか4工程で製造でき、きわめて有用であ
る。
【0067】本工程は、溶媒中、1当量以上の1H−1
,2,4 −トリアゾール若しくはイミダゾールを1当
量以上の塩基の存在下に反応させるか、又は1H−1,
2,4 −トリアゾール若しくはイミダゾールの塩基塩
を反応させることにより達成される。
,2,4 −トリアゾール若しくはイミダゾールを1当
量以上の塩基の存在下に反応させるか、又は1H−1,
2,4 −トリアゾール若しくはイミダゾールの塩基塩
を反応させることにより達成される。
【0068】使用される溶媒としては、反応を阻害せず
、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定は
ないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン
化炭化水素類;ドエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類;メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−プタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブのようなアルコール類;ニ
トロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;
アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル
類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノンのようなアミド類
;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキ
シド類であり、更に好適には、ホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロトリアミド、1,3 −ジメチル−2−イミダゾ
リジノンのようなアミド類である。
、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定は
ないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン
化炭化水素類;ドエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類;メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−プタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブのようなアルコール類;ニ
トロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類;
アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル
類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノンのようなアミド類
;ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキ
シド類であり、更に好適には、ホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロトリアミド、1,3 −ジメチル−2−イミダゾ
リジノンのようなアミド類である。
【0069】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リチウム
、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ
金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物;ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−
ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N
,N−ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルア
ニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザ
ビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO) 、1
,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エ
ン(DBU)のような有機塩基類又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
であり、更に好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩である。
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リチウム
、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ
金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物;ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−
ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N
,N−ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルア
ニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザ
ビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO) 、1
,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エ
ン(DBU)のような有機塩基類又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
であり、更に好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩である。
【0070】尚、反応を効果的に行なわせるために、ベ
ンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリドのような第4級アンモニウム塩類
、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムの
ようなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ−18−
クラウン−6のようなクラウンエーテル類等を添加する
こともできる。
ンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリドのような第4級アンモニウム塩類
、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムの
ようなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ−18−
クラウン−6のようなクラウンエーテル類等を添加する
こともできる。
【0071】反応温度は−78℃乃至200℃で行なわ
れるが、好適には、−20℃乃至150℃である。
れるが、好適には、−20℃乃至150℃である。
【0072】反応時間は、主に反応温度、原料化合物又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1時間
乃至24時間である。
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1時間
乃至24時間である。
【0073】上記各工程の反応終了後、目的化合物は常
法に従って、反応混合物から採取される。
法に従って、反応混合物から採取される。
【0074】例えば、反応混合物に水と混和しない有機
溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に
精製できる。
溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に
精製できる。
【0075】化合物(I)の単離については、通常の塩
を得る方法を用いて塩として単離すると操作が容易な場
合がある。そのような塩としては、例えば、弗化水素酸
、臭化水素酸、過塩素酸、硝酸、塩酸、硫酸、燐酸のよ
うな無機酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸
のようなアリールスルホン酸、蓚酸、コハク酸のような
有機酸の塩である。
を得る方法を用いて塩として単離すると操作が容易な場
合がある。そのような塩としては、例えば、弗化水素酸
、臭化水素酸、過塩素酸、硝酸、塩酸、硫酸、燐酸のよ
うな無機酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸
のようなアリールスルホン酸、蓚酸、コハク酸のような
有機酸の塩である。
【0076】これらの塩のうち、例えば硝酸塩、蓚酸塩
、塩酸塩は、反応混合物を処理して得た粗目的物に、有
機溶媒と各々の酸を加え、結晶として目的物を単離、ろ
取するか、又は分液ロートにより分液して目的物の塩の
水溶液として有機溶媒から分離することができる。結晶
としてろ取した場合には、再び塩を水に懸濁させ、塩基
を加え、目的物を溶かす有機溶媒を加え有機溶媒に分液
、転溶させ、目的物を得ることができる。目的物の塩の
水溶液として分液した場合には、得られた水溶液に引き
続き、塩基を加え、目的物を溶かす有機溶媒を加え、有
機溶媒に分液、転溶させ、目的物を得ることができる。 これらの塩のうち、硝酸は爆発の危険性を内在しており
、大量合成の場合は注意が必要である。蓚酸塩は結晶と
しての単離効率があまり良くなく、あまり好ましくない
。更に硝酸塩、蓚酸塩として、結晶で単離し再び、塩基
で遊離させる場合には、大量の溶媒、水を使用する必要
があると同時に、塩の結晶をろ取する操作が必要となる
。
、塩酸塩は、反応混合物を処理して得た粗目的物に、有
機溶媒と各々の酸を加え、結晶として目的物を単離、ろ
取するか、又は分液ロートにより分液して目的物の塩の
水溶液として有機溶媒から分離することができる。結晶
としてろ取した場合には、再び塩を水に懸濁させ、塩基
を加え、目的物を溶かす有機溶媒を加え有機溶媒に分液
、転溶させ、目的物を得ることができる。目的物の塩の
水溶液として分液した場合には、得られた水溶液に引き
続き、塩基を加え、目的物を溶かす有機溶媒を加え、有
機溶媒に分液、転溶させ、目的物を得ることができる。 これらの塩のうち、硝酸は爆発の危険性を内在しており
、大量合成の場合は注意が必要である。蓚酸塩は結晶と
しての単離効率があまり良くなく、あまり好ましくない
。更に硝酸塩、蓚酸塩として、結晶で単離し再び、塩基
で遊離させる場合には、大量の溶媒、水を使用する必要
があると同時に、塩の結晶をろ取する操作が必要となる
。
【0077】一方、塩酸塩として単離する場合には、爆
発の危険性もなく、更に、単離効率も良く、好ましい。 塩酸塩の場合、硝酸塩、蓚酸塩と異なって水に対する溶
解性が非常に大きいので、塩酸と有機溶媒を粗目的物に
加え、分液するだけで効率よく水溶液に転溶でき、有機
溶媒も、水も大量に使用する必要がない。同時に、塩を
結晶としてろ取する操作も不要となり、非常に有利な単
離法となる。
発の危険性もなく、更に、単離効率も良く、好ましい。 塩酸塩の場合、硝酸塩、蓚酸塩と異なって水に対する溶
解性が非常に大きいので、塩酸と有機溶媒を粗目的物に
加え、分液するだけで効率よく水溶液に転溶でき、有機
溶媒も、水も大量に使用する必要がない。同時に、塩を
結晶としてろ取する操作も不要となり、非常に有利な単
離法となる。
【0078】尚、粗目的物を有機溶媒と塩酸で分液した
場合には、有機層に、第4工程で反応に関与しなかった
、化合物(II)のオキセタン環3位がβ配位の異性体
が定量的に回収される。この様な目的で使用される塩酸
としては、1規定乃至12規定の塩酸が好ましく、更に
好適には4乃至7規定の塩酸である。
場合には、有機層に、第4工程で反応に関与しなかった
、化合物(II)のオキセタン環3位がβ配位の異性体
が定量的に回収される。この様な目的で使用される塩酸
