JPH04360899A - 生理活性ペンタペプチドの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、生理活性ペンタペプチ
ドの製法並びに該製法中に生成する中間体及びそれらの
製法に係り、さらに詳しくは、アレルギー反応遮断ポリ
ペプチドの一である、次式：

【０００２】

【化１０】

【０００３】で示されるペンタペプチド、すなわち、Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−
プロリル−Ｌ−アルギニンの新規製法並びに該製法中に
生成する中間体及びそれらの製法に関するものである。

【０００４】

【従来の技術】上記のペンタペプチドはペンチゲタイド
とも呼ばれ、ＩｇＥ−肥胖細胞（好塩基球）反応を阻害
する、有用なアレルギー反応遮断ポリペプチドの一つと
して知られている（特公昭６０−２３１８号公報、米国
特許第４，１６１，５２２号明細書）。このペンタペプ
チドの製法については、上記特公昭６０−２３１８号公
報及び米国特許第４，１６１，５２２号明細書に、固相
法による段階的合成法が開示されているにすぎない。こ
の固相法を工程図で示すと次のとおりである。

【０００５】

【化１１】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この固
相法による方法は、工業的にかつ安価にこのペンタペプ
チドを大量に製造する方法としては、工程数、中間体の
単離のしやすさ、収率などの点から満足しうるものでは
なかった。

【０００７】本発明者らは、この従来の固相法にかわる
液相法により、工業的に有利に、しかも、安価にペンタ
ペプチドを製造する方法を見出さんと鋭意研究を行った
結果、安価に入手できるか、あるいは製造できる保護ア
ミノ酸を用いることができ、フラグメント縮合を効率的
に組み込んで通常使用される簡便な縮合法を適用するこ
とができ、しかも、中間体として得られる化合物の単離
、精製が容易で、かつ、収率もよい、液相法によるペン
タペプチドの製造法を確立することに成功した。

【０００８】本発明の製造法は、すなわち、

【化１２】

【０００９】（但し、Ｒ１　及びＲ３　はカルボキシル
基保護基、Ｒ２　はグアニジノ基保護基、Ｒ６　はアミ
ノ基保護基を表わす）で示されるトリペプチドのアスパ
ラギン酸部分から、アミノ基保護基を除去して、一般式

【００１０】

【化１３】

【００１１】（但し、Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ３　は前記
と同一の意味を有する）で示されるカルボキシル保護型
トリペプチドを製造し、この生成物（ＩＩ）と一般式

【
００１２】

【化１４】

【００１３】（但し、Ｒ４　はアミノ基保護基、Ｒ５　
はカルボキシル基保護基を表す）で示されるアミノ保護
型ジペプチドとをフラグメント縮合させて、一般式

【０
０１４】

【化１５】

【００１５】（但し、Ｒ１　〜Ｒ５　は前記と同一の意
味を有する）で示されるペンタペプチドを製造し、次い
でこの生成物（ＩＶ）から保護基を除去することを特徴
とする、式

【００１６】

【化１６】

【００１７】で示されるＬ−アスパルチル−Ｌ−セリル
−Ｌーアスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−アルギニンの
製法である。

【００１８】本発明の製造法は、次の工程図によって示
される。なお、本明細書において、本発明を記述する便
宜上、各種アミノ酸は慣例の略号で記述した。この略号
は、本発明の技術分野においてはよく知られたものであ
るが、明確化のために、本発明に関係あるものを以下に
列記する。アミノ酸残基の旋光性は特に明示のない限り
、天然型すなわち、Ｌ−立体配置型である。ペプチド配
列は、常法によって記述したものであって、Ｎ−末端ア
ミノ酸が左側に、Ｃ−末端アミノ酸が右側にくる。

