JPH0613477B2 - ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 - Google Patents
５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物Info
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- JPH0613477B2 JPH0613477B2 JP60091489A JP9148985A JPH0613477B2 JP H0613477 B2 JPH0613477 B2 JP H0613477B2 JP 60091489 A JP60091489 A JP 60091489A JP 9148985 A JP9148985 A JP 9148985A JP H0613477 B2 JPH0613477 B2 JP H0613477B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は新規な５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化
合物に関し、更に詳しくは写真用カプラーの中間体とし
て有用な５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物に
関するものである。
合物に関し、更に詳しくは写真用カプラーの中間体とし
て有用な５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物に
関するものである。
［従来技術］ １Ｈ−ピラゾロ［３，２−Ｃ］−１，２，４−トリアゾ
ール系化合物は写真用カプラー、特にマゼンタカプラー
として有用な化合物で、例えば英国特許１，２５２，４
１８号、米国特許３，７２５，０６７号、ジャーナル・
オブ・ザ・ケミカル・ソサイァティ，パーキン編Ｉ（Jo
urnal of the Chemical Society,Perkin Transactions
Ｉ），１９７７年，２０４７〜２０５２頁にその重要性
が記述されている。
ール系化合物は写真用カプラー、特にマゼンタカプラー
として有用な化合物で、例えば英国特許１，２５２，４
１８号、米国特許３，７２５，０６７号、ジャーナル・
オブ・ザ・ケミカル・ソサイァティ，パーキン編Ｉ（Jo
urnal of the Chemical Society,Perkin Transactions
Ｉ），１９７７年，２０４７〜２０５２頁にその重要性
が記述されている。
この化合物の製造方法については、上記特許、文献およ
びリサーチ・ディスクロジャー（Research Disclosur
e），１２４巻，項目12443（1974年）等に記載されてい
る。それらの製造方法は以下に示す反応スキームで代表
できる。
びリサーチ・ディスクロジャー（Research Disclosur
e），１２４巻，項目12443（1974年）等に記載されてい
る。それらの製造方法は以下に示す反応スキームで代表
できる。
反応スキームＡ（英国特許，米国特許，J.Chem,Soc.） 反応スキームＢ（Research Disclosure） 反応スキームから明らかな如く、５−ヒドラジノ−１Ｈ
−ピラゾール−４−カルボキシレートあるいは３−メル
カプト−４−アミノ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール
が重要な中間体として用いられるが、これらの工程は大
きな欠点を有している。要約すると、 工程(a)および(f)にみられる硫黄の生成。
−ピラゾール−４−カルボキシレートあるいは３−メル
カプト−４−アミノ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール
が重要な中間体として用いられるが、これらの工程は大
きな欠点を有している。要約すると、 工程(a)および(f)にみられる硫黄の生成。
工程(d1)および(d2)における大量の硫酸使用と、それ
に伴なう中和処理および生成する硫酸ナトリウムの処
分。
に伴なう中和処理および生成する硫酸ナトリウムの処
分。
工程(f)での２５０℃という高温。
工程(a)における適用範囲の狭さと低収率。
いずれもが工業化を阻むものであるが、特にの適用範
囲の狭さと低収率は有用な写真用カプラーの開発を不可
能ならしめる最大因子である。
囲の狭さと低収率は有用な写真用カプラーの開発を不可
能ならしめる最大因子である。
［発明の目的］ 本発明の目的は５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化