としては、1規定乃至12規定の塩酸が好ましく、更に
好適には4乃至7規定の塩酸である。
【0079】粗目的物を水溶性塩として分離する際に、
未反応の化合物(II)のオキセタン環3位がβ配位の
異性体を回収するのに使用される溶媒としては、特に限
定はないが、好適にはヘプタン、ヘキサン、石油エーテ
ル、リグロイン、石油ベンジン、シクロヘキサンなどの
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類、メチレンクロリド、ジクロルエタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢
酸プロピルなどのエステル類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル類であり、更に好適には
、ヘプタン、ヘキサン、石油エーテル、リグロイン、石
油ベンジン、シクロヘキサンなどの炭化水素類である。
未反応の化合物(II)のオキセタン環3位がβ配位の
異性体を回収するのに使用される溶媒としては、特に限
定はないが、好適にはヘプタン、ヘキサン、石油エーテ
ル、リグロイン、石油ベンジン、シクロヘキサンなどの
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類、メチレンクロリド、ジクロルエタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢
酸プロピルなどのエステル類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル類であり、更に好適には
、ヘプタン、ヘキサン、石油エーテル、リグロイン、石
油ベンジン、シクロヘキサンなどの炭化水素類である。
【0080】水溶液に溶解した塩に加える塩基としては
、水溶液として使用される塩基ならば特に限定はないが
、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属水酸化物、トリエチルアミ
ン、ピリジンのような有機塩基類であり、更に好適には
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩である。
、水溶液として使用される塩基ならば特に限定はないが
、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属水酸化物、トリエチルアミ
ン、ピリジンのような有機塩基類であり、更に好適には
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩である。
【0081】以上の方法において、ラセミ体として合成
した化合物は、ラセミ体に周知の分割試薬、例えば、カ
ンファースルホン酸のような光学活性な酸を加えて結晶
性の塩を形成させ、光学分割を行なうことにより、一方
の光学活性体のみを取り出すことができる。
した化合物は、ラセミ体に周知の分割試薬、例えば、カ
ンファースルホン酸のような光学活性な酸を加えて結晶
性の塩を形成させ、光学分割を行なうことにより、一方
の光学活性体のみを取り出すことができる。
【0082】以下に実施例をあげて本発明を更に具体的
に説明する。
に説明する。
【0083】文中『*』印はラセミ体を示す。即ち、(
2R* ,3S* )という表示は、(2R,3S)と
(2S,3R)の異性体の1:1の混合物を意味し、こ
れは(2S* ,3R* )と同意義である。一方、(
2R* ,3R* )という表示は、(2R,3R)と
(2S,3S)の異性体の1:1の混合物を意味し、こ
れは、(2S* ,3S* )と同意義である。
2R* ,3S* )という表示は、(2R,3S)と
(2S,3R)の異性体の1:1の混合物を意味し、こ
れは(2S* ,3R* )と同意義である。一方、(
2R* ,3R* )という表示は、(2R,3R)と
(2S,3S)の異性体の1:1の混合物を意味し、こ
れは、(2S* ,3S* )と同意義である。
【0084】
実施例1
(2R* ,4R* )−2−(4−クロロフェニル)
−3,4−ジメチル−2−エトキシカルボニル−オキセ
タン ベンゼン(200ml)に0℃で2−ブテンを体積が約
1.25倍となるまで吹き込んだ。ここに、4−クロロ
フェニルグリオキシル酸エチル(24.3 g,114
.09mmol)を加え、15℃でハノビア社製450
W中圧水銀灯を3時間照射した。反応混合物を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン
:酢酸エチル=10:1)に付し、目的物を油状物とし
て(23.4 g) を得た。
−3,4−ジメチル−2−エトキシカルボニル−オキセ
タン ベンゼン(200ml)に0℃で2−ブテンを体積が約
1.25倍となるまで吹き込んだ。ここに、4−クロロ
フェニルグリオキシル酸エチル(24.3 g,114
.09mmol)を加え、15℃でハノビア社製450
W中圧水銀灯を3時間照射した。反応混合物を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン
:酢酸エチル=10:1)に付し、目的物を油状物とし
て(23.4 g) を得た。
【0085】収率 76% 沸点 141〜14
2℃/2.7torr NMR スペクトルを用いて異性体の比を決定したとこ
ろ、このものはC3 位の配位に関するα:β≒1:1
の混合物であった。
2℃/2.7torr NMR スペクトルを用いて異性体の比を決定したとこ
ろ、このものはC3 位の配位に関するα:β≒1:1
の混合物であった。
【0086】NMR(CDCl3)δppm:0.76
(d,J=7.66Hz),1.23 〜1.31(m
),1.34(d,J=6.04Hz),2.83(q
uint,J=7.25Hz),3.55(quint
,J=7.25Hz),4.16 〜4.32(m),
4.56(quint,J=6.45Hz),5.06
(quint,J=7.25Hz),7.26〜7.4
7(m)マススペクトル(m/z):268(M+),
224,213,195,178,167実施例2 (2R* ,4R* )−2−(4−クロロフェニル)
−3,4−ジメチル−2−エトキシカルボニル−オキセ
タン ベンゼン(700ml)に4−クロロフェニルグリオキ
シル酸エチル(53.16g,0.25mol)を加え
、ここに室温で2−ブテン(69.0g,1.23mo
l) を吹き込んだ。室温で東芝製20Wブラック・ラ
イト・ブルー蛍光灯を50時間照射した。反応終了後溶
媒を留去し、67gの目的物を得た。
(d,J=7.66Hz),1.23 〜1.31(m
),1.34(d,J=6.04Hz),2.83(q
uint,J=7.25Hz),3.55(quint
,J=7.25Hz),4.16 〜4.32(m),
4.56(quint,J=6.45Hz),5.06
(quint,J=7.25Hz),7.26〜7.4
7(m)マススペクトル(m/z):268(M+),
224,213,195,178,167実施例2 (2R* ,4R* )−2−(4−クロロフェニル)
−3,4−ジメチル−2−エトキシカルボニル−オキセ
タン ベンゼン(700ml)に4−クロロフェニルグリオキ
シル酸エチル(53.16g,0.25mol)を加え
、ここに室温で2−ブテン(69.0g,1.23mo
l) を吹き込んだ。室温で東芝製20Wブラック・ラ
イト・ブルー蛍光灯を50時間照射した。反応終了後溶
媒を留去し、67gの目的物を得た。
【0087】NMR スペクトルよりこのものはC3
位の配位に関するα:β≒1.25:1.00の混合物
であった。
位の配位に関するα:β≒1.25:1.00の混合物
であった。
【0088】収率 99.7% 油状物実施例1の
方法に準じて以下の化合物が製造された。
方法に準じて以下の化合物が製造された。
【0089】
【化18】
【0090】
【化19】
【0091】
【化20】
【0092】各々の実施例で得られたNMR スペクト
ルとMSのデータを以下に示す。
ルとMSのデータを以下に示す。
【0093】実施例3
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
2(2H,dd,J=2.2,8.8Hz),7.28
(2H,dd,J=3.6,8.8Hz),5.03(
dq,J=7.2,7.7Hz),4.54(dq,J
=7.2,7.4Hz),4.15(2H,t,J=7
.5Hz),3.51(dq,J=7.7,7.8Hz
),2.80(dq,J=7.4,7.5Hz),1.
58(2H,m),1.20〜1.35(m),0.8
0〜1.95(3H,m),0.75(d,J=7.8
Hz )実施例4 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
4(2H,dd,J=2.5,8.8Hz),7.32
(2H,dd,J=3.8,8.8Hz),5.01〜
5.12(m),4.54(bdq,J=6.2Hz)
,3.51(bdq,J=7.6Hz),2.81(b
dq,J=7.1Hz),1.17〜1.34(m),
0.75(d,J=7.6Hz )マススペクトル(m
/z):282(M+),195,139実施例5 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
7〜7.50(4H,m),4.87 〜5.09(m
),4.55(dq,J=6.4,6.8Hz),4.
54(dq,J=6.4,6.8Hz),3.54(d
q,J=7.7,7.9Hz),3.50(dq,J=
7.7,7.9Hz),2.83(dq,J=6.8,
7.1Hz),2.81(dq,J=6.8,7.1H
z),1.44〜1.67(2H,m),1.10 〜
1.40(m),0.67〜0.97(m)マススペク
トル(m/z):296(M+),241,197,1
39実施例6 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
7〜7.45(4H,m),5.03(dq,J=6.
5,7.7Hz),4.53(dq,J=6.3,6.
7Hz),3.51(dq,J=7.6,7.7Hz)
,2.79(dq,J=6.7,7.0Hz),1.4
4(3H,s),1.43(6H,s),1.31(d
,J=6.3Hz),1.31(d,J=7.0Hz)
,1.23(d,J=6.5Hz),0.74(d,J
=7.6Hz)マススペクトル(m/z):296(M
+),239,195,139実施例7 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.45(4H,m),5.04(bdq,J=6
.7Hz),5.03(bdq,J=6.7Hz),4
.88(bdq,J=7.0Hz),4.77(q,J
=6.7Hz),4.71(q,J=6.7Hz),4
.56(bdq,J=7.0Hz),3.56(bdq
,J=8.1Hz),3.48(bdq,J=8.1H
z),2.87(bdq,J=7.4Hz),2.84
(bdq,J=7.4Hz),0.67 〜1.35(
14H,m)マススペクトル(m/z):324(M+
),269,195,139実施例8 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
0〜7.45(14H,m),6.94(s),6.8
8(s),5.07(dq,J=6.5,7.9Hz)
,4.56(dq,J=6.5,6.7Hz),3.5
6(dq,J=7.3,7.9Hz),2.89(dq
,J=6.7,6.9Hz),1.34(d,J=6.
5Hz),1.26(d,J=6.5Hz),1.07
(d,J=6.9Hz),0.78(d,J=7.3H
z) 実施例9 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
5(2H,dd,J=4.0,9.9Hz),7.32
(2H,dd,J=4.4,9.9Hz),5.06(
dq,J=6.7,7.9Hz),4.80 〜4.9
5(1H,m),4.56(dq,J=6.5,6.5
Hz),3.52(dq,J=7.9,8.1Hz),
2.83(dq,J=6.5,6.5Hz),0.80
〜1.94(10H,m),1.34(d,J=6.7
Hz),1.30(d,J=6.5Hz),1.26(
d,J=6.5Hz),0.78(d,J=8.1Hz
) 実施例10 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.48(4H,m),5.04(dq,J=7.