【００１９】Ａｓｐ　　　　　　　：アスパラギン酸残
基Ａｒｇ　　　　　　　：アルギニン残基Ｐｒｏ　　　
　　　　：プロリン残基 Ｓｅｒ　　　　　　　：セリン残基 Ｈ−Ａｓｐ−ＯＨ　　：アスパラギン酸Ｈ−Ｓｅｒ−Ｏ
Ｈ　　：セリン Ｈ−Ｐｒｏ−ＯＨ　　：プロリン Ｂｏｃ　　　　　　　：ｔ−ブトキシカルボニルＺ　　
　　　　　　　：ベンジルオキシカルボニルＢｚｌ　　
　　　　　：ベンジル Ｈ−Ａｒｇ（ＮＯ２）−ＯＢｚｌ　：ＮＧ　−ニトロ−
Ｌ−アルギニンベンジルエステル ＨＯＳｕ　　　　　　：Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド
ＤＣＣ　　　　　　　：ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドＭＡ　　　　　　　　：混酸無水物法

【００２０】本発明方法の工程図

【００２１】

【化１７】

【００２２】本発明の方法において、アミノ基保護基（
Ｒ４　、Ｒ６　）、カルボキシル基保護基（Ｒ１　、Ｒ
３　、Ｒ５　）及びグアニジノ基保護基（Ｒ２　）とし
ては、いずれもペプチド合成化学の分野で通常用いられ
る種々の保護基を含むが、このうち、アミノ基保護基と
しては、例えば、ホルミル基；アセチル基；ｔ−ブトキ
シカルボニル基；ｔ−アミルオキシカルボニル基；ベン
ジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル基、ｐ−クロロベンジルオキシカルボニル基
の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカルボニル基
、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、３，４−ジメ
トキシベンジル基の如き置換もしくは非置換ベンジル基
；ｐ−トルエンスルホニル基；ジー又はトリフェニルメ
チル基；ジー又はトリフェニルメチルオキシカルボニル
基；イソボルニルオキシカルボニル基；ジフェニルホス
フィニル基；ジフェニルホスフィノチオイル基などが含
まれる。 また、カルボキシル基の保護基としては、例えばメチル
基；エチル基；ｔ−ブチル基、ベンジル基、ｐ−メトキ
シベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ニトロベン
ジル基の如き置換もしくは非置換ベンジル基；ジフェニ
ルメチル基；トリメチルシリル基などが含まれる。更に
、グアニジノ基の保護基としては、例えばニトロ基、ｐ
−ニトロベンジル基などが含まれる。

【００２３】これらの各保護基は、縮合方法の種類、保
護基の除去法などを考慮に入れて、適宜組合せて使用す
るのが好ましい。本発明方法における好ましい組合せの
例としては、Ｒ１　、Ｒ３　及びＲ５　が、同一又は異
なって、ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−クロ
ロベンジル基又はｔ−ブチル基、Ｒ２　がニトロ基、Ｒ
４　及びＲ６　が、同一又は異なって、ホルミル基、ｔ
−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基
又はｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基である場
合があげられる。より好ましい例としては、Ｒ１　、Ｒ
３　及びＲ５　がベンジル基、Ｒ２がニトロ基、Ｒ４　
がｔ−ブトキシカルボニル基、Ｒ６　がベンジルオキシ
カルボニル基である場合があげられる。

【００２４】以下、各工程につき詳細に説明する。 第１工程 アミノ及びカルボキシル保護型トリペプチド（Ｖ）にお
けるアスパラギン酸部分からのアミノ基保護基（Ｒ６　
）の除去は、アミノ基の種類に応じて、加水分解、加溶
媒分解、酸処理、還元等により常法に従って実施できる
。 例えば、アミノ基保護基がホルミル基、アセチル基、ｔ
−ブトキシカルボニル基、ｔ−アミルオキシカルボニル
基、置換又は非置換ベンジルオキシカルボニル基、トリ
フェニルメチル基、ジー又はトリフェニルメチルオキシ
カルボニル基、ジフェニルホスフィニル基、ジフェニル
ホスフィノチオイル基あるいはイソボルニルオキシカル
ボニル基の場合には、酸処理で除去することができる。 酸としては、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸、フ
ッ化水素酸等の有機酸もしくは無機酸をいずれも使用で
きる。反応は、無溶媒下または適当な溶媒（例えば、メ
タノール、エタノール、ジオキサン、酢酸エチル、メチ
レンクロリド、クロロホルム等）中、約０〜６０℃で容
易に進行する。更に、アミノ基保護基が置換または非置
換ベンジルオキシカルボニル基、置換または非置換ベン
ジル基、ジフェニルメチル基、ｐ−トルエンスルホニル
基等の場合には接触還元あるいは液安還元により除去し
てもよい。接触還元反応は、例えば触媒（パラジウム・
炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、酸化白金、ラ
ネーニッケル、ラネーコバルト等）の存在下、溶媒（例
えば水、メタノール、エタノール、酢酸、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンあるいはこれらの混液等）中、１０
〜６０℃で常圧〜加圧下で実施することができる。