合物を提供することにあり、更に詳しくは写真用カプラ
ーの中間体として有用な５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾ
ール系化合物を提供することにある。
合物を提供することにあり、更に詳しくは写真用カプラ
ーの中間体として有用な５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾ
ール系化合物を提供することにある。
［発明の構成］ 下記一般式［Ｉ］で表される５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピ
ラゾール系化合物は、優れた写真用カプラーを広範囲に
かつ高収率で製造できる中間体として有用である。
ラゾール系化合物は、優れた写真用カプラーを広範囲に
かつ高収率で製造できる中間体として有用である。
一般式［Ｉ］ 式中、Ｒ１は置換基を有してもよい炭素原子数３〜30の
２級または３級アルキル基もしくは炭素原子数３〜12の
シクロアルキル基を表し、Ｘは水素原子またはハロゲン
原子を表す。Ａはプロトン酸を表しｎは０または正数を
表す。
２級または３級アルキル基もしくは炭素原子数３〜12の
シクロアルキル基を表し、Ｘは水素原子またはハロゲン
原子を表す。Ａはプロトン酸を表しｎは０または正数を
表す。
以下、より具体的に本発明を説明する。
一般式［Ｉ］においてＲ１で表される炭素原子数３〜30
の２級または３級アルキル基は置換されてもよく、具体
的にはイソプロピル基、ｔ−ブチル基、１−エチルペン
チル基、β−ドデシルスルホニル−α，α−ジメチルエ
チル基、γ−ドデシルスルホニル−α，α−ジメチルプ
ロピル基、γ−ドデシルスルホニル−α−メチルプロピ
ル基等が挙げられる。
の２級または３級アルキル基は置換されてもよく、具体
的にはイソプロピル基、ｔ−ブチル基、１−エチルペン
チル基、β−ドデシルスルホニル−α，α−ジメチルエ
チル基、γ−ドデシルスルホニル−α，α−ジメチルプ
ロピル基、γ−ドデシルスルホニル−α−メチルプロピ
ル基等が挙げられる。
Ｒ１で表される炭素原子数３〜12のシクロアルキル基と
しては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロドデシル基等を挙げることが
できる。
しては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロドデシル基等を挙げることが
できる。
一般式［Ｉ］においてＸで表されるハロゲン原子として
は、例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が
挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、より好
ましくは塩素原子である。
は、例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、弗素原子が
挙げられるが、塩素原子、臭素原子が好ましく、より好
ましくは塩素原子である。
一般式［Ｉ］はプロトン酸により形成された塩も包含す
るが、これは本発明の重要構成要素ではなく広範囲の有
機酸、無機酸が用いられる。代表的なものとして、塩
酸、臭化水素酸、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、ピロ
メリティック酸等を挙げることができる。
るが、これは本発明の重要構成要素ではなく広範囲の有
機酸、無機酸が用いられる。代表的なものとして、塩
酸、臭化水素酸、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、ピロ
メリティック酸等を挙げることができる。
本発明の５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物は
対応する５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物を通常
の方法でジアゾ化し次いで還元することにより得られ
る。例えばオーガニック・シンセシス・合冊（Organic
Syntheses Collective Volume），Ｉ巻，４４２頁、ま
たジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサィァティ（Jo
urnal of the Chemical Society），１９７１年，１６
７頁に記載されている方法で合成できる。
対応する５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物を通常
の方法でジアゾ化し次いで還元することにより得られ