2,8.0Hz),4.65〜4.82(1H,m),
4.55(dq,J=6.4,7.2Hz),4.53
(dq,J=6.4,7.2Hz),3.55(dq,
J=8.0,8.0Hz),3.48(dq,J=8.
0,8.0Hz),2.84(dq,J=7.2,7.
2Hz),2.82(dq,J=7.2,7.2Hz)
,0.50〜2.05(24H,m)実施例11 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.48(m),5.04(dq,J=7.2,8
.0.Hz),4.65〜4.82(m),4.55(
dq,J=6.4,7.2Hz),4.53(dq,J
=6.4,7.2Hz),3.55(dq,J=8.0
,8.0Hz),3.48(dq,J=8.0,8.0
Hz),2.84(dq,J=7.2,7.2Hz),
2.82(dq,J=7.2,7.2Hz),0.50
〜2.05(m) マススペクトル(m/z):378(M+),323,
195,139実施例12 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.1
0〜7.51(9H,m),5.00(dq,J=6.
9,7.2Hz),4.85(m),4.57(dq,
J=6.5,6.7Hz)3.36(dq,J=7.2
,7.2Hz),2.77(dq,J=6.7,6.9
Hz),1.85〜2.10(m),0.70〜1.7
5(m) マススペクトル(m/z):454(M+),215,
195,139実施例13 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.0
5〜7.38(9H,m),5.00 〜5.20(m
),4.73(dq,J=7.2,7.5Hz),4.
51(dq,J=7.2,7.5Hz),4.36(d
q,J=7.2,7.2Hz),4.12(dq,J=
7.2,7.2Hz),2.52〜3.08(m),1
.19〜2.18(7H,m),1.22(d,J=7
.2Hz),1.11(d,J=7.2Hz),0.8
4(d,J=7.5Hz),0.59(d,J=7.5
Hz)マススペクトル(m/z):398(M+),3
43,195,139実施例14 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.0
5〜7.38(9H,m),5.00 〜5.20(m
),4.73(dq,J=7.2,7.5Hz),4.
51(dq,J=7.2,7.5Hz),4.36(d
q,J=7.2,7.2Hz),4.12(dq,J=
7.2,7.2Hz),2.52〜3.08(m),1
.19〜2.18(7H,m),1.22(d,J=7
.2Hz),1.11(d,J=7.2Hz),0.8
4(d,J=7.5Hz),0.59(d,J=7.5
Hz)マススペクトル(m/z):398(M+),3
43,195,139実施例15 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
4(2H,d,J=8.8Hz),7.35(2H,d
,J=8.8Hz),5.07(dq,J=6.5,7
.8Hz),4.50 〜4.71(m),3.45〜
3.58(m),2.87(dq,J=7.8,7.8
Hz),2.20〜2.70(1H,m),1.84
〜2.18(2H,m),1.55 〜1.80(2H
,m),1.10 〜1.50(m),0.78(d,
J=7.8Hz)マススペクトル(m/z):338(
M+),197,141,139実施例16 アルコール部分のシス−トランスの混合物NMR スペ
クトル( CDCl3)δppm:7.25〜7.50
(4H,m),4.75 〜5.21(m),4.54
(bdq,J=6.6Hz),4.52(bdq,J=
6.6Hz),3.50(bdq,J=7.1Hz),
3.38(bdq,J=7.1Hz),2.86(bd
q,J=7.3Hz),2.82(bdq,J=7.3
Hz),1.20〜2.20(m),1.24(d,J
=6.6Hz),0.78(d,J=7.3Hz)マス
スペクトル(m/z):380(M+),325,19
5,139 実施例17 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
5(2H,dd,J=3.1,8.7Hz),7.33
(2H,dd,J=3.9,8.7Hz),5.31(
dq,J=6.6,8.1Hz),5.03(dq,J
=7.0,8.1Hz)4.45 〜4.90(m),
4.06〜4.32(1H,m),3.30 〜3.6
5(m),3.54(s),3.26(s),3.23
(s),3.12(s),2.87(bdq,J=7.
4Hz),2.80(bdq,J=7.4Hz),1.
08〜2.15(m),0.75(d,J=7.4Hz
) 油状物 マススペクトル(m/z):382(M+),295,
265,197,141実施例18 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
7(2H,d,J=8.9Hz),7.32(2H,d
d,J=3.8,8.9Hz),5.03(dq,J=
7.2,8.0Hz),4.62〜4.80(1H,m
),4.55(dq,J=6.8,7.0Hz),3.
58〜3.77(1H,m),3.52(bdq,J=
8.0Hz),2.78(dq,J=7.0,7.2H
z),1.03〜2.05(m),0.75〜0.94
(m),0.77(s),0.75(s),0.04(
s),−0.04(s),−0.07(s),−0.1
8 (s) マススペクトル(m/z):452(M+),395,
351,297,255,195,141 実施例19 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル
−オキセタン(A) 及び (2R* ,3R* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル
−オキセタン(B) 2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−
エトキシカルボニル−オキセタン(920mg,3.4
2mmol、これは、(2R* ,3R* ,4R*
)と(2R*,3S* ,4R* )の1:1の混合物
である)のテトラヒドロフラン(7ml)溶液に0℃で
水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液
(1M,3.2ml,3.2mmol )を滴下し、同
温度で30分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモ
ニウム水、次いで、1N−塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、(2
R* ,3S* ,4R* )の目的化合物A(336
.4mg) と(2R* ,3R*,4R* )の目的
化合物B(349.5mg) を得た。
2(2H,dd,J=2.2,8.8Hz),7.28
(2H,dd,J=3.6,8.8Hz),5.03(
dq,J=7.2,7.7Hz),4.54(dq,J
=7.2,7.4Hz),4.15(2H,t,J=7
.5Hz),3.51(dq,J=7.7,7.8Hz
),2.80(dq,J=7.4,7.5Hz),1.
58(2H,m),1.20〜1.35(m),0.8
0〜1.95(3H,m),0.75(d,J=7.8
Hz )実施例4 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
4(2H,dd,J=2.5,8.8Hz),7.32
(2H,dd,J=3.8,8.8Hz),5.01〜
5.12(m),4.54(bdq,J=6.2Hz)
,3.51(bdq,J=7.6Hz),2.81(b
dq,J=7.1Hz),1.17〜1.34(m),
0.75(d,J=7.6Hz )マススペクトル(m
/z):282(M+),195,139実施例5 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
7〜7.50(4H,m),4.87 〜5.09(m
),4.55(dq,J=6.4,6.8Hz),4.
54(dq,J=6.4,6.8Hz),3.54(d
q,J=7.7,7.9Hz),3.50(dq,J=
7.7,7.9Hz),2.83(dq,J=6.8,
7.1Hz),2.81(dq,J=6.8,7.1H
z),1.44〜1.67(2H,m),1.10 〜
1.40(m),0.67〜0.97(m)マススペク
トル(m/z):296(M+),241,197,1
39実施例6 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
7〜7.45(4H,m),5.03(dq,J=6.
5,7.7Hz),4.53(dq,J=6.3,6.
7Hz),3.51(dq,J=7.6,7.7Hz)
,2.79(dq,J=6.7,7.0Hz),1.4
4(3H,s),1.43(6H,s),1.31(d
,J=6.3Hz),1.31(d,J=7.0Hz)
,1.23(d,J=6.5Hz),0.74(d,J
=7.6Hz)マススペクトル(m/z):296(M
+),239,195,139実施例7 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.45(4H,m),5.04(bdq,J=6
.7Hz),5.03(bdq,J=6.7Hz),4
.88(bdq,J=7.0Hz),4.77(q,J
=6.7Hz),4.71(q,J=6.7Hz),4
.56(bdq,J=7.0Hz),3.56(bdq
,J=8.1Hz),3.48(bdq,J=8.1H
z),2.87(bdq,J=7.4Hz),2.84
(bdq,J=7.4Hz),0.67 〜1.35(
14H,m)マススペクトル(m/z):324(M+
),269,195,139実施例8 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
0〜7.45(14H,m),6.94(s),6.8
8(s),5.07(dq,J=6.5,7.9Hz)
,4.56(dq,J=6.5,6.7Hz),3.5
6(dq,J=7.3,7.9Hz),2.89(dq
,J=6.7,6.9Hz),1.34(d,J=6.