【００２５】また、液安還元は、液体アンモニア中、金
属ナトリウムの存在下で好適に実施することができる。

【００２６】かくして得られるカルボニル保護型トリペ
プチド（ＩＩ）は、公知方法により単離することができ
るが、例えば酸処理により脱保護を行なった場合には、
該トリペプチド（ＩＩ）は酸付加塩として単離されるた
め、これをアルカリで中和したのち有機溶媒で抽出し、
遊離塩基として次工程に用いるのが便利である。

【００２７】第２工程 カルボキシル保護型トリペプチド（ＩＩ）とアミノ保護
型ジペプチド（ＩＩＩ）とのフラグメント縮合は、この
技術分野で通常用いられる方法で実施される。例えば、
アミノ保護型ジペプチド（ＩＩＩ）をその反応性誘導体
（活性エステル、混酸無水物など）としたのち、カルボ
キシ保護型トリペプチド（ＩＩ）と縮合させることによ
り実施できる。活性エステルの例としては、Ｎ−ヒドロ
キシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドある
いは１−ヒドロキシベンズトリアゾールとのエステル、
ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェニ
ルエステルがあげられ、これら活性エステルは、ジペプ
チド（ＩＩＩ）と対応するアルコール類とを縮合剤（例
えば、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ´−モルホリノカルボジイミド、
オキシ塩化リン、三塩化リン、塩化チオニル、シュウ酸
クロリド）の存在下、溶媒中で−２０〜４０℃、好まし
くは−５〜２０℃で反応させて製造することができる。 溶媒としては、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチ
レンクロリド、クロロホルムなどを使用することができ
る。一方、混酸無水物の例としては、アルキル炭酸、リ
ン酸誘導体あるいは硫酸などとの混酸無水物があげられ
るが、とりわけ、アルキル炭酸混酸無水物が好ましい。 アルキル炭酸との混酸無水物は、例えばジペプチド（Ｉ
ＩＩ）とハロゲン炭酸アルキル（例えば、クロル炭酸イ
ソブチル、クロル炭酸エチルとを塩基の存在下、溶媒中
で−４０℃〜室温で反応させて製造することができる。 塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン
、Ｎ−メチルモルホリン等があげられ、溶媒としてはテ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン
、トルエン、クロロホルム、酢酸エチルなどがあげられ
る。

【００２８】上記の如くして得られるアミノ保護型ジペ
プチド（ＩＩＩ）の反応性誘導体とカルボキシル保護型
トリペプチド（ＩＩ）との縮合は、溶媒中塩基の存在下
又は非存在下で実施することができる。溶媒としては、
水、アセトン、エタノール、イソプロパノール、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホル
ムアミド、メチレンクロリド、クロロホルムあるいはこ
れらの混合物などをあげることができる。塩基としては
前記のトリアルキルアミン、ピリジン、Ｎ−アルキルモ
ルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、水酸化ナトリウ
ムなどの水酸化アルカリ金属、炭酸カリウムなどの炭酸
アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
などの炭酸水素アルカリ金属、等の有機もしくは無機塩
基をあげることができる。反応は、−３０〜５０℃、と
りわけ−３０〜３０℃でスムースに進行する。

【００２９】上記の如くして得られるトリペプチド（Ｉ
Ｖ）は精製することなく、そのまま次工程に供してもよ
く、また所望により、例えば酢酸エチル、酢酸エチル−
エーテル混液、エタノール等から最結晶するなどして精
製したのち、次工程に供してもよい。

【００３０】第３工程 ペンタペプチド（ＩＶ）からの保護基の除去は、アミノ
基、カルボキシル基及びグアニジノ基の各保護基の種類
に応じて、酸処理、加水分解、加溶媒分解、還元あるい
はこれらの方法を適宜組合せて実施することができる。

