JPH0436227U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0436227U JPH0436227U JP7760890U JP7760890U JPH0436227U JP H0436227 U JPH0436227 U JP H0436227U JP 7760890 U JP7760890 U JP 7760890U JP 7760890 U JP7760890 U JP 7760890U JP H0436227 U JPH0436227 U JP H0436227U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulator
- vacuum chamber
- chamber
- semiconductor manufacturing
- neutralizing
- Prior art date
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- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図はこの考案の半導体製造用真空装置のチ
ヤンバー構成を示す平面図である。 １……ウエーハ、２……ロードロツクチヤンバ
ー、３……セパレーシヨンチヤンバー、４……Ｒ
Ｆエツチチヤンバー、５……スパツタチヤンバー
、６……静電チヤンバー、７……絶縁体。
ヤンバー構成を示す平面図である。 １……ウエーハ、２……ロードロツクチヤンバ
ー、３……セパレーシヨンチヤンバー、４……Ｒ
Ｆエツチチヤンバー、５……スパツタチヤンバー
、６……静電チヤンバー、７……絶縁体。
Claims (1)
- 独立した真空チヤンバー内で絶縁体を帯電・除
電する装置と、帯電した絶縁体を、隣接する真空
チヤンバーへ搬送・回収する機構を備えたことを
特徴とする半導体製造用真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760890U JPH0436227U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760890U JPH0436227U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436227U true JPH0436227U (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=31620154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7760890U Pending JPH0436227U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0436227U (ja) |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP7760890U patent/JPH0436227U/ja active Pending