5Hz),1.26(d,J=6.5Hz),1.07
(d,J=6.9Hz),0.78(d,J=7.3H
z) 実施例9 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
5(2H,dd,J=4.0,9.9Hz),7.32
(2H,dd,J=4.4,9.9Hz),5.06(
dq,J=6.7,7.9Hz),4.80 〜4.9
5(1H,m),4.56(dq,J=6.5,6.5
Hz),3.52(dq,J=7.9,8.1Hz),
2.83(dq,J=6.5,6.5Hz),0.80
〜1.94(10H,m),1.34(d,J=6.7
Hz),1.30(d,J=6.5Hz),1.26(
d,J=6.5Hz),0.78(d,J=8.1Hz
) 実施例10 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.48(4H,m),5.04(dq,J=7.
2,8.0Hz),4.65〜4.82(1H,m),
4.55(dq,J=6.4,7.2Hz),4.53
(dq,J=6.4,7.2Hz),3.55(dq,
J=8.0,8.0Hz),3.48(dq,J=8.
0,8.0Hz),2.84(dq,J=7.2,7.
2Hz),2.82(dq,J=7.2,7.2Hz)
,0.50〜2.05(24H,m)実施例11 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
5〜7.48(m),5.04(dq,J=7.2,8
.0.Hz),4.65〜4.82(m),4.55(
dq,J=6.4,7.2Hz),4.53(dq,J
=6.4,7.2Hz),3.55(dq,J=8.0
,8.0Hz),3.48(dq,J=8.0,8.0
Hz),2.84(dq,J=7.2,7.2Hz),
2.82(dq,J=7.2,7.2Hz),0.50
〜2.05(m) マススペクトル(m/z):378(M+),323,
195,139実施例12 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.1
0〜7.51(9H,m),5.00(dq,J=6.
9,7.2Hz),4.85(m),4.57(dq,
J=6.5,6.7Hz)3.36(dq,J=7.2
,7.2Hz),2.77(dq,J=6.7,6.9
Hz),1.85〜2.10(m),0.70〜1.7
5(m) マススペクトル(m/z):454(M+),215,
195,139実施例13 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.0
5〜7.38(9H,m),5.00 〜5.20(m
),4.73(dq,J=7.2,7.5Hz),4.
51(dq,J=7.2,7.5Hz),4.36(d
q,J=7.2,7.2Hz),4.12(dq,J=
7.2,7.2Hz),2.52〜3.08(m),1
.19〜2.18(7H,m),1.22(d,J=7
.2Hz),1.11(d,J=7.2Hz),0.8
4(d,J=7.5Hz),0.59(d,J=7.5
Hz)マススペクトル(m/z):398(M+),3
43,195,139実施例14 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.0
5〜7.38(9H,m),5.00 〜5.20(m
),4.73(dq,J=7.2,7.5Hz),4.
51(dq,J=7.2,7.5Hz),4.36(d
q,J=7.2,7.2Hz),4.12(dq,J=
7.2,7.2Hz),2.52〜3.08(m),1
.19〜2.18(7H,m),1.22(d,J=7
.2Hz),1.11(d,J=7.2Hz),0.8
4(d,J=7.5Hz),0.59(d,J=7.5
Hz)マススペクトル(m/z):398(M+),3
43,195,139実施例15 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
4(2H,d,J=8.8Hz),7.35(2H,d
,J=8.8Hz),5.07(dq,J=6.5,7
.8Hz),4.50 〜4.71(m),3.45〜
3.58(m),2.87(dq,J=7.8,7.8
Hz),2.20〜2.70(1H,m),1.84
〜2.18(2H,m),1.55 〜1.80(2H
,m),1.10 〜1.50(m),0.78(d,
J=7.8Hz)マススペクトル(m/z):338(
M+),197,141,139実施例16 アルコール部分のシス−トランスの混合物NMR スペ
クトル( CDCl3)δppm:7.25〜7.50
(4H,m),4.75 〜5.21(m),4.54
(bdq,J=6.6Hz),4.52(bdq,J=
6.6Hz),3.50(bdq,J=7.1Hz),
3.38(bdq,J=7.1Hz),2.86(bd
q,J=7.3Hz),2.82(bdq,J=7.3
Hz),1.20〜2.20(m),1.24(d,J
=6.6Hz),0.78(d,J=7.3Hz)マス
スペクトル(m/z):380(M+),325,19
5,139 実施例17 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
5(2H,dd,J=3.1,8.7Hz),7.33
(2H,dd,J=3.9,8.7Hz),5.31(
dq,J=6.6,8.1Hz),5.03(dq,J
=7.0,8.1Hz)4.45 〜4.90(m),
4.06〜4.32(1H,m),3.30 〜3.6
5(m),3.54(s),3.26(s),3.23
(s),3.12(s),2.87(bdq,J=7.
4Hz),2.80(bdq,J=7.4Hz),1.
08〜2.15(m),0.75(d,J=7.4Hz
) 油状物 マススペクトル(m/z):382(M+),295,
265,197,141実施例18 アルコール部分の不斉に由来するジアステレオマーの混
合物 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.4
7(2H,d,J=8.9Hz),7.32(2H,d
d,J=3.8,8.9Hz),5.03(dq,J=
7.2,8.0Hz),4.62〜4.80(1H,m
),4.55(dq,J=6.8,7.0Hz),3.
58〜3.77(1H,m),3.52(bdq,J=
8.0Hz),2.78(dq,J=7.0,7.2H
z),1.03〜2.05(m),0.75〜0.94
(m),0.77(s),0.75(s),0.04(
s),−0.04(s),−0.07(s),−0.1
8 (s) マススペクトル(m/z):452(M+),395,
351,297,255,195,141 実施例19 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル
−オキセタン(A) 及び (2R* ,3R* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル
−オキセタン(B) 2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−
エトキシカルボニル−オキセタン(920mg,3.4
2mmol、これは、(2R* ,3R* ,4R*
)と(2R*,3S* ,4R* )の1:1の混合物
である)のテトラヒドロフラン(7ml)溶液に0℃で
水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液
(1M,3.2ml,3.2mmol )を滴下し、同
温度で30分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモ
ニウム水、次いで、1N−塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、(2
R* ,3S* ,4R* )の目的化合物A(336
.4mg) と(2R* ,3R*,4R* )の目的
化合物B(349.5mg) を得た。
【0094】化合物A
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
0(3H,d,J=7.66Hz),1.24(3H,
d,J=6.44Hz),3.33(1H,d,J=7
.66Hz),3.63(1H,d,J=12.08H
z),3.87(1H,d,J=12.08Hz),4
.96(1H,dq,J=6.44,7.66Hz),
7.25(2H,d,J=8.46Hz),7.35(
2H,d,J=8.46Hz)マススペクトル(m/z
):223,195,181,167,153,139
化合物B NMR スペクトル( CDCl3)δppm:1.3
6(3H,d,J=6.04Hz),1.36(3H,
d,J=7.25Hz),2.18(1H,brdd,
J=5.53,7.25Hz),2.65(1H,qu
int,J=7.25Hz),3.71(1H,dd,
J=5.53,12.09Hz),4.02(1H,d
d,J=7.25,12.09Hz),4.56(1H
,dq,J=6.04,7.25Hz),7.24(2
H,d,J=8.46Hz),7.33(2H,d,J
=8.46Hz)マススペクトル(m/z):195,
167,139,129,125,115実施例20 (2R* ,4R* )−2−(4−クロロフェニル)
−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル−オキセタ
ンエチレングリコールジメチルエーテル(400ml)
中の水素化ほう素ナトリウム(11.4 g,0.3
mol) に塩化リチウム(12.7 g,0.3mo
l) を加え、50分間撹拌した。(2R* ,4R*
)−2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル
−2−エトキシカルボニルオキセタン(107g,0.
4mol、これは、3R* と3S* の1:1の混合
物である)を20分間にわたって滴下し、60℃にて2
時間撹拌した。反応液を氷水にあけ、3規定塩酸でpH
を2乃至3とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥、濃縮し、目的化合物93gを得た。このものは
実施例19で得られた化合物Aと化合物Bの1:1の混
合物であり、各々のピークをNMR スペクトルで観察
する事が出来た。
0(3H,d,J=7.66Hz),1.24(3H,
d,J=6.44Hz),3.33(1H,d,J=7
.66Hz),3.63(1H,d,J=12.08H
z),3.87(1H,d,J=12.08Hz),4
.96(1H,dq,J=6.44,7.66Hz),
7.25(2H,d,J=8.46Hz),7.35(
2H,d,J=8.46Hz)マススペクトル(m/z
):223,195,181,167,153,139
化合物B NMR スペクトル( CDCl3)δppm:1.3
6(3H,d,J=6.04Hz),1.36(3H,
d,J=7.25Hz),2.18(1H,brdd,
J=5.53,7.25Hz),2.65(1H,qu
int,J=7.25Hz),3.71(1H,dd,
J=5.53,12.09Hz),4.02(1H,d
d,J=7.25,12.09Hz),4.56(1H
,dq,J=6.04,7.25Hz),7.24(2
H,d,J=8.46Hz),7.33(2H,d,J
=8.46Hz)マススペクトル(m/z):195,
167,139,129,125,115実施例20 (2R* ,4R* )−2−(4−クロロフェニル)
−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシメチル−オキセタ
ンエチレングリコールジメチルエーテル(400ml)
中の水素化ほう素ナトリウム(11.4 g,0.3
mol) に塩化リチウム(12.7 g,0.3mo
l) を加え、50分間撹拌した。(2R* ,4R*
)−2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル
−2−エトキシカルボニルオキセタン(107g,0.
