JPH0436265A - アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 - Google Patents
アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法Info
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- JPH0436265A JPH0436265A JP14272190A JP14272190A JPH0436265A JP H0436265 A JPH0436265 A JP H0436265A JP 14272190 A JP14272190 A JP 14272190A JP 14272190 A JP14272190 A JP 14272190A JP H0436265 A JPH0436265 A JP H0436265A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/78—Halides of sulfonic acids
- C07C309/86—Halides of sulfonic acids having halosulfonyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
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- C07C303/08—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof by substitution of hydrogen atoms by sulfo or halosulfonyl groups by reaction with halogenosulfonic acids
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、医薬品、染料、エンジニアリングプラスティ
ックなどの原料として有用な、新規なアルキルベンゼン
ジスルホニルハライド及びその製造方法に関し、更に詳
しくは、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化スルホニ
ル基を導入した新規化合物及びその製造方法に関する。
ックなどの原料として有用な、新規なアルキルベンゼン
ジスルホニルハライド及びその製造方法に関し、更に詳
しくは、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化スルホニ
ル基を導入した新規化合物及びその製造方法に関する。
従来の技術
芳香族スルホニル化合物は、医薬品や染料等の合成中間
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
従来よりアルキルベンゼンとハロゲン化スルポン酸とを
反応させて、アルキルベンゼンに一つのハロゲン化スル
ホニル基を導入する方法はよく知られている。
反応させて、アルキルベンゼンに一つのハロゲン化スル
ホニル基を導入する方法はよく知られている。
しかしながら、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化ス
ルホニル基が導入された化合物及びその合成方法は知ら
れていない。
ルホニル基が導入された化合物及びその合成方法は知ら
れていない。
発明の開示
本発明の目的とするところは、アルキルベンゼンにハロ
ゲン化スルホニル基を二つ導入した新規化合物を合成す
ることにある。
ゲン化スルホニル基を二つ導入した新規化合物を合成す
ることにある。
本発明者は、アルキルベンゼンのスルホニル化反応に関
して鋭意研究を進めた結果、アルキルベンゼンとハロゲ
ン化スルホン酸とを、加熱下もしくはルイス酸の存在下
、或いは双方の下に反応させることにより、アルキルベ
ンゼンに二つのノ＼ロゲン化スルホニル基を導入し得る
ことを見圧し、本発明を完成するに至った。
して鋭意研究を進めた結果、アルキルベンゼンとハロゲ
ン化スルホン酸とを、加熱下もしくはルイス酸の存在下
、或いは双方の下に反応させることにより、アルキルベ
ンゼンに二つのノ＼ロゲン化スルホニル基を導入し得る
ことを見圧し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記の化合物及びその製造法に係る：
■ 一般式
（式中、Ｒ，、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくは０１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。
■ 一般式
％式％（２）
（式中、Ｘはハロゲンを示す。）
で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式（式中、Ｒ
４，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ１２のアル
キル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨである場合
を除く。）で表されるアルキルベンゼンとを、加熱下も
しくはルイス酸の存在下、或いは双方の下に反応させる
ことを特徴とする一般式 （式中、ＲＩ ＊ Ｒ２＊ Ｒ３＊ Ｒ４はＨもしくは
Ｃ４〜Ｃ１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の
全てがＨである場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す
。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
４，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ１２のアル
キル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨである場合
を除く。）で表されるアルキルベンゼンとを、加熱下も
しくはルイス酸の存在下、或いは双方の下に反応させる
ことを特徴とする一般式 （式中、ＲＩ ＊ Ｒ２＊ Ｒ３＊ Ｒ４はＨもしくは
Ｃ４〜Ｃ１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の
全てがＨである場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す
。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
■ 一般式
％式％（２）
（式中、Ｘはハロゲンを示す。）