る。例えばオーガニック・シンセシス・合冊（Organic
Syntheses Collective Volume），Ｉ巻，４４２頁、ま
たジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサィァティ（Jo
urnal of the Chemical Society），１９７１年，１６
７頁に記載されている方法で合成できる。
ジアゾ化剤としては亜硫酸ナトリウムが一般的に用いら
れる。
れる。
還元剤としては亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイ
ト、亜鉛、錫などが用いられる。その他、パラジウム炭
素触媒を用いての還元を行うこともできる。
ト、亜鉛、錫などが用いられる。その他、パラジウム炭
素触媒を用いての還元を行うこともできる。
反応に用いられる溶剤としては水が好ましいが、有機溶
剤を用いることも可能であり、例えば水と相溶性の溶剤
としてアルコール類（メタノール、エタノール等）、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等を挙げることができる。用いられる溶剤の量
は出発原料のアミノピラゾール１重量部当り１〜1000重
量部、好ましくは５〜100重量部の割合である。
剤を用いることも可能であり、例えば水と相溶性の溶剤
としてアルコール類（メタノール、エタノール等）、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等を挙げることができる。用いられる溶剤の量
は出発原料のアミノピラゾール１重量部当り１〜1000重
量部、好ましくは５〜100重量部の割合である。
ジアゾ化に用いられる酸としては塩酸、硫酸などが好ま
しい。
しい。
次に本発明の化合物の代表的具体例を以下に示すが、本
発明はこれによって限定されない。
発明はこれによって限定されない。
Ｉ−１ Ｉ−２ Ｉ−３ Ｉ−４ Ｉ−５ Ｉ−６ Ｉ−７ Ｉ−８ Ｉ−９ Ｉ−１０ Ｉ−１１ Ｉ−１２ Ｉ−１３ 従来の製造法では、本発明の化合物に相当する５−ヒド
ラジノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの３
位がメチル基の場合でも収率が25％程度と低く、このメ
チル基を２級アルキル基（イソプロピル基、イソブチル
基等）にすると収率が更に低下し、３級アルキル基（ｔ
−ブチル基、ｔ−ペンチル基等）では実質的に合成する
ことができない。
ラジノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの３
位がメチル基の場合でも収率が25％程度と低く、このメ
チル基を２級アルキル基（イソプロピル基、イソブチル
基等）にすると収率が更に低下し、３級アルキル基（ｔ
−ブチル基、ｔ−ペンチル基等）では実質的に合成する
ことができない。
本発明の５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物よ
り写真用マゼンタカプラー１Ｈ−ピラゾロ［３，２−
Ｃ］−１，２，４−トリアゾール系化合物に至る合成経
路は次の如くである。
り写真用マゼンタカプラー１Ｈ−ピラゾロ［３，２−
Ｃ］−１，２，４−トリアゾール系化合物に至る合成経
路は次の如くである。
上記経路中、Ｒ１、Ｘ、Ａおよびｎは一般式［Ｉ］で説
明したＲ１、Ｘ、Ａおよびｎと同義であり、Ｒ２はアル
キル基を表し、Ｙは塩素原子またはヒドロキシ基を表
す。
明したＲ１、Ｘ、Ａおよびｎと同義であり、Ｒ２はアル
キル基を表し、Ｙは塩素原子またはヒドロキシ基を表
す。
このようにして得られる１Ｈ−ピラゾロ［３，２−Ｃ］
−１，２，４−トリアゾール系化合物は、カラー写真感
光材料に用いられるマゼンタカプラーとして従来最も多
く使用されてきた５−ピラゾロン系カプラーにみられる
430nm近辺の２次吸収がない、或いは長波長部の切れが
シャープな点で近年注目されているカプラーである。
−１，２，４−トリアゾール系化合物は、カラー写真感
光材料に用いられるマゼンタカプラーとして従来最も多
く使用されてきた５−ピラゾロン系カプラーにみられる
430nm近辺の２次吸収がない、或いは長波長部の切れが
シャープな点で近年注目されているカプラーである。
本発明の化合物より誘導される６位に２級または３級ア
ルキル基もしくはシクロアルキル基を有する１Ｈ−ピラ
ゾロ［３，２−Ｃ］−１，２，４−トリアゾール系カプ
ラーは、特に耐光性に優れたマゼンタ色素を形成する有
用な写真用カプラーである。これらのカプラーを従来の
製造法により合成しようとしても、非常に低収率である
か或いは全然得られず工業化はできない。
