JPH04364147A - 1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンおよびその製造方法 - Google Patents
1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンおよびその製造方法Info
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- JPH04364147A JPH04364147A JP3169696A JP16969691A JPH04364147A JP H04364147 A JPH04364147 A JP H04364147A JP 3169696 A JP3169696 A JP 3169696A JP 16969691 A JP16969691 A JP 16969691A JP H04364147 A JPH04364147 A JP H04364147A
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- isopropenylphenol
- benzene
- bis
- methyl
- dihydroxy
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な多価フェノール化
合物である1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−
メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンゼン、および4−イソプロペニルフェノールまたは4
−イソプロペニルフェノールの線状重合体とレゾルシン
を酸性触媒下で反応させて1,3−ジヒドロキシ−4,
6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)エチル〕ベンゼンを製造する方法に関する。
合物である1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−
メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンゼン、および4−イソプロペニルフェノールまたは4
−イソプロペニルフェノールの線状重合体とレゾルシン
を酸性触媒下で反応させて1,3−ジヒドロキシ−4,
6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)エチル〕ベンゼンを製造する方法に関する。
【0002】本発明で得られる1,3−ジヒドロキシ−
4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフ
ェニル)エチル〕ベンゼンはポリカーボネート、ポリエ
ステル等の枝分かれ剤、およびエポキシ樹脂、それらの
硬化剤として有用な化合物である。
4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフ
ェニル)エチル〕ベンゼンはポリカーボネート、ポリエ
ステル等の枝分かれ剤、およびエポキシ樹脂、それらの
硬化剤として有用な化合物である。
【0003】
【従来の技術】多価フェノール化合物としては下記一般
式(2)〔化2〕(特開昭55−162728号公報)
、
式(2)〔化2〕(特開昭55−162728号公報)
、
【0004】
【化2】
(式中Arは置換または非置換の単環式、二環式または
三環式芳香族C6〜C14炭化水素基、または置換また
は非置換のC4〜C14複素環式基であり、Rは水素ま
たはC1〜C6アルキル基であり、各X置換基はそれぞ
れ独立にH、Cl、Br、C1〜C6アルキル基および
フェニル基から選択し、nは2、3または4であり、従
ってArは二価、三価または四価である。) 下記一般式(3)〔化3〕(特開昭62−84035号
公報)
三環式芳香族C6〜C14炭化水素基、または置換また
は非置換のC4〜C14複素環式基であり、Rは水素ま
たはC1〜C6アルキル基であり、各X置換基はそれぞ
れ独立にH、Cl、Br、C1〜C6アルキル基および
フェニル基から選択し、nは2、3または4であり、従
ってArは二価、三価または四価である。) 下記一般式(3)〔化3〕(特開昭62−84035号
公報)
【0005】
【化3】
(式中R1、R2、R3、R4、R5およびR6は互い
に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素、
ハロゲン、C1〜C5アルキル基またはC1〜C5アル
コキシ基である。)等が知られているが、これらは製造
工程が長く、しかも目的である多価フェノール化合物の
純度が低く精製が困難であった。4−イソプロペニルフ
ェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重
合体とレゾルシンを酸性触媒下で反応させて、高純度で
得られる1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メ
チル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ゼンについては、従来知られていない。
に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素、
ハロゲン、C1〜C5アルキル基またはC1〜C5アル
コキシ基である。)等が知られているが、これらは製造
工程が長く、しかも目的である多価フェノール化合物の
純度が低く精製が困難であった。4−イソプロペニルフ
ェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重
合体とレゾルシンを酸性触媒下で反応させて、高純度で
得られる1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メ
チル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ゼンについては、従来知られていない。
【0006】
【発明が解決しょうとする課題】本発明の目的はポリカ
ーボネート、ポリエステル等の枝分かれ剤、およびエポ
キシ樹脂、それらの硬化剤として有用な新規化合物であ
る1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−
α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンを
提供するものである。
ーボネート、ポリエステル等の枝分かれ剤、およびエポ
キシ樹脂、それらの硬化剤として有用な新規化合物であ