で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式（式中、Ｒ
５，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくは０１〜Ｃ１２のアル
キル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨである場合
を除く。）で表されるアルキルベンゼンモノスルホニル
ハライドとを、加熱下もしくはルイス酸の存在下、或い
は双方の下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２１Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
Ｉ２のアルキル基を示す。但し、Ｒ２−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除（。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
５，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくは０１〜Ｃ１２のアル
キル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨである場合
を除く。）で表されるアルキルベンゼンモノスルホニル
ハライドとを、加熱下もしくはルイス酸の存在下、或い
は双方の下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２１Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
Ｉ２のアルキル基を示す。但し、Ｒ２−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除（。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
ハロゲン化スルホン酸は、強酸として知られており、１
００％硫酸よりも遥かに強い酸である。
００％硫酸よりも遥かに強い酸である。
このハロゲン化スルホン酸にアルキルベンゼンを加える
と反応が生じて、ハロゲン化スルホニル基がアルキルベ
ンゼンに導入される。この場合、ハロゲン化スルホニル
基は一つしか導入されず、アルキルベンゼンのアルキル
基のパラ位又はオルト位に導入される。
と反応が生じて、ハロゲン化スルホニル基がアルキルベ
ンゼンに導入される。この場合、ハロゲン化スルホニル
基は一つしか導入されず、アルキルベンゼンのアルキル
基のパラ位又はオルト位に導入される。
本発明によれば、上記ハロゲン化スルホン酸とアルキル
ベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、或
いは双方の下に行なったときは、通常の撹拌をするだけ
で二つのハロゲン化スルホニル基が導入され、目的のア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドを得ることができ
る。この場合、一方のハロゲン化スルホニル基は上記と
同様アルキル基のパラ位もしくはオルト位に導入される
が、もう一方のハロゲン化スルホニル基は前者のメタ位
に導入される。反応の一例を次式に示す。
ベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、或
いは双方の下に行なったときは、通常の撹拌をするだけ
で二つのハロゲン化スルホニル基が導入され、目的のア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドを得ることができ
る。この場合、一方のハロゲン化スルホニル基は上記と
同様アルキル基のパラ位もしくはオルト位に導入される
が、もう一方のハロゲン化スルホニル基は前者のメタ位
に導入される。反応の一例を次式に示す。
上記一般式（３）で表わされるアルキルベンゼンとして
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが挙げられ
る。より具体的には、モノアルキルベンゼンとしては、
例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、
ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシルベンゼン
等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有する化合物
、ジアルキルベンゼンとしては、例えば０−キシレン、
ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、Ｏ−ジエチルベンゼン、
ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、０−ジ
プロピルベンゼン、ｍ−ジプロピルベンゼン、ｐ−ジプ
ロピルベンゼン、０−ジブチルベンゼン、ｍ−ジブチル
ベンゼン、ｐ−ジブチルベンゼン等のベンゼン核に二つ
のアルキル置換基を有する化合物、トリアルキルベンゼ
ンとしては、例えば１，２，３４リメチルベンゼン、１
．２．４．−１リメチルベンゼン、１，３．５−トリメ
チルベンゼン、１．３．５−１リエチルベンゼン、１，
３．５−）−ジプロピルベンゼン等のベンゼン核に三つ
のアルキル置換基を有する化合物、テトラアルキルベン
ゼンとしては、例えば１．２．３．４−テトラメチルベ
ンゼン、１，２゜３．５−テトラメチルベンゼン、１，
２．４．５−テトラメチルベンゼン等のベンゼン核に四
つのアルキル置換基を有する化合物が挙げられる。また
、本発明では、これらアルキルベンゼンに代わって一般
式 （式中、Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３，ＲｊはＨもしくは０１〜Ｃ
Ｉ２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。） で表されるアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
原料として使用することもできる。
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが挙げられ
る。より具体的には、モノアルキルベンゼンとしては、
例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、
ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシルベンゼン
等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有する化合物