ルキル基もしくはシクロアルキル基を有する１Ｈ−ピラ
ゾロ［３，２−Ｃ］−１，２，４−トリアゾール系カプ
ラーは、特に耐光性に優れたマゼンタ色素を形成する有
用な写真用カプラーである。これらのカプラーを従来の
製造法により合成しようとしても、非常に低収率である
か或いは全然得られず工業化はできない。
次に本発明の５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール系化合
物より誘導される１Ｈ−ピラゾロ［３，２−Ｃ］−１，
２，４−トリアゾール系化合物の代表的具体例を以下に
示す。
物より誘導される１Ｈ−ピラゾロ［３，２−Ｃ］−１，
２，４−トリアゾール系化合物の代表的具体例を以下に
示す。
Ｍ−１ Ｍ−２ Ｍ−３ Ｍ−４ Ｍ−５ Ｍ−６ Ｍ−７ Ｍ−８ ［実施例］ 以下、本発明の化合物の合成および本発明の化合物から
誘導される写真用カプラーの合成について具体例を挙げ
て説明する。
誘導される写真用カプラーの合成について具体例を挙げ
て説明する。
合成例−１（例示化合物Ｉ−４の合成） １３．９ｇの５−アミノ−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−ピラ
ゾールを150mlのクロロホルムに溶解する。１３．３ｇ
のＮ−クロロコハク酸イミドを０〜５℃で添加した後30
分反応させる。反応液は50mlの５％炭酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄、次いで水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾
燥する。クロロホルムを40℃以下で減圧留去し、残渣に
１００mlの６Ｎ塩酸を加え−５〜０℃で７ｇの亜硝酸ナ
トリウムを含む水溶液20ｇを滴下する。30分後、更に50
ｇの塩化第１錫・２水塩を35mlの濃塩酸に溶解した溶液
を−５〜０℃で滴下する。−５〜０℃で30分攪拌し析出
した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄
する。自然乾燥により１３．２ｇ（５８．７％）の３−
ｔ−ブチル−４−クロロ−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラ
ゾール・塩酸塩を得た。融点１６５℃（分解） C7H13ClN4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：３７．３４ Ｈ：６．２７ Ｃｌ：３
１．５０ Ｎ：２４．８９ 実測値（％）Ｃ：３７．３０ Ｈ：６．２１ Ｃｌ：３
１．４８ Ｎ：２４．９５ ＦＤマススペクトルが１８８を示し、この化合物が目的
とするＩ−４の構造を有することを支持した。
ゾールを150mlのクロロホルムに溶解する。１３．３ｇ
のＮ−クロロコハク酸イミドを０〜５℃で添加した後30
分反応させる。反応液は50mlの５％炭酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄、次いで水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾
燥する。クロロホルムを40℃以下で減圧留去し、残渣に
１００mlの６Ｎ塩酸を加え−５〜０℃で７ｇの亜硝酸ナ
トリウムを含む水溶液20ｇを滴下する。30分後、更に50
ｇの塩化第１錫・２水塩を35mlの濃塩酸に溶解した溶液
を−５〜０℃で滴下する。−５〜０℃で30分攪拌し析出
した結晶を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄
する。自然乾燥により１３．２ｇ（５８．７％）の３−
ｔ−ブチル−４−クロロ−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラ
ゾール・塩酸塩を得た。融点１６５℃（分解） C7H13ClN4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：３７．３４ Ｈ：６．２７ Ｃｌ：３
１．５０ Ｎ：２４．８９ 実測値（％）Ｃ：３７．３０ Ｈ：６．２１ Ｃｌ：３
１．４８ Ｎ：２４．９５ ＦＤマススペクトルが１８８を示し、この化合物が目的
とするＩ−４の構造を有することを支持した。
合成例−２（例示化合物Ｉ−３の合成） １３．９ｇの５−アミノ−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−ピラ
ゾールを１００mlの６Ｎ塩酸に溶解し、−５〜０℃で７
ｇの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20ｇを滴下する。30