【００３１】例えば、アミノ基の保護基は、前記第１工
程で説明した方法により除去することができ、また、カ
ルボキシル基保護基の除去は、該保護基がｔ−ブチル基
、ジフェニルメチル基、トリメチルシリル基などの場合
には、酸処理により実施することができる。更に、カル
ボキシル基の保護基が、ベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基
などの置換又は非置換ベンジル基である場合には、接触
還元により除去でき、また、メチル基、エチル基の場合
は、アルカリ加水分解により除去できる。

【００３２】一方、グアニジノ基の保護基であるニトロ
基、ｐ−ニトロベンジル基は、接触還元により除去でき
る。酸処理及び接触還元反応は、前記第１工程で説明し
たと同様の条件で実施することができ、アルカリ加水分
解は、例えば溶媒（水、メタノール、エタノール、これ
らの混液など）中、アルカリ（水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウムなど）の存在下、冷却〜加
温下で実施できる。

【００３３】なお、各保護基の種類を予め適切に選べば
、最終工程において、全ての保護基が一回の脱保護反応
によって除去でき好都合である。

【００３４】かくして得られるペンタペプチド（Ｉ）は
、公知方法により単離・精製することができる。例えば
、反応溶液を滅圧濃縮して得られる目的物をＤｏｗｅｘ
５０（アセテート型）、ＤＥＡＥ−Ｓｅｐｈａｄｅｘな
どの樹脂処理あるいは逆相系の液体クロマトグラフィー
で処理するか、又はメタノール、エタノールなどの低級
アルカノール中で懸濁処理することにより精製し、凍結
乾燥することにより粉末として得ることができる。

【００３５】上記本発明の方法が従来の技術と比較して
、特に有利な点は、本工程における出発原料であるアミ
ノ及びカルボキシル保護型トリペプチド（Ｖ）、アミノ
保護型ジペプチド（ＩＩＩ）が収率良く、結晶として得
ることができること、また、上記トリペプチドのアミノ
基保護基を除去したカルボキシル保護型トリペプチド（
ＩＩ）と上記ジペプチド（ＩＩＩ）のフラグメント縮合
が活性エステル化法や混酸無水物法によってもほとんど
ラセミ化を伴なうことなく、好収率で進行すること、さ
らには、セリン部の水酸基を無保護で縮合反応が行える
こと等をあげることができる。従って、本発明は、ペン
タペプチド（Ｉ）の経済的に有利な工業的製法となるも
のである。

【００３６】本発明における出発原料であるトリペプチ
ド（Ｖ）は、例えば、

【００３７】

【化１８】

【００３８】（但し、Ｒ１　及びＲ６　は前記と同一の
意味を有する）で示されるアミノ保護型アスパラギン酸
とプロリンとを縮合させて、アミノ保護型ジペプチド（
ＶＩＩ）

【００３９】

【化１９】

【００４０】（但し、Ｒ１　及びＲ６　は前記と同一の
意味を有する）を製造し、この生成物（ＶＩＩ）と

【０
０４１】

【化２０】

【００４２】（但し、Ｒ２　及びＲ３　は前記と同一の
意味を有する）で示されるカルボキシル保護型アルギニ
ンとを縮合させて製造することができる。

【００４３】一方、アミノ保護型ジペプチド（ＩＩＩ）
は、

【００４４】

【化２１】

【００４５】（但し、Ｒ４　及びＲ５　は前記と同一の
意味を有する）で示されるアミノ保護型アスパラギン酸
とセリンとを縮合させて製造することができる。

【００４６】上記の縮合反応はいずれも、第２工程で説
明した縮合方法により実施することができる。

【００４７】

【実施例】

実施例１ Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パルチル−Ｌ−プロリン・ジシクロヘキシルアミン塩の
調製

【００４８】

【化２２】

【００４９】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパラギン酸（Ｉ）９７ｇ（０．３ｍｏｌ）
とＮ−ヒドロキシコハク酸イミド３５．２ｇ（０．３０
６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン６００ｍｌに溶かし、
５℃に冷却、ジシクロヘキシルカルボジイミド６３．１
ｇ（０．３０６ｍｏｌ）を添加し、室温で５時間撹拌し
た。不溶部をろ別、ろ液を減圧濃縮し、活性エステルを
得た。