4mol、これは、3R* と3S* の1:1の混合
物である)を20分間にわたって滴下し、60℃にて2
時間撹拌した。反応液を氷水にあけ、3規定塩酸でpH
を2乃至3とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥、濃縮し、目的化合物93gを得た。このものは
実施例19で得られた化合物Aと化合物Bの1:1の混
合物であり、各々のピークをNMR スペクトルで観察
する事が出来た。
【0095】収率 100% 油状物実施例21
2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−
メタンスルホニルオキシメチル−オキセタン2−(4−
クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシ
メチル−オキセタン(123mg,0.543mmol
) のジクロロメタン(10ml)溶液に0℃で、メタ
ンスルホニルクロライド(0.13ml,1.68mm
ol) 、次いでトリエチルアミン(0.24ml,1
.708mmol)を加え、4時間撹拌しながら室温に
まで温度を上げた。反応混合物に飽和重そう水を加え、
ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付し、目的
化合物(107mg)を得た。
メタンスルホニルオキシメチル−オキセタン2−(4−
クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシ
メチル−オキセタン(123mg,0.543mmol
) のジクロロメタン(10ml)溶液に0℃で、メタ
ンスルホニルクロライド(0.13ml,1.68mm
ol) 、次いでトリエチルアミン(0.24ml,1
.708mmol)を加え、4時間撹拌しながら室温に
まで温度を上げた。反応混合物に飽和重そう水を加え、
ジクロロメタンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付し、目的
化合物(107mg)を得た。
【0096】収率 65%
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
2(3H,d,J=7.25Hz),1.21(3H,
d,J=6.44Hz),3.02(3H,s),3.
25(1H,quint,J=7.25Hz),4.3
3(1H,d,J=11.68Hz),4.60(1H
,d,J=11.68Hz),5.04(1H,dq,
J=6.44,7.25Hz),7.28(2H,d,
J=8.86Hz),7.37(2H,d,J=8.8
6Hz) 実施例22 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−2−クロロメチル−3,4−ジメチル−オ
キセタン 実施例20で得た(2R* ,4R* )−2−(4−
クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシ
メチル−オキセタン(0.5g,2.2mmol 、こ
のものは3S* :3R* ≒1:1の混合物)、ピリ
ジン(0.35 g,4.4mmol)とトルエン(1
5ml)の混合物にチオニルクロライド(0.52 g
,4.4mmol)を加え、110℃に3時間加熱撹拌
した。冷後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留
去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物を133mg得た。
2(3H,d,J=7.25Hz),1.21(3H,
d,J=6.44Hz),3.02(3H,s),3.
25(1H,quint,J=7.25Hz),4.3
3(1H,d,J=11.68Hz),4.60(1H
,d,J=11.68Hz),5.04(1H,dq,
J=6.44,7.25Hz),7.28(2H,d,
J=8.86Hz),7.37(2H,d,J=8.8
6Hz) 実施例22 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−2−クロロメチル−3,4−ジメチル−オ
キセタン 実施例20で得た(2R* ,4R* )−2−(4−
クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−ヒドロキシ
メチル−オキセタン(0.5g,2.2mmol 、こ
のものは3S* :3R* ≒1:1の混合物)、ピリ
ジン(0.35 g,4.4mmol)とトルエン(1
5ml)の混合物にチオニルクロライド(0.52 g
,4.4mmol)を加え、110℃に3時間加熱撹拌
した。冷後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留
去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、目的物を133mg得た。
【0097】収率 49%
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
3(d,J=7.6Hz),1.24(d,J=6.4
Hz),3.25(dq,J=7.6Hz,7.6Hz
),3.80(d,J=11.9Hz),4.00(d
,J=11.9Hz),),5.05(dq,J=6.
4Hz,6.4Hz),7.2 〜7.4(m) マススペクトル(m/z):248,246,244,
236,221,208,191,179,166,1
39 実施例23 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン(
2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロフ
ェニル)−3,4−ジメチル−2−メタンスルホニルオ
キシメチルオキセタン(107mg,0.351mmo
l)、1H−1,2,4−トリアゾール(51.5mg
,0.746mmol)及びヨウ化ナトリウム(45.
6mg,0.304mmol ) のジメチルイミダゾ
リジノン(10ml)の懸濁液に0℃で水素化ナトリウ
ム(約60%含有オイル、38mg,0.950mmo
l)を加え、室温で30分間撹拌した。更に90℃で1
2時間撹拌後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えた。酢
酸エチル−ヘキサン(1:1,V/V)で抽出し、水洗
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1)に付し、目的化合物(76.3 mg)
を得た。 収率 78% NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
0(3H,d,J=7.25Hz),1.17(3H,
d,J=6.45Hz),3.16(1H,quint
,J=7.25Hz),4.41(1H,d,J=14
.5Hz),4.4 〜4.53(1H,m),4.7
6(1H,d,J=14.5Hz),7.25 (2H
,d,J=8.46Hz),7.36(2H,d,J=
8.46Hz),7.98(1H,s),8.42(1
H,s) マススペクトル(m/z):278(M+1),256
,222,197,164,149,141,139,
129,111,104実施例24 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン実
施例22で得た(2R* ,3S* ,4R* )−2
−(4−クロロフェニル)−2−クロロメチル−3,4
−ジメチル−オキセタン(245mg,1mmol)
のDMF 溶液(2ml)に1H−1,2,4−トリア
ゾール(26mg,0.38mmol )と炭酸カリ(
26mg,0.19mmol )を加え、130℃で5
時間、撹拌した。冷後、混合物を氷水に注加し、酢酸エ
チルで抽出し、飽和塩化アンモン水溶液で洗浄、芒硝で
乾燥、溶媒を留去し、260mgの残渣を得た。このも
のをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し56.
2mg(収率81%)の目的物を得た。
3(d,J=7.6Hz),1.24(d,J=6.4
Hz),3.25(dq,J=7.6Hz,7.6Hz
),3.80(d,J=11.9Hz),4.00(d
,J=11.9Hz),),5.05(dq,J=6.
4Hz,6.4Hz),7.2 〜7.4(m) マススペクトル(m/z):248,246,244,
236,221,208,191,179,166,1
39 実施例23 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン(
2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロフ
ェニル)−3,4−ジメチル−2−メタンスルホニルオ
キシメチルオキセタン(107mg,0.351mmo
l)、1H−1,2,4−トリアゾール(51.5mg
,0.746mmol)及びヨウ化ナトリウム(45.
6mg,0.304mmol ) のジメチルイミダゾ
リジノン(10ml)の懸濁液に0℃で水素化ナトリウ
ム(約60%含有オイル、38mg,0.950mmo
l)を加え、室温で30分間撹拌した。更に90℃で1
2時間撹拌後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えた。酢
酸エチル−ヘキサン(1:1,V/V)で抽出し、水洗
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1)に付し、目的化合物(76.3 mg)
を得た。 収率 78% NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
0(3H,d,J=7.25Hz),1.17(3H,
d,J=6.45Hz),3.16(1H,quint
,J=7.25Hz),4.41(1H,d,J=14
.5Hz),4.4 〜4.53(1H,m),4.7
6(1H,d,J=14.5Hz),7.25 (2H
,d,J=8.46Hz),7.36(2H,d,J=
8.46Hz),7.98(1H,s),8.42(1
H,s) マススペクトル(m/z):278(M+1),256
,222,197,164,149,141,139,
129,111,104実施例24 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン実
施例22で得た(2R* ,3S* ,4R* )−2
−(4−クロロフェニル)−2−クロロメチル−3,4
−ジメチル−オキセタン(245mg,1mmol)
のDMF 溶液(2ml)に1H−1,2,4−トリア
ゾール(26mg,0.38mmol )と炭酸カリ(
26mg,0.19mmol )を加え、130℃で5
時間、撹拌した。冷後、混合物を氷水に注加し、酢酸エ
チルで抽出し、飽和塩化アンモン水溶液で洗浄、芒硝で
乾燥、溶媒を留去し、260mgの残渣を得た。このも
のをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し56.