分後、更に50ｇの塩化第１錫・２水塩を35mlの濃塩酸に
溶解した溶液を−５〜０℃で滴下する。その後、同温度
で30分攪拌し10ｇの食塩を加え析出した結晶を濾取、濃
塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄する。自然乾燥によ
り８．０ｇ（４４．４％）の３−ｔ−ブチル−５−ヒド
ラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩を得た。融点２２０
℃（分解） C7H14N4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：４４．０９ Ｈ：７．９３ Ｃｌ：１
８．６０ Ｎ：２９．３８ 実測値（％）Ｃ：４４．０１ Ｈ：７．８８ Ｃｌ：１
８．６２ Ｎ：２９．４４ ＦＤマススペクトルが１５４を示し、上記の構造を支持
した。
ゾールを１００mlの６Ｎ塩酸に溶解し、−５〜０℃で７
ｇの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20ｇを滴下する。30
分後、更に50ｇの塩化第１錫・２水塩を35mlの濃塩酸に
溶解した溶液を−５〜０℃で滴下する。その後、同温度
で30分攪拌し10ｇの食塩を加え析出した結晶を濾取、濃
塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄する。自然乾燥によ
り８．０ｇ（４４．４％）の３−ｔ−ブチル−５−ヒド
ラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩を得た。融点２２０
℃（分解） C7H14N4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：４４．０９ Ｈ：７．９３ Ｃｌ：１
８．６０ Ｎ：２９．３８ 実測値（％）Ｃ：４４．０１ Ｈ：７．８８ Ｃｌ：１
８．６２ Ｎ：２９．４４ ＦＤマススペクトルが１５４を示し、上記の構造を支持
した。
合成例−３（例示化合物Ｉ−２の合成） 合成例−１の１３．９ｇの５−アミノ−３−ｔ−ブチル
−１Ｈ−ピラゾールを１２．５ｇの１Ｈ−５−アミノ−
３−イソプロピルピラゾールに代えた以外は合成例−１
と全く同様の操作により３−イソプロピル−４−クロロ
−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩９．５ｇ
（４５．０％）を得た。融点１５８℃（分解） C6H11ClN4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：３４．１３ Ｈ：５．７３ Ｃｌ：３
３．５９ Ｎ：２６．５ 実測値（％）Ｃ：３４．１９ Ｈ：５．６７ Ｃｌ：３
３．６１ Ｎ：２６．４７ ＦＤマススペクトル値は１７４を示した。
−１Ｈ−ピラゾールを１２．５ｇの１Ｈ−５−アミノ−
３−イソプロピルピラゾールに代えた以外は合成例−１
と全く同様の操作により３−イソプロピル−４−クロロ
−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩９．５ｇ
（４５．０％）を得た。融点１５８℃（分解） C6H11ClN4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：３４．１３ Ｈ：５．７３ Ｃｌ：３
３．５９ Ｎ：２６．５ 実測値（％）Ｃ：３４．１９ Ｈ：５．６７ Ｃｌ：３
３．６１ Ｎ：２６．４７ ＦＤマススペクトル値は１７４を示した。
合成例−４（例示化合物Ｉ−１の合成） １２．５ｇの５−アミノ−３−イソプロプル−１Ｈ−ピ
ラゾールを40mlの６Ｎ塩酸に溶解し（一部懸濁）し、−
５〜０℃で７ｇの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20ｇを
滴下する。30分後、44ｇの亜硫酸ナトリウムを含む水溶
液１８０ｇを氷冷下に加えた後、内温80℃以下で減圧濃
縮する。１２０mlの水を留去した処で濃縮を止め60mlの
濃塩酸を加え５時間還流する。冷却により析出した結晶
を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄する。自
然乾燥により５．５ｇ（３１．１％）の３−イソプロピ
ル−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩を得
た。融点２０８℃（分解） C6H12N4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：４０．７９ Ｈ：７．４２ Ｃｌ：２