、ジアルキルベンゼンとしては、例えば０−キシレン、
ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、Ｏ−ジエチルベンゼン、
ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、０−ジ
プロピルベンゼン、ｍ−ジプロピルベンゼン、ｐ−ジプ
ロピルベンゼン、０−ジブチルベンゼン、ｍ−ジブチル
ベンゼン、ｐ−ジブチルベンゼン等のベンゼン核に二つ
のアルキル置換基を有する化合物、トリアルキルベンゼ
ンとしては、例えば１，２，３４リメチルベンゼン、１
．２．４．−１リメチルベンゼン、１，３．５−トリメ
チルベンゼン、１．３．５−１リエチルベンゼン、１，
３．５−）−ジプロピルベンゼン等のベンゼン核に三つ
のアルキル置換基を有する化合物、テトラアルキルベン
ゼンとしては、例えば１．２．３．４−テトラメチルベ
ンゼン、１，２゜３．５−テトラメチルベンゼン、１，
２．４．５−テトラメチルベンゼン等のベンゼン核に四
つのアルキル置換基を有する化合物が挙げられる。また
、本発明では、これらアルキルベンゼンに代わって一般
式 （式中、Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３，ＲｊはＨもしくは０１〜Ｃ
Ｉ２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１−Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。） で表されるアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
原料として使用することもできる。
上記一般式（２）で示されるハロゲン化スルホン酸とし
ては、例えばフルオロスルホン酸、クロロスルホン酸等
が挙げられる。
ては、例えばフルオロスルホン酸、クロロスルホン酸等
が挙げられる。
本発明方法の合成反応における一般式（２）のハロゲン
化スルホン酸と一般式（３）のアキルベンゼンの使用割
合としては、特に限定されないが、通常後者に対して前
者を２〜２０倍モル量程度、好ましくは５〜１０倍モル
ｉ用いるのがよい。またアルキルベンゼンに代えて一般
式（４）のアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
使用するときも上記と同量を使用することができる。
化スルホン酸と一般式（３）のアキルベンゼンの使用割
合としては、特に限定されないが、通常後者に対して前
者を２〜２０倍モル量程度、好ましくは５〜１０倍モル
ｉ用いるのがよい。またアルキルベンゼンに代えて一般
式（４）のアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
使用するときも上記と同量を使用することができる。
本発明において、加熱下に反応を進める場合、一般に反
応系を５０〜１５０℃程度、より好ましくは７０〜１１
０℃の温度とするのが望ましい。
応系を５０〜１５０℃程度、より好ましくは７０〜１１
０℃の温度とするのが望ましい。
しかしながら、原料のハロゲン化スルホン酸として特に
クロロスルホン酸を用いたときには、室温付近の反応温
度でもゆっくりと反応が進む。従って、本発明における
加熱とは、２０〜１５０°Ｃ程度の温度にすることを指
す。アルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成速度
は、反応温度に依存耕し、該反応温度を上記範囲内で高
くすればす上記合成反応は、必要に応じ、例えばクロロ
ホルム、四塩化炭素等の溶媒中で行なわれ得る。
クロロスルホン酸を用いたときには、室温付近の反応温
度でもゆっくりと反応が進む。従って、本発明における
加熱とは、２０〜１５０°Ｃ程度の温度にすることを指
す。アルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成速度
は、反応温度に依存耕し、該反応温度を上記範囲内で高
くすればす上記合成反応は、必要に応じ、例えばクロロ
ホルム、四塩化炭素等の溶媒中で行なわれ得る。
また、ルイス酸の存在下に反応を行なう場合、反応速度
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従って、ルイス酸の添加量が多ければア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成量は多くな
るが、効果的且つ実用的にはルイス酸をハロゲン化スル
ホン酸に対して０．０５〜０．５倍モル量程度、好まし
くは０．１〜０．３倍モル量添加するのが望ましい。
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従って、ルイス酸の添加量が多ければア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成量は多くな
るが、効果的且つ実用的にはルイス酸をハロゲン化スル
ホン酸に対して０．０５〜０．５倍モル量程度、好まし
くは０．１〜０．３倍モル量添加するのが望ましい。
このときの反応時間も加熱によるときと同様、適宜選択
することができる。上記ルイス酸としては、例えば五フ
ッ化アンチモン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アン
チモンが挙げられる。
することができる。上記ルイス酸としては、例えば五フ
ッ化アンチモン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アン
チモンが挙げられる。
更に本発明では、ルイス酸の存在下に加熱して反応を進
行させてもよく、より効果的に目的物を得ることができ
る。
行させてもよく、より効果的に目的物を得ることができ
る。
本発明では、反応途中又は反応終了後、例えば反応混合
物を水中に注ぎ、ベンゼン抽出して目的物のアルキルベ
ンゼンジスルホニルハライドを回収することができる。
物を水中に注ぎ、ベンゼン抽出して目的物のアルキルベ
ンゼンジスルホニルハライドを回収することができる。
また、得られたアルキルベンゼンジスルホニルハライド
は、再結晶又は蒸留することにより精製され得る。
は、再結晶又は蒸留することにより精製され得る。
実施例
次に実施例により本発明を更に詳細に説明する。
尚、生成物の構造は、ＮＭＲ，ＩＲ，質量分析により確
認された。
認された。
実施例 １
フルオロスルホン酸１０．０ ｇ （１００ｍＴ５ｏ１
）に、１００℃でトルエン１．８４ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、１５時間攪拌した後、反応液を水中に注ぎ
、ベンゼンで抽出して、４−メチルベンゼン−１，３−