【００５０】別に、Ｌ−プロリン３４．５ｇ（０．３ｍ
ｏｌ）とトリエチルアミン３０．４ｇ（０．３ｍｏｌ）
を、エタノール４５０ｍｌとクロロホルム４５０ｍｌと
の混液に加熱溶解し、室温に冷却した。この溶液に上記
活性エステルのクロロホルム２００ｍｌ溶液を滴下し、
室温で４０分撹拌した。反応液を減圧濃縮したのち、残
渣に酢酸エチルを加え、０．５Ｍクエン酸で酸性とし、
有機層を分取、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた油状残渣
をジイソプロピルエーテル７００ｍｌに溶かし、氷水で
冷却し、これに、ジシクロヘキシルアミン（ＤＣＨＡ）
５４．４ｇ（０．３ｍｏｌ）を加え、放置した。析出晶
をろ取、無色結晶として、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリン・ジ
シクロヘキシルアミン塩を得た。収量１４４．０４ｇ（
７９．８％）、ｍｐ１２２〜１２３℃、［α］Ｄ　２５
　　−２９．５°（ｃ＝１、ＤＭＦ）

【００５１】実施例２ Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギ
ニンベンジルエステルの調製

【００５２】

【化２３】

【００５３】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリン９２．５ｇ（０．
２２ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２２０ｍｌに溶かし
、−２０℃に冷却、Ｎ−メチルモルホリン２２．３ｇ（
０．２２ｍｏｌ）を滴下、次いで、クロル炭酸イソブチ
ル３０ｇ（０．２２ｍｏｌ）を−１５℃以下で滴下し、
−１５℃で、１０分間撹拌することにより混酸無水物溶
液を調製した。

【００５４】別に、ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベ
ンジルエステル・２ｐ−トルエンスルホン酸塩１４３．
８ｇ（０．２２ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド１４０
ｍｌとテトラヒドロフラン１４０ｍｌの混液に溶かし、
Ｎ−メチルモルホリン４５．６ｇ（０．４５１ｍｏｌ）
を加え、−５℃に冷却した。この溶液を前記混酸無水物
溶液に−１５℃以下で滴下した。滴下後、室温で３時間
撹拌し、反応液を減圧濃縮、残渣に酢酸エチル５００ｍ
ｌを加え、順次、水、０．５Ｍクエン酸水、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水、水、飽和食塩水を用いて洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、
得られた油状残渣を酢酸エチル３００ｍｌに溶かし、一
夜、撹拌した。析出晶をろ取、酢酸エチル１５ｍｌ、酢
酸エチル−ジイソプロピルエーテル（２：１）混液３０
ｍｌ、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを用いて順次
に洗浄したのち、乾燥すると、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル
−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルが
無色結晶として得られた。収量１１８ｇ（７５．４％）
ｍｐ１１６〜１１９℃、［α］Ｄ　２７−６３．６°（
ｃ＝１、ＣＨＣｌ３）

【００５５】実施例３ β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ
　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルの調製

【
００５６】

【化２４】

【００５７】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
−Ｌ−アルギニンベンジルエステル１４２．４ｇ（０．
２ｍｏｌ）をメチレンクロリド４７０ｍｌに溶かし、５
℃に冷却後、トリフルオロロ酢酸（ＴＦＡ）２８５ｍｌ
を同温で滴下し、滴下後室温で１時間撹拌した。反応液
を減圧濃縮後、残渣に酢酸エチルを加え、再濃縮した。 残留物に酢酸エチル２０００ｍｌとテトラヒドロフラン
１０００ｍｌの混液を加え、さらに炭酸カリウム水溶液
を加えてアルカリ性とした。水層を酢酸エチル１０００
ｍｌで再抽出後、有機層に合した。水洗後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、β−ベンジル
−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−
Ｌ−アルギニンベンジルエステルを淡黄色油状物として
得た。