る1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−
α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンを
提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するため鋭意検討した結果、4−イソプロペニルフ
ェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重
合体とレゾルシンを酸性触媒下で反応させることにより
、容易に高純度の上記新規化合物が得られることを見出
し本発明に到った。
達成するため鋭意検討した結果、4−イソプロペニルフ
ェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重
合体とレゾルシンを酸性触媒下で反応させることにより
、容易に高純度の上記新規化合物が得られることを見出
し本発明に到った。
【0008】即ち本発明は、下記構造式(1)〔化4〕
【0009】
【化4】
で示される1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−
メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンゼン、および4−イソプロペニルフェノールまたは4
−イソプロペニルフェノールの線状重合体とレゾルシン
を酸性触媒下で反応させることを特徴とする1,3−ジ
ヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−
ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンの製造方法であ
る。
メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンゼン、および4−イソプロペニルフェノールまたは4
−イソプロペニルフェノールの線状重合体とレゾルシン
を酸性触媒下で反応させることを特徴とする1,3−ジ
ヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−
ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンの製造方法であ
る。
【0010】以下本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明において用いる4−イソプロペニル
フェノールの線状重合体は、公知の技術であるジヒドロ
キシジフェニルプロパンを塩基性触媒の存在下で開裂し
て得られるフェノールと4−イソプロペニルフェノール
および4−イソプロペニルフェノールの重合体の混合物
よりフェノールを除去したものである。また、この混合
物より得られる線状2量体の4−メチル−2,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−ペンテン−1、あるいは
4−メチル−2,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−ペンテン−2、または、これらの混合物も使用するこ
とができる。
フェノールの線状重合体は、公知の技術であるジヒドロ
キシジフェニルプロパンを塩基性触媒の存在下で開裂し
て得られるフェノールと4−イソプロペニルフェノール
および4−イソプロペニルフェノールの重合体の混合物
よりフェノールを除去したものである。また、この混合
物より得られる線状2量体の4−メチル−2,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−ペンテン−1、あるいは
4−メチル−2,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−ペンテン−2、または、これらの混合物も使用するこ
とができる。
【0012】本発明において4−イソプロペニルフェノ
ールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重合体
とレゾルシンを反応させるに際し用いる酸性触媒として
は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、ジメチ
ル硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等
の有機酸および陽イオン交換樹脂等の固体酸が挙げられ
る。この中でも塩酸、臭化水素酸が好ましい。
ールまたは4−イソプロペニルフェノールの線状重合体
とレゾルシンを反応させるに際し用いる酸性触媒として
は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、ジメチ
ル硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等
の有機酸および陽イオン交換樹脂等の固体酸が挙げられ
る。この中でも塩酸、臭化水素酸が好ましい。
【0013】触媒の使用量は反応系に対し、0.01〜
5.0重量%が好ましく、更に好ましくは0.05〜3
.0重量%の範囲である。触媒量が0.01%未満の場
合は反応時間が長くなり、5.0%を超えると不純物の
生成が多くなる。
5.0重量%が好ましく、更に好ましくは0.05〜3
.0重量%の範囲である。触媒量が0.01%未満の場
合は反応時間が長くなり、5.0%を超えると不純物の
生成が多くなる。
【0014】4−イソプロペニルフェノールまたは4−
イソプロペニルフェノールの線状重合体中の4−イソプ
ロペニルフェノール単位/レゾルシンのモル比は1.3
〜2.5が好ましく、更に好ましくは1.5〜2.3の
範囲である。モル比が1.3未満の場合はレゾルシンの
残留と目的の化合物以外の生成物が多く、また2.5を
超える場合は4−イソプロペニルフェノールのオリゴマ
ー化合物が多く生成し、精製工程が煩雑となる。
イソプロペニルフェノールの線状重合体中の4−イソプ
ロペニルフェノール単位/レゾルシンのモル比は1.3
〜2.5が好ましく、更に好ましくは1.5〜2.3の
範囲である。モル比が1.3未満の場合はレゾルシンの
残留と目的の化合物以外の生成物が多く、また2.5を
超える場合は4−イソプロペニルフェノールのオリゴマ
ー化合物が多く生成し、精製工程が煩雑となる。
【0015】反応は溶媒中で行うのが好ましく、反応溶
媒としては、例えばヘプタン、シクロキサン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素および
メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられる
。溶媒の使用量は原料のレゾルシンと4−イソプロペニ
ルフェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線
状重合体を加えた重量に対し2倍以上が好ましく、更に
好ましくは3〜8倍である。2倍未満の場合は、反応時
の撹拌が難しくなる。不均一系反応となる脂肪族炭化水
素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素は撹拌可能な
状態に保つのが好ましい。
媒としては、例えばヘプタン、シクロキサン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素および
メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられる
。溶媒の使用量は原料のレゾルシンと4−イソプロペニ
ルフェノールまたは4−イソプロペニルフェノールの線
状重合体を加えた重量に対し2倍以上が好ましく、更に
好ましくは3〜8倍である。2倍未満の場合は、反応時
の撹拌が難しくなる。不均一系反応となる脂肪族炭化水
素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素は撹拌可能な
状態に保つのが好ましい。
【0016】反応温度は0〜100℃が好ましく、更に
好ましくは30〜60℃である。温度が0℃未満の場合
は反応時間が長くなり、100℃を超えると不純物の生
成が多くなる。
好ましくは30〜60℃である。温度が0℃未満の場合
は反応時間が長くなり、100℃を超えると不純物の生
成が多くなる。
【0017】後処理は4−イソプロペニルフェノールを
用いた場合は反応物を濾過して得られた結晶を十分水洗
して乾燥する。また純度の低い4−イソプロペニルフェ
ノールの線状重合体を用いた場合は純度を高めるため洗
浄剤で洗浄し、ついで十分水洗し乾燥する。洗浄剤とし
ては、例えばヘプタン、シクロキサン等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素が挙げられる
。更に高純度を必要とする場合はメタノール、エタノー
ル等のアルコール類、あるいはそれらアルコール類と水
の混合溶媒で再結晶することにより得られる。
用いた場合は反応物を濾過して得られた結晶を十分水洗
して乾燥する。また純度の低い4−イソプロペニルフェ
ノールの線状重合体を用いた場合は純度を高めるため洗
浄剤で洗浄し、ついで十分水洗し乾燥する。洗浄剤とし
ては、例えばヘプタン、シクロキサン等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素が挙げられる
。更に高純度を必要とする場合はメタノール、エタノー
ル等のアルコール類、あるいはそれらアルコール類と水
の混合溶媒で再結晶することにより得られる。
【0018】
【実施例】以下本発明を実施例により説明する。
【0019】実施例1
レゾルシン33g(0.3モル)とベンゼン200gを
フラスコに仕込み45℃に保ち、撹拌下に36%塩酸2
gを入れ、更に4−イソプロペニルフェノール72.4
g(0.54モル)をベンゼン200gでスラリー化し
た液を45℃に保ちながら30分間で装入した後、30
分間撹拌した。次いで反応物である結晶性スラリーを吸
引濾過し、結晶を水で中性になるまで洗浄し、真空乾燥
機で120℃、3時間乾燥して粗結晶95.5gを得た
。粗結晶の純度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
フラスコに仕込み45℃に保ち、撹拌下に36%塩酸2
gを入れ、更に4−イソプロペニルフェノール72.4
g(0.54モル)をベンゼン200gでスラリー化し
た液を45℃に保ちながら30分間で装入した後、30
分間撹拌した。次いで反応物である結晶性スラリーを吸
引濾過し、結晶を水で中性になるまで洗浄し、真空乾燥
機で120℃、3時間乾燥して粗結晶95.5gを得た
。粗結晶の純度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
【0020】実施例1で得られた粗結晶50gをメタノ
ール/水容量比で3/2の混合溶液100mlで再結晶
して融点218〜219℃の白色の精結晶44gを得た
。この精結晶は元素分析、質量分析、プロトン核磁気共
鳴スペクトルの結果から下記構造式(1)〔化5〕
ール/水容量比で3/2の混合溶液100mlで再結晶
して融点218〜219℃の白色の精結晶44gを得た
。この精結晶は元素分析、質量分析、プロトン核磁気共
鳴スペクトルの結果から下記構造式(1)〔化5〕
【0
021】
021】
【化5】
元素分析
C=76.0%、H=6.9%、N=0.05%以下(
理論値 C=76.2%、H=6.9%)EI−MS
(質量分析) M=378 H−NMR(CD COCD 中)δ(ppm.T
MS基準) 帰属1.68
(s─2H) a
6.18(s,1H)
b6.53−7.24(q,8H)
cd6.90(s,2H)
e7.33(s,1H)
f8.02(s,2H)
gをもつ1,3−ジヒドロ
キシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロ
キシフェニル)エチル〕ベンゼンであることが確認され
、液体クロマトグラフィーによる純度は99.8%であ
った。
理論値 C=76.2%、H=6.9%)EI−MS
(質量分析) M=378 H−NMR(CD COCD 中)δ(ppm.T
MS基準) 帰属1.68
(s─2H) a
6.18(s,1H)
b6.53−7.24(q,8H)
cd6.90(s,2H)
e7.33(s,1H)
f8.02(s,2H)
gをもつ1,3−ジヒドロ
キシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロ
キシフェニル)エチル〕ベンゼンであることが確認され
、液体クロマトグラフィーによる純度は99.8%であ
った。
【0022】実施例2〜6
第1表に示す条件以外は全て実施例1と全く同様にして
1,3−ジヒドロキシ−4、6−ビス〔α−メチル−α
−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンを得
た。結果を〔表1〕に示す。
1,3−ジヒドロキシ−4、6−ビス〔α−メチル−α
−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンを得
た。結果を〔表1〕に示す。
【0023】実施例7
レゾルシン44g(0.4モル)と4−イソプロペニル
フェノールの線状2量体107.2g(4−イソプロペ
ニルフェノール単位で0.8モル)とベンゼン700g
をフラスコに仕込み40℃に保ち、撹拌下に36%塩酸