ジスルホニルフルオライド１．５９ｇ（収率３１％）を
得た。
）に、１００℃でトルエン１．８４ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、１５時間攪拌した後、反応液を水中に注ぎ
、ベンゼンで抽出して、４−メチルベンゼン−１，３−
ジスルホニルフルオライド１．５９ｇ（収率３１％）を
得た。
物性値
ＩＲ（ｃ「１）：１５９０．１４００，１２００゜８５
０．７５０ Ｈ−ＮＭＲδ （ＣＤＣＱ３ ）： ２、 ９０ （ｓ、 ３Ｈ，ＣＨ３）７、 ７−８
． ９ （ｍ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）
ＭＳ ：Ｍ＋＋１＝２５７ 融点： ８３−８４℃ 実施例 ２ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、１００℃で０−キシレン２． １２ｇ （２０ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、５時間攪拌した後、実施例１と同様にし
て処理し、４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスル
ホニルフルオライド１． ８１ｇ（収率３３％）を得た
。
０．７５０ Ｈ−ＮＭＲδ （ＣＤＣＱ３ ）： ２、 ９０ （ｓ、 ３Ｈ，ＣＨ３）７、 ７−８
． ９ （ｍ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）
ＭＳ ：Ｍ＋＋１＝２５７ 融点： ８３−８４℃ 実施例 ２ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、１００℃で０−キシレン２． １２ｇ （２０ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、５時間攪拌した後、実施例１と同様にし
て処理し、４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスル
ホニルフルオライド１． ８１ｇ（収率３３％）を得た
。
物性値
ＩＲ（ｃ「１）：１４１０，１３９０，１２３０゜１２
００．８４０．７６５ ’Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．５８ （ｓ、３Ｈ，−ＣＨ５） ２．７７ （ｓ、３Ｈ，ＣＨ３） ８、 ２５ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）８、 ６５ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＋１＝２５８ 融点＋ ５７−５８℃ 実施例 ３ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、８０°Ｃでｍ−キシレン２． １２ ｇ （２０ｍｍ
ｏｌ）を滴下し、５時間攪拌した後、実施例１と同様に
して処理し、２，４−ジメチルベンゼン−１，５−ジス
ルホニルフルオライド２．０３ｇ（収率３８％）を得た
。
００．８４０．７６５ ’Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．５８ （ｓ、３Ｈ，−ＣＨ５） ２．７７ （ｓ、３Ｈ，ＣＨ３） ８、 ２５ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）８、 ６５ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＋１＝２５８ 融点＋ ５７−５８℃ 実施例 ３ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、８０°Ｃでｍ−キシレン２． １２ ｇ （２０ｍｍ
ｏｌ）を滴下し、５時間攪拌した後、実施例１と同様に
して処理し、２，４−ジメチルベンゼン−１，５−ジス
ルホニルフルオライド２．０３ｇ（収率３８％）を得た
。
物性値
ＩＲ（ｃｍ−’）：１５９０，１４０５．１２０５゜１
−２００，９７０，７７０ ＋Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣ＆３）： ２．７９ （ｓ、６Ｈ，ＣＨ３） ７、 ６０ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ
）８、 ７０ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ： Ｍ” ＝２７０ 融点：１０８−１０９℃ 実施例 ４ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、１００℃でｐ−キシレン２．１２ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、３時間攪拌した後、実施例１と同様にして
処理し、２，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホ
ニルフルオライド１． ６９ｇ（収率３１％）を得た。
−２００，９７０，７７０ ＋Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣ＆３）： ２．７９ （ｓ、６Ｈ，ＣＨ３） ７、 ６０ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ
）８、 ７０ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ： Ｍ” ＝２７０ 融点：１０８−１０９℃ 実施例 ４ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、１００℃でｐ−キシレン２．１２ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、３時間攪拌した後、実施例１と同様にして
処理し、２，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホ
ニルフルオライド１． ６９ｇ（収率３１％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ−’）：１４６５．１４００．１２Ｂ０゜１
２００．８１０，７７０ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣΩ３）： ２、 ５９ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨａ ）３、０１ （
ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨ３）８、３８ （ｓ、 ２Ｈ，ａ
ｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＝２７０ 融点： ８５−８６℃ 実施例 ５ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、８０℃でメシチレン２．４０ ｇ （２０ｍｍｏｌ）
を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様にして処
理し、２．４．６−）リメチルベンゼンー１．３−ジス
ルホニルフルオライド３．６４ｇ（収率３２％）を得た
。
２００．８１０，７７０ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣΩ３）： ２、 ５９ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨａ ）３、０１ （
ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨ３）８、３８ （ｓ、 ２Ｈ，ａ
ｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＝２７０ 融点： ８５−８６℃ 実施例 ５ フルオロスルホン酸１０．０ｇ （１００ｍｍｏｌ）に
、８０℃でメシチレン２．４０ ｇ （２０ｍｍｏｌ）
を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様にして処
理し、２．４．６−）リメチルベンゼンー１．３−ジス
ルホニルフルオライド３．６４ｇ（収率３２％）を得た
。
物性値
ＩＲ（ｃ「１）：１５６５，１４０５．１１９５゜６８
５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）： ２．７８ （ｓ、６Ｈ，ＣＨ３） ３．０５ （ｔ、３Ｈ，ＣＨ３、Ｊ＝３Ｈｚ）７、４２
（ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：
Ｍ” ＝２８４ 融点ニア０−７１°Ｃ 実施例 ６ フルオロスルホン酸１０． ０ｇ （１００ｍｍｏｌ）
に、１００°Ｃでドデシルベンゼン４．９３ｇ（２０ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様
にして処理し、４−ドデシルベンセン１．３−ジスルホ
ニルフルオライド２．４１ｇ（収率２９％）を得た。
５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）： ２．７８ （ｓ、６Ｈ，ＣＨ３） ３．０５ （ｔ、３Ｈ，ＣＨ３、Ｊ＝３Ｈｚ）７、４２
（ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：
Ｍ” ＝２８４ 融点ニア０−７１°Ｃ 実施例 ６ フルオロスルホン酸１０． ０ｇ （１００ｍｍｏｌ）
に、１００°Ｃでドデシルベンゼン４．９３ｇ（２０ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様
にして処理し、４−ドデシルベンセン１．３−ジスルホ
ニルフルオライド２．４１ｇ（収率２９％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ−’）：１５８５，１４０５，１１９０゜８
４５．７４５ ’Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）： １．５〜３．０ （ｍ、２５Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ３） ７、 ６−９． ０ （ｍ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉ
ｃ Ｈ）ＭＳ：Ｍ＋＝４１０ 融点：１１７−１１８℃ 実施例 ７ クロロスルホン酸６． ９９ｇ （６０ｍｍｏｌ）に、
２５℃でトルエン１．８４ ｇ （２０ｍｍｏｌ）を滴
下し、６４時間攪拌した後、実施例１と同様にして処理
し、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホニルクロラ
イド３．０１−ｇ（収率５２％）を得た。
４５．７４５ ’Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）： １．５〜３．０ （ｍ、２５Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ３） ７、 ６−９． ０ （ｍ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉ
ｃ Ｈ）ＭＳ：Ｍ＋＝４１０ 融点：１１７−１１８℃ 実施例 ７ クロロスルホン酸６． ９９ｇ （６０ｍｍｏｌ）に、
２５℃でトルエン１．８４ ｇ （２０ｍｍｏｌ）を滴
下し、６４時間攪拌した後、実施例１と同様にして処理
し、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホニルクロラ
イド３．０１−ｇ（収率５２％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｎ＋−’）：１５８５．１３７５，１１８０１
１６０．８２５，７００ ＋Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）コ ２、 ９２ （ｓ 、 ３ Ｈ，ＣＨ３）７、 ６−８
．８ （ｓ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ
：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２融点： ５０−５１
°Ｃ 実施例 ８ クロロスルホン酸６． ９９ ｇ （６０ｍｍｏりに、
２５℃でｍ−キシレン２． １２ ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、４時間攪拌した後、実施例１と同様にして
処理し、２，４−ジメチルベンゼン−１，５ジスルホニ
ルクロライド３．４０ｇ （収率５６％）を得た。
１６０．８２５，７００ ＋Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱａ）コ ２、 ９２ （ｓ 、 ３ Ｈ，ＣＨ３）７、 ６−８
．８ （ｓ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ
：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２融点： ５０−５１
°Ｃ 実施例 ８ クロロスルホン酸６． ９９ ｇ （６０ｍｍｏりに、
２５℃でｍ−キシレン２． １２ ｇ （２０ｍｍｏｌ