０．０７ Ｎ：３１．７２ 実測値（％）Ｃ：４０．７２ Ｈ：７．３９ Ｃｌ：２
０．０５ Ｎ：３１．７９ ＦＤマススペクトルが１４０を示し、上記の構造を支持
した。
ラゾールを40mlの６Ｎ塩酸に溶解し（一部懸濁）し、−
５〜０℃で７ｇの亜硝酸ナトリウムを含む水溶液20ｇを
滴下する。30分後、44ｇの亜硫酸ナトリウムを含む水溶
液１８０ｇを氷冷下に加えた後、内温80℃以下で減圧濃
縮する。１２０mlの水を留去した処で濃縮を止め60mlの
濃塩酸を加え５時間還流する。冷却により析出した結晶
を濾取、濃塩酸で次いでアセトニトリルで洗浄する。自
然乾燥により５．５ｇ（３１．１％）の３−イソプロピ
ル−５−ヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール・塩酸塩を得
た。融点２０８℃（分解） C6H12N4・HClとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：４０．７９ Ｈ：７．４２ Ｃｌ：２
０．０７ Ｎ：３１．７２ 実測値（％）Ｃ：４０．７２ Ｈ：７．３９ Ｃｌ：２
０．０５ Ｎ：３１．７９ ＦＤマススペクトルが１４０を示し、上記の構造を支持
した。
上記合成例と同様にして合成した例示化合物の特性値を
表−１に示す。
表−１に示す。
合成例−５ １１．２ｇの例示化合物Ｉ−４を１００mlのアセトニト
リルに分散し、−５℃を保ちながら16ｇのトリエチルア
ミンを加える。更に８．１ｇのオクタノイルクロリドを
20mlのアセトニトリルに溶解した液を−５℃以下で滴下
する。反応液を濃縮した後カラムクロマトグラフィーで
分離精製し、カラメル状の目的物９．７ｇ（62％）を得
た。
リルに分散し、−５℃を保ちながら16ｇのトリエチルア
ミンを加える。更に８．１ｇのオクタノイルクロリドを
20mlのアセトニトリルに溶解した液を−５℃以下で滴下
する。反応液を濃縮した後カラムクロマトグラフィーで
分離精製し、カラメル状の目的物９．７ｇ（62％）を得
た。
C15H27ClN4Oとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：５７．２２ Ｈ：８．６５ Ｎ：１
７．８０ Ｃｌ：１１．２６ 実測値（％）Ｃ：５７．１８ Ｈ：８．５９ Ｎ：１
７．８３ Ｃｌ：１１．２５ ＦＤマススペクトル値は３１４を示した。
７．８０ Ｃｌ：１１．２６ 実測値（％）Ｃ：５７．１８ Ｈ：８．５９ Ｎ：１
７．８３ Ｃｌ：１１．２５ ＦＤマススペクトル値は３１４を示した。
ＮＭＲ（溶媒CDCl3，基準ＴＭＳ）がδ＝０．８５ ３
Ｈ（ｔ），δ＝１．２２ ８Ｈ（ｍ），δ＝１．３２
９Ｈ（ｓ），δ＝１．５１ ２Ｈ（ｍ），δ＝２．０８
２Ｈ（ｔ），δ＝６．５７ １Ｈ（ｄ），δ＝８．７
３ １Ｈ（ｄ）を示し、ＦＤマススペクトルと共に上記
の構造を支持した。
Ｈ（ｔ），δ＝１．２２ ８Ｈ（ｍ），δ＝１．３２
９Ｈ（ｓ），δ＝１．５１ ２Ｈ（ｍ），δ＝２．０８
２Ｈ（ｔ），δ＝６．５７ １Ｈ（ｄ），δ＝８．７
３ １Ｈ（ｄ）を示し、ＦＤマススペクトルと共に上記
の構造を支持した。
合成例−６（例示カプラーＭ−３の合成） ６．２ｇの３−ｔ−ブチル−４−クロロ−５−オクタノ
イルヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール（合成例−５で得ら
れた化合物）を60mlのベンゼン、３．２ｇのオキシ塩化
燐と共に攪拌下に３時間還流する。反応液をカラムクロ
マトグラフィーで分離精製し、４．１ｇ（69％）の６−
ｔ−ブチル−７−クロロ−３−ヘプチル−１Ｈ−ピラゾ
ロ［３，２−Ｃ］−１，２，４−トリアゾールを得た。
イルヒドラジノ−１Ｈ−ピラゾール（合成例−５で得ら
れた化合物）を60mlのベンゼン、３．２ｇのオキシ塩化
燐と共に攪拌下に３時間還流する。反応液をカラムクロ
マトグラフィーで分離精製し、４．１ｇ（69％）の６−
ｔ−ブチル−７−クロロ−３−ヘプチル−１Ｈ−ピラゾ
ロ［３，２−Ｃ］−１，２，４−トリアゾールを得た。
融点46〜49℃ C15H25N4Clとしての元素分析値 計算値（％）Ｃ：６０．６９ Ｈ：８．４９ Ｃｌ：１
１．９４ Ｎ：１８．８８ 実測値（％）Ｃ：６０．６１ Ｈ：８．５２ Ｃｌ：１
１．８９ Ｎ：１８．８４ ＦＤマススペクトルは２９６を示した。
１．９４ Ｎ：１８．８８ 実測値（％）Ｃ：６０．６１ Ｈ：８．５２ Ｃｌ：１
１．８９ Ｎ：１８．８４ ＦＤマススペクトルは２９６を示した。
ＮＭＲ（溶媒CDCl3，基準ＴＭＳ）がδ＝０．８６ ３
Ｈ（ｔ），δ＝１．２６ ８Ｈ（ｍ），δ＝１．４３
９Ｈ（ｓ），δ＝１．８５ ２Ｈ（ｍ），δ＝２．９３
２Ｈ（ｔ），δ＝９．６８ １Ｈ（ｓ）を示しＦＤマ