【００５８】本品は更に精製することなく次の反応に使
用した。収量１２０ｇ（９８％）

【００５９】実施例４ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−セリンの調製

【００６０】

【化２５】

【００６１】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパラギン酸８９．３ｇ（０．２５ｍｏｌ
）とＮ−ヒドロキシコハク酸イミド２９．３ｇ（０．２
５５ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶かし
、５℃に冷却後、ジシクロヘキシルカルボジイミド５２
．６ｇ（０．２５５ｍｏｌ）を添加し、室温で１４時間
撹拌した。 不溶部をろ別、ろ液を減圧濃縮し、油状の活性エステル
を得た。

【００６２】Ｌ−セリンを炭酸水素ナトリウム２４．２
ｇの水１８３ｍｌ溶液に溶かし、５℃に冷却した後、こ
れに上記活性エステルのテトラヒドロフラン２７５ｍｌ
溶液を５〜１０℃で滴下する。滴下後、室温で１．５時
間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、テトラヒドロフラン
を留去し、得られた水溶液に水１００ｍｌを加え、稀釈
し、酢酸エチルで洗浄した。水層を５℃に冷却し、１０
％塩酸を加えｐＨ３に調整し、撹拌した。析出晶をろ取
、水、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、乾燥すること
により、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル
−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリンを無色結晶として得た
。

【００６３】収量７３．１ｇ（６５．８％）、ｍｐ．　
１５６〜１５９℃（分解）、［α］Ｄ　２５＋４．７°
（ｃ＝１、ＤＭＦ）

【００６４】実施例５ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパル
チル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニン
ベンジルエステルの調製

【００６５】

【化２６】

【００６６】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリン４．４ｇ（１０ｍ
ｍｏｌ）とＮ−ヒドロキシコハク酸イミド１．１７ｇ（
１０．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶
かし、５℃に冷却後、ジシクロヘキシルカルボジイミド
２．１ｇ（１０．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹
拌した。次いで、β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ
−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジル
エステル７．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌ溶液を５℃で滴下したのち、室温で２時間撹
拌した。不溶物をろ別、ろ液を減圧濃縮後、残渣を酢酸
エチルに溶かし、１％塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム水、飽和食塩水で順次で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去後、残渣
を酢酸エチル７０ｍｌに溶かし、室温で２４時間撹拌し
た。析出する固形物をろ取、酢酸エチル２０ｍｌ、ジイ
ソプロピルエーテル７０ｍｌで洗浄した。得られた粉末
を酢酸エチル１５０ｍｌに加熱溶解し、室温にて一夜撹
拌晶析し、固形物をろ取、酢酸エチル５０ｍｌ、ジイソ
プロピルエーテル７０ｍｌで洗浄することにより、Ｎ−
ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパ
ルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル
−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベン
ジルエステルを無色粉末として得た。［α］Ｄ　２７−
１５．０°（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３）

【００６７】実施例
６ Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ
−プロリル−Ｌ−アルギニンの調製

【００６８】

【化２７】

【００６９】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−
アルギニンベンジルエステル４１．５ｇ（０．０４ｍｏ
ｌ）を酢酸−メタノール（１：１）混液８３０ｍｌに溶
かし、パラジウム黒８．３ｇの存在下、３．５気圧、１
６時間接触還元した。反応後、触媒をろ去、ろ液を減圧
濃縮し、残渣に水を加え、全溶を１００ｍｌとする。こ
の溶液をエタノール１０００ｍｌ中に注加、撹拌した。 沈澱した固体をろ取、エタノール次いでジイソプロピル
エーテルで洗浄後、減圧乾燥し、粗製のＬ−アスパルチ
ル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ
−アルギニンを得た。

【００７０】本品を水に溶かし、　Ｄｏｗｅｘ５０（ア
セテート型）に吸着、水で洗浄後、水から０．２Ｍ酢酸
に徐々に濃度を上げ溶出した。目的画分を集め、凍結乾
燥し、高純度のペンチゲタイドを得た。収量１６．４ｇ
（６９．８％）