）を滴下し、４時間攪拌した後、実施例１と同様にして
処理し、２，４−ジメチルベンゼン−１，５ジスルホニ
ルクロライド３．４０ｇ （収率５６％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ”）：１５９０，１３６５．１１７５゜１１
５５．７００ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．８５ （ｓ、６Ｈ，−ＣＨ３） ７、 ５２ （Ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ
）８、 ７３ （ｓ、 ＬＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ＋＝３０２，３０４．３０６融点：１１
５−１１６℃ 実施例 ９ フルオロスルホン酸１７．４ ｇ （１７４ｍｍｏｌ）
と五フッ化アンチモン７．４８ｇ （３４，５ｍｍｏｌ
）の混合溶液に、２５℃でメシチレン４．８０ｇ（４０
ｍｍｏｌ）を滴下し、１６時間攪拌した後、実施例１と
同様にして処理し、２．４．６−）ジメチルベンゼン−
１，３−ジスルホニルフルオライド７．５０ｇ（収率６
６％）を得た。
５５．７００ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．８５ （ｓ、６Ｈ，−ＣＨ３） ７、 ５２ （Ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ
）８、 ７３ （ｓ、 ＬＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ＋＝３０２，３０４．３０６融点：１１
５−１１６℃ 実施例 ９ フルオロスルホン酸１７．４ ｇ （１７４ｍｍｏｌ）
と五フッ化アンチモン７．４８ｇ （３４，５ｍｍｏｌ
）の混合溶液に、２５℃でメシチレン４．８０ｇ（４０
ｍｍｏｌ）を滴下し、１６時間攪拌した後、実施例１と
同様にして処理し、２．４．６−）ジメチルベンゼン−
１，３−ジスルホニルフルオライド７．５０ｇ（収率６
６％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｒ’）：１５６５，１４０５．１１９５゜６８
５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ （ＣＤＣ（７３）： ２．７８ （ｓ、６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５ （ｔ、３Ｈ，−ＣＨ３、Ｊ−３Ｈｚ）７、
４２ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）
ＭＳ ： Ｍ” ＝２８４ 融点ニア０−７１６Ｃ 実施例 １０ 撹拌時間を５時間、五フッ化アンチモンの使用量を０，
１３．８．２０．７．２７．６．３４゜５ｍｍｏｌとし
た以外は実施例９と同様にして２，４゜６−ドリメチル
ベンゼンー１．３−ジスルホニルフルオライドを得た。
５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ （ＣＤＣ（７３）： ２．７８ （ｓ、６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５ （ｔ、３Ｈ，−ＣＨ３、Ｊ−３Ｈｚ）７、
４２ （ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）
ＭＳ ： Ｍ” ＝２８４ 融点ニア０−７１６Ｃ 実施例 １０ 撹拌時間を５時間、五フッ化アンチモンの使用量を０，
１３．８．２０．７．２７．６．３４゜５ｍｍｏｌとし
た以外は実施例９と同様にして２，４゜６−ドリメチル
ベンゼンー１．３−ジスルホニルフルオライドを得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ−１）：１５６５．１４０５，１１９５゜６
８５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲａ ）： ２、 ７８ （Ｓ、 ６Ｈ，−ＣＨ３）３．０５
（ｔ、３Ｈ，−ＣＨ３、Ｊ＝３Ｈｚ）７．４２ （
ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：
Ｍ ＋ ＝２８４ 融点＋７０−７１°Ｃ 収率を第１表に示す。
８５．８４５ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲａ ）： ２、 ７８ （Ｓ、 ６Ｈ，−ＣＨ３）３．０５
（ｔ、３Ｈ，−ＣＨ３、Ｊ＝３Ｈｚ）７．４２ （
ｓ、 ＩＨ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：
Ｍ ＋ ＝２８４ 融点＋７０−７１°Ｃ 収率を第１表に示す。
第 １ 表
実施例 １１
フルオロスルホン酸１７．４ ｇ （１７４ｍｍｏｌ）
と五フッ化アンチモン１４．９５ｇ （６９，０ｍｍｏ
ｌ）の混合溶液に、２５℃で２，５−ジメチルベンゼン
スルホニルフルオライド７゜５２ｇ（４０１１１１１１
０１）を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様に
して処理し、２，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジス
ルホニルフルオライド１０．３８ｇ （収率９６％）を
得た。
と五フッ化アンチモン１４．９５ｇ （６９，０ｍｍｏ
ｌ）の混合溶液に、２５℃で２，５−ジメチルベンゼン
スルホニルフルオライド７゜５２ｇ（４０１１１１１１
０１）を滴下し、６時間攪拌した後、実施例１と同様に
して処理し、２，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジス
ルホニルフルオライド１０．３８ｇ （収率９６％）を
得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ”）＋１４６５．１４００，１２３０゜１２
００．８１０，７７０ Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．５９ （ｓ、３Ｈ，−ＣＨ３） ３、 ０１ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨ３）８．３８ （
ｓ、 ２Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：Ｍ＋＝
２７０ 融点： ８５−８６℃ 実施例 １２ クロロスルホン酸１１． ６５ ｇ （１００ｍｍｏｌ
）と五塩化アンチモン２． ３９ ｇ （８ｍｍｏｌ）