ススペクトルと共に上記構造を支持した。
Ｈ（ｔ），δ＝１．２６ ８Ｈ（ｍ），δ＝１．４３
９Ｈ（ｓ），δ＝１．８５ ２Ｈ（ｍ），δ＝２．９３
２Ｈ（ｔ），δ＝９．６８ １Ｈ（ｓ）を示しＦＤマ
ススペクトルと共に上記構造を支持した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川島 保彦 東京都日野市さくら町１番地 小西六写真 工業株式会社内 審査官 塚中 直子
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式［Ｉ］で表される５−ヒドラジ
ノ−１Ｈ−ピラゾール系化合物。 一般式［Ｉ］ ［式中、Ｒ１は置換基を有してもよい炭素原子数３〜30
の２級もしくは３級アルキル基または炭素原子数３〜12
のシクロアルキル基を表し、Ｘは水素原子またはハロゲ
ン原子を表す。Ａはプロトン酸を表しｎは０または正数
を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091489A JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091489A JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249968A JPS61249968A (ja) | 1986-11-07 |
| JPH0613477B2 true JPH0613477B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=14027826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60091489A Expired - Lifetime JPH0613477B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613477B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH675420A5 (ja) * | 1986-03-29 | 1990-09-28 | Agfa Gevaert Ag | |
| JPH072743B2 (ja) * | 1988-10-21 | 1995-01-18 | 富士写真フイルム株式会社 | １Ｈ−ピラゾロ〔５，１−ｃ〕−１，２，４−トリアゾール類およびピラゾール誘導体の製造方法 |
| IL103678A (en) * | 1991-11-13 | 1996-09-12 | Schering Ag | History of pyrazolylpyrazole, processes for their preparation and herbicidal preparations containing them |
| AU676213B2 (en) * | 1992-10-12 | 1997-03-06 | Yashima Chemical Industry Co. Ltd. | New substituted pyrazole derivatives, processes for their preparation and their use as herbicides |
| US5457210A (en) * | 1994-04-22 | 1995-10-10 | Eastman Kodak Company | Intermediates for the preparation of pyrazoloazole photographic couplers, processes of making and using them |
| CN114105878B (zh) * | 2021-11-29 | 2023-10-13 | 安徽理工大学 | 3-氨基-5-肼基吡唑含能离子盐及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033552A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-02-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−画像形成方法 |
-
1985
- 1985-04-29 JP JP60091489A patent/JPH0613477B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61249968A (ja) | 1986-11-07 |
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