2mg(収率81%)の目的物を得た。
【0098】このものは、全ての点で実施例23で得た
化合物と一致した。
化合物と一致した。
【0099】実施例25
(2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタンN
,N−ジメチルホルムアミド1リットル中の1H−1,
2,4−トリアゾール55.3g(0.8mol)に炭
酸カリウム55.3g(0.4mol)を加え、120
℃にて1時間撹拌した。その後(2R* ,4R* )
−2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2
−メタンスルホニルオキシオキセタン(121.9g,
0.4mol、このものは3S* :3R* ≒1:1
の混合である)を加え、120℃にて7時間撹拌した。 反応液を氷水にあけ酢酸エチルで抽出したのち、水、飽
和食塩水で順次洗浄、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン
に溶解し、6規定塩酸で抽出した。塩酸層に炭酸カリウ
ムを加えて液性を中性とし、塩化メチレンで抽出した。 塩化メチレン層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、
濃縮し、(2R* ,3S* ,4R* )−2−(4
−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)オキセタン41
.9g(収率76%)を得た。またトルエン層を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄後
、乾燥、濃縮し(2R* ,3R* ,4R* )−2
−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−メ
タンスルホニルオキシオキセタン56.6g(回収率9
4%)を得た。
フェニル)−3,4−ジメチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタンN
,N−ジメチルホルムアミド1リットル中の1H−1,
2,4−トリアゾール55.3g(0.8mol)に炭
酸カリウム55.3g(0.4mol)を加え、120
℃にて1時間撹拌した。その後(2R* ,4R* )
−2−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2
−メタンスルホニルオキシオキセタン(121.9g,
0.4mol、このものは3S* :3R* ≒1:1
の混合である)を加え、120℃にて7時間撹拌した。 反応液を氷水にあけ酢酸エチルで抽出したのち、水、飽
和食塩水で順次洗浄、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン
に溶解し、6規定塩酸で抽出した。塩酸層に炭酸カリウ
ムを加えて液性を中性とし、塩化メチレンで抽出した。 塩化メチレン層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥、
濃縮し、(2R* ,3S* ,4R* )−2−(4
−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)オキセタン41
.9g(収率76%)を得た。またトルエン層を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄後
、乾燥、濃縮し(2R* ,3R* ,4R* )−2
−(4−クロロフェニル)−3,4−ジメチル−2−メ
タンスルホニルオキシオキセタン56.6g(回収率9
4%)を得た。
【0100】実施例25と同様の反応で以下の化合物が
製造された。
製造された。
【0101】
【化21】
【0102】
─────────────────────────
───────────実施例番号 Ar
物性
─
─────────────────────────
────────── 26 2,4−F
2 −Ph 油状物
27
2−Cl−Ph
油状物
28 2−Cl,4−F−Ph
油状物
29 4−Cl,
2−F−Ph 油状物
30
2,4−Cl2 −Ph 油状物
31 4−OCF3 −Ph
油状物
32 4−Br−Ph
油状物
33
4−CF3 −Ph 油
状物
34 2,6−F2 −Ph
油状物
35 Ph
油状
物
36 2,4−F2 −Ph
融点145〜150℃(修酸塩)
37 2,4−F2 −Ph
融点160〜177℃(硝酸塩) 38
2,4−Cl2 −Ph
融点160〜164℃(硝酸塩) 39
4−Cl−Ph 融点
135〜144℃(硝酸塩) 40
4−Cl−Ph 融点12
9〜142℃(修酸塩) ────────────
────────────────────────実
施例41 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジエチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン融
点 94〜102℃ NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
2(3H,t,J=7.28Hz),0.96(3H,
t,J=7.28Hz),1.11(2H,dq,J=
7.28Hz,7.28Hz),1.3−1.5(1H
,m),1.5−1.7(1H,m),2.90(1H
,dt,J=7.28Hz,8.26Hz),4.12
(1H,ddd,J=3.80Hz,8.26Hz,1
0.10Hz),4.36(1H,d,J=14.65
Hz),4.73(1H,d,J=14.65Hz),
7.3−7.4(4H,m),7.94(1H,s),
8.27(1H,s) MS(m/z):308,306(M+1)+ ,29
3,279,265,250,225,141実施例4
2 (2R* 、3S* 、4R* )−2−(4−フルオ
ロフェニル)−3、4−ジエチル−2−[(1H−1、
2、4−トリアゾ−ル−1−イル)メチル]オキセタン
融点 92ー97 ℃ NMR(CDCl3 )δppm:0.72(3H,t
,J=7.5Hz),0.97(3H,t,J=7.3
Hz),1.12(2H,quint,J=7.5Hz
),1.39−1.70(2H,m),2.88(1H
,q,J=7,5Hz)4.16(1H,ddd,J=
3.8,7.5,10.2Hz),4.40(1H,d
,J=4.6Hz),4.77(1H,d,J=4.6
Hz),7.02−7.13(2H,m),7.32−
7.39(2H,m),7.96(1H,s),8.3
7(1H,s). MS(m/z):290(M+1)+ ,207.
───────────実施例番号 Ar
物性
─
─────────────────────────
────────── 26 2,4−F
2 −Ph 油状物
27
2−Cl−Ph
油状物
28 2−Cl,4−F−Ph
油状物
29 4−Cl,
2−F−Ph 油状物
30
2,4−Cl2 −Ph 油状物
31 4−OCF3 −Ph
油状物
32 4−Br−Ph
油状物
33
4−CF3 −Ph 油
状物
34 2,6−F2 −Ph
油状物
35 Ph
油状
物
36 2,4−F2 −Ph
融点145〜150℃(修酸塩)
37 2,4−F2 −Ph
融点160〜177℃(硝酸塩) 38
2,4−Cl2 −Ph
融点160〜164℃(硝酸塩) 39
4−Cl−Ph 融点
135〜144℃(硝酸塩) 40
4−Cl−Ph 融点12
9〜142℃(修酸塩) ────────────
────────────────────────実
施例41 (2R* ,3S* ,4R* )−2−(4−クロロ
フェニル)−3,4−ジエチル−2−[(1H−1,2
,4−トリアゾール−1−イル)メチル]オキセタン融
点 94〜102℃ NMR スペクトル( CDCl3)δppm:0.7
2(3H,t,J=7.28Hz),0.96(3H,
t,J=7.28Hz),1.11(2H,dq,J=
7.28Hz,7.28Hz),1.3−1.5(1H
,m),1.5−1.7(1H,m),2.90(1H
,dt,J=7.28Hz,8.26Hz),4.12
(1H,ddd,J=3.80Hz,8.26Hz,1
0.10Hz),4.36(1H,d,J=14.65
Hz),4.73(1H,d,J=14.65Hz),
7.3−7.4(4H,m),7.94(1H,s),
8.27(1H,s) MS(m/z):308,306(M+1)+ ,29
3,279,265,250,225,141実施例4
2 (2R* 、3S* 、4R* )−2−(4−フルオ
ロフェニル)−3、4−ジエチル−2−[(1H−1、
2、4−トリアゾ−ル−1−イル)メチル]オキセタン
融点 92ー97 ℃ NMR(CDCl3 )δppm:0.72(3H,t
,J=7.5Hz),0.97(3H,t,J=7.3
Hz),1.12(2H,quint,J=7.5Hz
),1.39−1.70(2H,m),2.88(1H
,q,J=7,5Hz)4.16(1H,ddd,J=
3.8,7.5,10.2Hz),4.40(1H,d
,J=4.6Hz),4.77(1H,d,J=4.6
Hz),7.02−7.13(2H,m),7.32−
7.39(2H,m),7.96(1H,s),8.3
7(1H,s). MS(m/z):290(M+1)+ ,207.