の混合溶液に、５０℃でトルエン１．８４ｇ （２０ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、２時間攪拌した後、実施例１と同様
にして処理し、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホ
ニルクロライド１． ３９ｇ （収率２４％）を得た。
００．８１０，７７０ Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＲ３）： ２．５９ （ｓ、３Ｈ，−ＣＨ３） ３、 ０１ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＨ３）８．３８ （
ｓ、 ２Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ Ｈ）ＭＳ ：Ｍ＋＝
２７０ 融点： ８５−８６℃ 実施例 １２ クロロスルホン酸１１． ６５ ｇ （１００ｍｍｏｌ
）と五塩化アンチモン２． ３９ ｇ （８ｍｍｏｌ）
の混合溶液に、５０℃でトルエン１．８４ｇ （２０ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、２時間攪拌した後、実施例１と同様
にして処理し、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホ
ニルクロライド１． ３９ｇ （収率２４％）を得た。
物性値
ＩＲ（ｃｍ−’）：１５８５，１３７５，１１８０゜１
１６０．８２５．７００ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱ３）： ２．９２ （ｓ、３Ｈ，ＣＨ３） ７、６−８．８ （ｓ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＝２８８，２９０，２９２融点：
５０−５１℃ （以 上）
１６０．８２５．７００ ＩＨ−ＮＭＲδ（ＣＤＣＱ３）： ２．９２ （ｓ、３Ｈ，ＣＨ３） ７、６−８．８ （ｓ、 ３Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ
Ｈ）ＭＳ ：Ｍ” ＝２８８，２９０，２９２融点：
５０−５１℃ （以 上）
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４はＨもしくは
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２のアルキル基を示す。但し、Ｒ＿１
〜Ｒ＿４の全てがＨである場合を除く。また、Ｘはハロ
ゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。 - （２）一般式 ＨＳＯ＿３Ｘ （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４はＨもしくは
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２のアルキル基を示す。但し、Ｒ＿１
〜Ｒ＿４の全てがＨである場合を除く。）で表されるア
ルキルベンゼンとを、加熱下もしくはルイス酸の存在下
、或いは双方の下に反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４はＨもしくは
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２のアルキル基を示す。但し、Ｒ＿１
〜Ｒ＿４の全てがＨである場合を除く。また、Ｘはハロ
ゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。 - （３）一般式 ＨＳＯ＿３Ｘ （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４はＨもしくは
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２のアルキル基を示す。但し、Ｒ＿１
〜Ｒ＿４の全てがＨである場合を除く。）で表されるア
ルキルベンゼンモノスルホニルハライドとを、加熱下も
しくはルイス酸の存在下、或いは双方の下に反応させる
ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４はＨもしくは
Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２のアルキル基を示す。但し、Ｒ＿１
〜Ｒ＿４の全てがＨである場合を除く。また、Ｘはハロ
ゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2142721A JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2142721A JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436265A true JPH0436265A (ja) | 1992-02-06 |
| JPH0617360B2 JPH0617360B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=15322035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2142721A Expired - Lifetime JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617360B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102227A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-14 | Toppan Printing Co Ltd | 固体状スルホン化物質、その製造方法およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP2142721A patent/JPH0617360B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102227A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-14 | Toppan Printing Co Ltd | 固体状スルホン化物質、その製造方法およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0617360B2 (ja) | 1994-03-09 |
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