【００７１】

【発明の効果】本発明の方法が従来の技術と比較して、
特に有利な点は、本工程における重要中間体であるＮ−
ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパ
ルチル−Ｌ−セリンおよびＮ−ｔ−ブトキシカルボニル
−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｎ
Ｇ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルが収率
良く、結晶として、単離精製することができること、ま
た、上記トリペプチドのｔ−ブトキシカルボニル保護基
を除去したβ−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロ
リル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステ
ルとＮ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−セリンのフラグメント縮合がほと
んどラセミ化を伴なうことなく、好収率で進行すること
、さらには、セリン部の水酸基を無保護で縮合反応が行
えること等をあげることができる。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式 【化１】 （但し、Ｒ１　及びＲ３　はカルボキシル基保護基、Ｒ
   ２　はグアニジノ基保護基を表す）で示されるカルボキ
   シル保護型トリペプチドと、一般式 【化２】 （但し、Ｒ４　はアミノ基保護基、Ｒ５　はカルボキシ
   ル基保護基を表す）で示されるアミノ保護型ジペプチド
   とをフラグメント縮合させて、一般式 【化３】 （但し、Ｒ１　〜Ｒ５　は前記と同一の意味を有する）
   で示されるペンタペプチドを製造し、次いでこの生成物
   （ＩＶ）から保護基を除去することを特徴とする、式【
   化４】 で示されるＬ−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパ
   ルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−アルギニンの製法。
2. 【請求項２】　　一般式 【化５】 （但し、Ｒ１　及びＲ３　はカルボキシル基保護基、Ｒ
   ２　はグアニジノ基保護基、Ｒ６　はアミノ基保護基を
   表す）で示されるトリペプチドのアスパラギン酸部分か
   ら、アミノ基保護基を除去して、一般式 【化６】 （但し、Ｒ１　、Ｒ２　及びＲ３　は前記と同一の意味
   を有する）で示されるカルボキシル保護型トリペプチド
   を製造し、この生成物（ＩＩ）と、一般式 【化７】 （但し、Ｒ４　はアミノ基保護基、Ｒ５　はカルボキシ
   ル基保護基を表す）で示されるアミノ保護型ジペプチド
   とをフラグメント縮合させて、一般式 【化８】 （但し、Ｒ１　〜Ｒ５　は前記と同一の意味を有する）
   で示されるペンタペプチドを製造し、次いでこの生成物
   （ＩＶ）から保護基を除去することを特徴とする、式【
   化９】 で示されるＬ−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌーアスパ
   ルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−アルギニンの製法。
3. 【請求項３】　　Ｌ−セリンの反応性側鎖を保護するこ
   となくフラグメント縮合させる請求項１又は２記載の製
   法。
4. 【請求項４】　　Ｒ１　、Ｒ３　及びＲ５　が、同一又
   は異なって、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ジフ
   ェニルメチル基、トリメチルシリル基、及び置換又は非
   置換ベンジル基から選ばれるカルボキシル基保護基、Ｒ
   ２　がニトロ基及びｐ−ニトロベンジル基から選ばれる
   グアニジノ基保護基、Ｒ４　及びＲ６　が、同一又は異
   なって、ホルミル基、アセチル基、ｔ−ブトキシカルボ
   ニル基、ｔ−アミルオキシカルボニル基、ｐ−トルエン
   スルホニル基、置換又は非置換ベンジルオキシカルボニ
   ル基、ジー又はトリフェニルメチルオキシカルボニル基
   、置換又は非置換ベンジル基、ジー又はトリフェニルメ
   チル基、イソボルニルオキシカルボニル基、ジフェニル
   ホスフィニル基及びジフェニルホスフィノチオイル基か
   ら選ばれるアミノ基保護基である請求項３記載の製法。
5. 【請求項５】　　Ｒ１　、Ｒ３　及びＲ５　が、同一又
   は異なって、ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−
   クロロベンジル基又はｔ−ブチル基、Ｒ２　がニトロ基
   、Ｒ４　及びＲ６　が、同一又は異なって、ホルミル基
   、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニ
   ル基又はｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基であ
   る請求項４記載の製法。
6. 【請求項６】　　Ｒ１　、Ｒ３　及びＲ５　がベンジル
   基、Ｒ２　がニトロ基、Ｒ４　がｔ−ブトキシカルボニ
   ル基、Ｒ６　がベンジルオキシカルボニル基である請求
   項５記載の製法。
7. 【請求項７】　　Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベ
   ンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−−ＮＧ　−
   ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル。
8. 【請求項８】　　Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−
   ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジ
   ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
   −Ｌ−アルギニンベンジルエステル。