【0
103】
103】
参考例1
4−クロロフェニルグリオキシル酸エチルクロロベンゼ
ン(22.5 g,0.2mol) 、無水塩化アルミ
ニウム(26.66g,0.2mol) とジクロロメ
タン(50ml)の混合物にクロログリオキシル酸エチ
ル(13.65g,0.1mol) を氷冷下、撹拌し
ながら加えた。添加後、室温で30分間撹拌し、反応混
合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、水洗、希炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄、最後にもう一度水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣を減
圧蒸留して目的物を15.1g得た。
ン(22.5 g,0.2mol) 、無水塩化アルミ
ニウム(26.66g,0.2mol) とジクロロメ
タン(50ml)の混合物にクロログリオキシル酸エチ
ル(13.65g,0.1mol) を氷冷下、撹拌し
ながら加えた。添加後、室温で30分間撹拌し、反応混
合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出、水洗、希炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄、最後にもう一度水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣を減
圧蒸留して目的物を15.1g得た。
【0104】収率 71% 沸点 165℃/6
torr(浴温) NMR スペクトル( CDCl3)δppm:1.3
9(3H,t,J=7,2Hz),4.42(2H,q
,J=7.2Hz),7.45(2H,d,J=8.6
Hz),7.95(2H,d,J=8.6Hz) 参考例2 4−クロロフェニルグリオキシル酸ノルマルブチル4−
クロロフェニルグリオキシル酸エチル(2.12 g,
10mmol) のノルマルブタノール溶液(20ml
)にパラトルエンスルホン酸1水和物(1.05 g,
5.5mmol)を加えた。反応混合物を130℃で1
4時間加熱した後濃縮し残渣を氷にあけ酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。濃縮後得られた残渣を減圧蒸留し、bp. 150
〜165/3mmHgの留分から目的物(2.28 g
,9.5mmol)を得た。
torr(浴温) NMR スペクトル( CDCl3)δppm:1.3
9(3H,t,J=7,2Hz),4.42(2H,q
,J=7.2Hz),7.45(2H,d,J=8.6
Hz),7.95(2H,d,J=8.6Hz) 参考例2 4−クロロフェニルグリオキシル酸ノルマルブチル4−
クロロフェニルグリオキシル酸エチル(2.12 g,
10mmol) のノルマルブタノール溶液(20ml
)にパラトルエンスルホン酸1水和物(1.05 g,
5.5mmol)を加えた。反応混合物を130℃で1
4時間加熱した後濃縮し残渣を氷にあけ酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。濃縮後得られた残渣を減圧蒸留し、bp. 150
〜165/3mmHgの留分から目的物(2.28 g
,9.5mmol)を得た。
【0105】収率 95%
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
8(2H,d,J=8.6Hz),7.50(2H,d
,J=8.6Hz),4.39(2H,t,J=6.7
Hz),1.35 〜1.84(4H,m),0.97
(3H,t,J=8.2Hz)油状物( 150〜16
5℃/3mmHg)参考例2と同様の方法で以下の化合
物が製造された。
8(2H,d,J=8.6Hz),7.50(2H,d
,J=8.6Hz),4.39(2H,t,J=6.7
Hz),1.35 〜1.84(4H,m),0.97
(3H,t,J=8.2Hz)油状物( 150〜16
5℃/3mmHg)参考例2と同様の方法で以下の化合
物が製造された。
【0106】以下に各参考例で製造して得た化合物の各
種データを示す。
種データを示す。
【0107】参考例3
NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
6(2H,d,J=8.8Hz),7.37(2H,d
,J=8.8Hz),5.32(1H,qq,J=6.
3,8.0Hz),1.38(3H,d,J=6.3H
z),1.37(3H,d,J=8.0Hz)油状物 マススペクトル(m/z) :225,167,139
参考例4 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
7(2H,d,J=8.4Hz),7.50(2H,d
,J=8.4Hz),5.16(1H,tq,J=6.
3,7.0Hz),1.10〜1.89(2H,m),
1.39(3H,d,J=6.3Hz),0.97(3
H,t,J=7.5Hz)油状物(165℃/3tor
r) 参考例5 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
5(2H,d,J=9.0Hz),7.50(2H,d
,J=9.0Hz),1.63(9H,s)m.p.
104℃ マススペクトル(m/z) :241(M+1)+,1
41,113参考例6 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
3(2H,d,J=8.6Hz),7.47(2H,d
,J=8.6Hz),4.98(1H,q,J=6.5
Hz),1.30(3H,d,J=6.5Hz),0.
95(9H,s) 油状物 マススペクトル(m/z) :269(M+1)+,1
68,139参考例7 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
7(2H,d,J=8.8Hz),7.50(2H,d
,J=8.8Hz),5.09(1H,tt,J=3.
8,9.0Hz),1.20〜2.08(10H,m) 油状物 (150〜155℃/2mmHg) マススペクトル(m/z) :266(M+),187
,141,111参考例8 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
4(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d
,J=8.8Hz),4.99(1H,dt,J=4.
5,10.9Hz),2.10 〜2.18(1H,m
),1.80 〜2.02(1H,m),1.65 〜
1.77(2H,m),1.45 〜1.60(2H,
m),1.05 〜1.26(2H,m),0.75
〜1.04(10H,m)油状物 参考例9 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
4(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d
,J=8.8Hz),4.99(1H,dt,J=4.
5,10.9Hz),2.10 〜2.18(1H,m
),1.80 〜2.02(1H,m),1.65 〜
1.77(2H,m),1.45 〜1.60(2H,
m),1.05 〜1.26(2H,m),0.75
〜1.04(10H,m)油状物 マススペクトル(m/z) :322(M+),278
,182,139参考例10 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
2(2H,d,J=8.7Hz),7.48(2H,d
,J=8.7Hz),6.94〜7.29(5H,m)
,5.02(1H,dt,J=4.3,10.8Hz)
,2.03〜2.15(1H,m),1.40 〜1.
72(3H,m),0.85 〜1.36(4H,m)
,1.36(3H,s),1.30(3H,s),0.
90(3H,d,J=6.3Hz) 油状物 マススペクトル(m/z) :398(M+),214
,119参考例11 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
3〜7.40(5H,m),7.21(2H,d,J=
8.7Hz),7.12(2H,d,J=8.7Hz)
,5.42(1H,dt,J=5.3,11.0Hz)
,2.76(1H,dt,J=3.7,11.0Hz)
,2.20 〜2.31(1H,m),1.25 〜2
.08(H,m)油状物 参考例12 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
3〜7.40(5H,m),7.21(2H,d,J=
8.7Hz),7.12(2H,d,J=8.7Hz)
,5.42(1H,dt,J=5.3,11.0Hz)
,2.76(1H,dt,J=3.7,11.0Hz)
,2.20 〜2.31(1H,m),1.25 〜2
.08(H,m)油状物 参考例13 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:8.0
1(2H,d,J=7.9Hz),7.48(2H,d
,J=7.9Hz),4.90(1H,dt,J=5.
4,10.2Hz),3.59(1H,dt,J=5.
0,10.2Hz),2.02〜2.24(2H,m)
,1.65 〜1.86(2H,m),1.25 〜1
.60(4H,m)油状物 マススペクトル(m/z) :283(M+1)+,1
85,139参考例14 油状物 マススペクトル(m/z) :324(M+),139
参考例15 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
8(2H,d,J=8.7Hz),7.47(2H,d
,J=8.7Hz),5.03(1H,dt,J=5.
5,10.0Hz),4.68(1H,d,J=7.3
Hz),4.64(1H,d,J=7.3Hz),3.
61(1H,dt,J=4.4,10.0Hz),3.
29(3H,s),2.05 〜2.10(2H,m)
,1.65 〜1.82(2H,m),1.20 〜1
.63(4H,m)油状物 参考例16 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
9(2H,d,J=8.9Hz),7.48(2H,d
,J=8.9Hz),4.90(1H,dt,J=4.
8,8.6Hz),3.70(1H,dt,J=4.8
,8.6Hz),1.20〜2.40(8H,m),0
.83(9H,s),0.05(3H,s),−0.0
2(3H,s) 油状物 マススペクトル(m/z) :397(M+1)+,3
39,244,213,169,141 参考例17 4−クロロフェニルグリオキシル酸 水酸化カリウム(13g,0.23mol)の水溶液(
150ml)に4−クロロフェニルグリオキシル酸エチ
ル(26.1 g,0.12mol)を加え室温で30
分間撹拌した。濃塩酸を加えpHを3にした後析出する
結晶を濾過した。結晶をエタノールに溶解し共沸させる
ことで水を除いて目的化合物(22g,0.12mol
)を得た。
6(2H,d,J=8.8Hz),7.37(2H,d
,J=8.8Hz),5.32(1H,qq,J=6.
3,8.0Hz),1.38(3H,d,J=6.3H
z),1.37(3H,d,J=8.0Hz)油状物 マススペクトル(m/z) :225,167,139
参考例4 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
7(2H,d,J=8.4Hz),7.50(2H,d
,J=8.4Hz),5.16(1H,tq,J=6.
3,7.0Hz),1.10〜1.89(2H,m),
1.39(3H,d,J=6.3Hz),0.97(3
H,t,J=7.5Hz)油状物(165℃/3tor
r) 参考例5 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
5(2H,d,J=9.0Hz),7.50(2H,d
,J=9.0Hz),1.63(9H,s)m.p.