0.5gを入れ1.5時間撹拌した。次いで反応物を実
施例1と同様に処理し粗結晶140.6gを得た。粗結
晶の純度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
フェノールの線状2量体107.2g(4−イソプロペ
ニルフェノール単位で0.8モル)とベンゼン700g
をフラスコに仕込み40℃に保ち、撹拌下に36%塩酸
0.5gを入れ1.5時間撹拌した。次いで反応物を実
施例1と同様に処理し粗結晶140.6gを得た。粗結
晶の純度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
【0024】実施例8
レゾルシン44g(0.4モル)と純度の低い4−イソ
プロペニルフェノールの線状重合体142.9g(4−
イソプロペニルフェノール単位で0.8モル)とベンゼ
ン700gをフラスコに仕込み40℃に保ち、撹拌下に
36%塩酸0.5gを入れ1.5時間撹拌した。次いで
反応物である結晶性スラリーを吸引濾過し、結晶を50
0gのベンゼンで2回洗浄し、更に80℃の熱水500
gで3回洗浄し乾燥した。得られた粗結晶は121.0
gであった。粗結晶の純度、上記化合物の収率を〔表1
〕に示す。
プロペニルフェノールの線状重合体142.9g(4−
イソプロペニルフェノール単位で0.8モル)とベンゼ
ン700gをフラスコに仕込み40℃に保ち、撹拌下に
36%塩酸0.5gを入れ1.5時間撹拌した。次いで
反応物である結晶性スラリーを吸引濾過し、結晶を50
0gのベンゼンで2回洗浄し、更に80℃の熱水500
gで3回洗浄し乾燥した。得られた粗結晶は121.0
gであった。粗結晶の純度、上記化合物の収率を〔表1
〕に示す。
【0025】実施例9
4−イソプロペニルフェノール107.2g(0.8モ
ル)とベンゼン700gを仕込み35℃に保ち、撹拌下
に36%塩酸0.1gを入れた。10分間後にレゾルシ
ン44g(0.4モル)と36%塩酸0.4gを入れ、
40℃で1.5時間撹拌した。次いで反応物を実施例1
と同様に処理し粗結晶142.1gを得た。粗結晶の純
度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
ル)とベンゼン700gを仕込み35℃に保ち、撹拌下
に36%塩酸0.1gを入れた。10分間後にレゾルシ
ン44g(0.4モル)と36%塩酸0.4gを入れ、
40℃で1.5時間撹拌した。次いで反応物を実施例1
と同様に処理し粗結晶142.1gを得た。粗結晶の純
度、上記化合物の収率を〔表1〕に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
【発明の効果】本発明の新規な多価フェノール化合物で
ある1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル
−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン
は、ポリカーボネート、ポリエステル等の枝分れ剤、お
よびエポキシ樹脂、それらの硬化剤として有用な化合物
である。また実施例より明らかなように本発明の製造方
法は収率良く1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α
−メチル−α−(4’− ヒドロキシフェニル)エチ
ル〕ベンゼンを得ることができる。
ある1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル
−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン
は、ポリカーボネート、ポリエステル等の枝分れ剤、お
よびエポキシ樹脂、それらの硬化剤として有用な化合物
である。また実施例より明らかなように本発明の製造方
法は収率良く1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α
−メチル−α−(4’− ヒドロキシフェニル)エチ
ル〕ベンゼンを得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記構造式(1)〔化1〕【化1】 で示される1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−
メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンゼン。 - 【請求項2】 4−イソプロペニルフェノールとレゾ
ルシンを酸性触媒下で反応させることを特徴とする1,
3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(
4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンの製造方
法。 - 【請求項3】 4−イソプロペニルフェノール/レゾ
ルシンのモル比が1.3〜2.5の範囲である請求項2
記載の1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチ
ル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼ
ンの製造方法。 - 【請求項4】 4−イソプロペニルフェノールの線状
重合体とレゾルシンを酸性触媒下で反応させることを特
徴とする1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メ
チル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ゼンの製造方法。 - 【請求項5】 4−イソプロペニルフェノールの線状
重合体中の4−イソプロペニルフェノール単位/レゾル
シンのモル比が1.3〜2.5の範囲である請求項4記
載の1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル
−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼン
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169696A JPH0825935B2 (ja) | 1990-10-08 | 1991-07-10 | 1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26846490 | 1990-10-08 | ||
| JP2-268464 | 1990-10-08 | ||
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