104℃ マススペクトル(m/z) :241(M+1)+,1
41,113参考例6 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
3(2H,d,J=8.6Hz),7.47(2H,d
,J=8.6Hz),4.98(1H,q,J=6.5
Hz),1.30(3H,d,J=6.5Hz),0.
95(9H,s) 油状物 マススペクトル(m/z) :269(M+1)+,1
68,139参考例7 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
7(2H,d,J=8.8Hz),7.50(2H,d
,J=8.8Hz),5.09(1H,tt,J=3.
8,9.0Hz),1.20〜2.08(10H,m) 油状物 (150〜155℃/2mmHg) マススペクトル(m/z) :266(M+),187
,141,111参考例8 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
4(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d
,J=8.8Hz),4.99(1H,dt,J=4.
5,10.9Hz),2.10 〜2.18(1H,m
),1.80 〜2.02(1H,m),1.65 〜
1.77(2H,m),1.45 〜1.60(2H,
m),1.05 〜1.26(2H,m),0.75
〜1.04(10H,m)油状物 参考例9 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
4(2H,d,J=8.8Hz),7.48(2H,d
,J=8.8Hz),4.99(1H,dt,J=4.
5,10.9Hz),2.10 〜2.18(1H,m
),1.80 〜2.02(1H,m),1.65 〜
1.77(2H,m),1.45 〜1.60(2H,
m),1.05 〜1.26(2H,m),0.75
〜1.04(10H,m)油状物 マススペクトル(m/z) :322(M+),278
,182,139参考例10 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
2(2H,d,J=8.7Hz),7.48(2H,d
,J=8.7Hz),6.94〜7.29(5H,m)
,5.02(1H,dt,J=4.3,10.8Hz)
,2.03〜2.15(1H,m),1.40 〜1.
72(3H,m),0.85 〜1.36(4H,m)
,1.36(3H,s),1.30(3H,s),0.
90(3H,d,J=6.3Hz) 油状物 マススペクトル(m/z) :398(M+),214
,119参考例11 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
3〜7.40(5H,m),7.21(2H,d,J=
8.7Hz),7.12(2H,d,J=8.7Hz)
,5.42(1H,dt,J=5.3,11.0Hz)
,2.76(1H,dt,J=3.7,11.0Hz)
,2.20 〜2.31(1H,m),1.25 〜2
.08(H,m)油状物 参考例12 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.2
3〜7.40(5H,m),7.21(2H,d,J=
8.7Hz),7.12(2H,d,J=8.7Hz)
,5.42(1H,dt,J=5.3,11.0Hz)
,2.76(1H,dt,J=3.7,11.0Hz)
,2.20 〜2.31(1H,m),1.25 〜2
.08(H,m)油状物 参考例13 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:8.0
1(2H,d,J=7.9Hz),7.48(2H,d
,J=7.9Hz),4.90(1H,dt,J=5.
4,10.2Hz),3.59(1H,dt,J=5.
0,10.2Hz),2.02〜2.24(2H,m)
,1.65 〜1.86(2H,m),1.25 〜1
.60(4H,m)油状物 マススペクトル(m/z) :283(M+1)+,1
85,139参考例14 油状物 マススペクトル(m/z) :324(M+),139
参考例15 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
8(2H,d,J=8.7Hz),7.47(2H,d
,J=8.7Hz),5.03(1H,dt,J=5.
5,10.0Hz),4.68(1H,d,J=7.3
Hz),4.64(1H,d,J=7.3Hz),3.
61(1H,dt,J=4.4,10.0Hz),3.
29(3H,s),2.05 〜2.10(2H,m)
,1.65 〜1.82(2H,m),1.20 〜1
.63(4H,m)油状物 参考例16 NMR スペクトル( CDCl3)δppm:7.9
9(2H,d,J=8.9Hz),7.48(2H,d
,J=8.9Hz),4.90(1H,dt,J=4.
8,8.6Hz),3.70(1H,dt,J=4.8
,8.6Hz),1.20〜2.40(8H,m),0
.83(9H,s),0.05(3H,s),−0.0
2(3H,s) 油状物 マススペクトル(m/z) :397(M+1)+,3
39,244,213,169,141 参考例17 4−クロロフェニルグリオキシル酸 水酸化カリウム(13g,0.23mol)の水溶液(
150ml)に4−クロロフェニルグリオキシル酸エチ
ル(26.1 g,0.12mol)を加え室温で30
分間撹拌した。濃塩酸を加えpHを3にした後析出する
結晶を濾過した。結晶をエタノールに溶解し共沸させる
ことで水を除いて目的化合物(22g,0.12mol
)を得た。
【0108】収率 100% 融点 >300℃
NMR スペクトル( DMSO−d6)δppm:7
.57(2H,d,J=8.5Hz),7.87(2H
,d,J=8.5Hz)IRスペクトル (cm−1)
:1662,1600,1589参考例18 4−クロロフェニルグリオキシル酸ジフェニルメチル4
−クロロフェニルグリオキシル酸(1.12 g,6.
1mmol)の塩化メチレン溶液(25ml)にオキザ
リルクロライド(3.8g,30mmol) を加え室
温で30分間撹拌した。濃縮乾固させた後アセトニトリ
ル(12ml)を加え懸濁液とする。この懸濁液をベン
ズヒドロール(540mg,2.9mmol) のアセ
トニトリル溶液(10ml)に加え、室温で1時間撹拌
した後トリエチルアミンを加えて中和した。反応液を氷
にあけ酢酸エチルで抽出し水洗した後硫酸マグネシウム
で乾燥した。濃縮後得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付しヘキサン−酢酸エチル9対1で
溶出させ目的化合物(620mg,1.77mmol)
を得た。
NMR スペクトル( DMSO−d6)δppm:7
.57(2H,d,J=8.5Hz),7.87(2H
,d,J=8.5Hz)IRスペクトル (cm−1)
:1662,1600,1589参考例18 4−クロロフェニルグリオキシル酸ジフェニルメチル4
−クロロフェニルグリオキシル酸(1.12 g,6.
1mmol)の塩化メチレン溶液(25ml)にオキザ
リルクロライド(3.8g,30mmol) を加え室
温で30分間撹拌した。濃縮乾固させた後アセトニトリ
ル(12ml)を加え懸濁液とする。この懸濁液をベン
ズヒドロール(540mg,2.9mmol) のアセ
トニトリル溶液(10ml)に加え、室温で1時間撹拌
した後トリエチルアミンを加えて中和した。反応液を氷
にあけ酢酸エチルで抽出し水洗した後硫酸マグネシウム
で乾燥した。濃縮後得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付しヘキサン−酢酸エチル9対1で
溶出させ目的化合物(620mg,1.77mmol)
を得た。
Claims (3)
- 【請求項1】一般式(V) 【化1】 [式中、X1 、X2 及びX3 は同一又は異なって
、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級ハロゲノアルキル基又は低級ハロゲノア
ルコキシ基を示し、Rは低級アルキル基、アラルキル基
、二環式テルペン炭化水素残基又は環上の任意の位置が
低級アルキル基、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコ
キシで置換されていてもよいフェニル基、低級アルコキ
シ基、アラルキル基、水酸基若しくは保護基で保護され
た水酸基で置換されたシクロアルキル基を示す。]で表
される化合物と一般式(VI) 【化2】R1 −CH=CH−R2
(VI)[式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
、低級アルキル基を示す。]で表される化合物とを光照
射下反応を行い、一般式(IV) 【化3】 [式中、X1 、X2 、X3 、R1 、R2 及び
Rは前記と同意義を示す。]で表される化合物を立体選
択的に製造する方法。 - 【請求項2】一般式(II) 【化4】 [式中、X1 、X2 及びX3 は同一又は異なって
、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ハロゲノ低級アルキル基又はハロゲノ低級ア
ルコキシ基を示し、R1 及びR2 は同一又は異なっ
て、低級アルキル基を示し、Yは求核性脱離基を示す。 ]で表わされる化合物と、トリアゾール又はイミダゾー
ルとを反応し、一般式(I) 【化5】 [式中、X1 、X2 、X3 、R1 及びR2 は
前記と同意義を示し、AはN又はCHを示す。]で表わ
される化合物を立体選択的に製造する方法。 - 【請求項3】R1 及びR2 がともにメチル基であり
、X1 がベンゼン環の4位の塩素原子又は弗素原子で
ありX2 及びX3 が水素原子である請求項1乃至2
の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13790591A JPH04360883A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | オキセタン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13790591A JPH04360883A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | オキセタン誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04360883A true JPH04360883A (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=15209423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13790591A Pending JPH04360883A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | オキセタン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04360883A (ja) |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP13790591A patent/JPH04360883A/ja active Pending
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