JPH04366194A - 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料接着用プライマー組成物 - Google Patents

半導体封止用エポキシ樹脂成形材料接着用プライマー組成物

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JPH04366194A
JPH04366194A JP3168855A JP16885591A JPH04366194A JP H04366194 A JPH04366194 A JP H04366194A JP 3168855 A JP3168855 A JP 3168855A JP 16885591 A JP16885591 A JP 16885591A JP H04366194 A JPH04366194 A JP H04366194A
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polyimide resin
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mol
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Toshio Shiobara
利夫 塩原
Hisashi Shimizu
久司 清水
Hideto Kato
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、種々の金属材料あるい
はプラスチックからなる成形品の表面に熱硬化性樹脂な
どの成形物を接着させる際に有用なプライマー組成物及
びこの組成物を塗布した半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
金属及びプラスチックから構成される成形品の表面特性
を改良する目的で、それらの表面に有機けい素化合物の
硬化皮膜を形成させることが知られている。しかし、一
般的に極めて限定された化学構造を有する有機けい素化
合物とある種の金属との組合わせを除いては金属と有機
けい素化合物は密着性に劣るという問題がある。
【0003】そこで、両者の接着性を改善することがで
きる良好な接着性向上剤やプライマー組成物の開発が要
望され、例えばポリアルキレンイミンとエポキシ結合含
有トリアルコキシシランとを主成分とするプライマー組
成物(特公昭54−28430号公報)、ポリエステル
又はポリエーテルポリオールをアルコキシシランでエス
テル交換して得られる化合物とポリイソシアネートとか
らなる組成物(特公昭48−41697号公報)、メチ
ルメタクリレートを主成分としてなる組成物(特公昭5
2−138565号公報)、エポキシアルキルトリアル
コキシシランを主成分としてなるプライマー組成物(特
公昭54−81378号公報)、ある種のシランと酸無
水物とからなる下塗り組成物(特公昭54−15522
9号公報)、2種以上のシランの共加水分解物とアルキ
ルエーテル化メチロールメラミンとを主成分とする組成
物(特公昭55−99930号公報)等が提案されてい
る。
【0004】しかしながら、これらはいずれも充分満足
できる接着性、耐熱水性、耐熱性等を対象物に付与する
ことができないという不利を有している。
【0005】他方、トランジスター、ダイオード、IC
,LSI等の半導体素子をエポキシ樹脂等の樹脂材料で
封止することがよく行なわれているが、半導体素子をこ
れらの樹脂材料で封止すると、この樹脂材料を通して侵
入した水やイオン性不純物によって半導体素子の劣化が
しばしば引き起こされる。
【0006】そこで、この対策として耐熱性、電気特性
、機械的特性に優れたポリイミド樹脂で半導体素子を被
覆保護した後、樹脂材料で封止する方法が提案されてい
る。一般にこのポリイミド樹脂は、耐熱性等の優れた特
性を対象物に付与することはできるが、一部の高沸点有
機溶剤以外の溶剤には不溶であるため、通常その前駆体
であるポリアミド酸の状態で有機溶剤に溶解させ、これ
を半導体素子上に塗布した後、加熱硬化(イミド化)さ
せて皮膜を形成させることが行なわれている。しかし、
この方法によるポリイミド樹脂皮膜の形成では、ポリア
ミド酸をポリイミドに変換するための加熱処理に300
℃以上の高温でかつ長時間を要する。このため、上記方
法は、高温下での長時間の加熱が作業工程上、特に省エ
ネルギーの見地から不利であり、また一方、加熱が不十
分な場合には、得られた樹脂の構造中にポリアミド酸が
残存してしまい、このポリアミド酸によりポリイミド樹
脂の耐湿性、耐腐食性等の特性低下を引き起こすことに
もなる。特に、樹脂材料を半導体素子の絶縁保護膜とす
る場合には、このような樹脂性能の低下は半導体素子の
劣化、短寿命化を招くこととなり、大きな問題となるた
め、これらの問題の解決が望まれる。
【0007】更に、最近では、パッケージが益々小型化
、薄型化されると共に、基盤への実装方法も表面実装方
式が主流となり、従来のエポキシ樹脂組成物では十分な
信頼性を維持できなくなってきた。例えばパッケージが
吸湿した状態で半田付けするとパッケージにクラックが
発生する問題やクラックが発生しないまでも耐湿性が低
下してしまうという不具合が生じている。従って、この
点でも高品質なプライマー組成物の開発が要望されてい
る。
【0008】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
金属又はプラスチック材料との接着性に優れ、かつ、耐
熱性、耐水性等の特性に優れた硬化皮膜を低温短時間の
加熱硬化で与えるプライマー組成物及びこの組成物が塗
布された半導体装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記一般式
(1)で示される構造単位を有するポリイミド化合物と
下記一般式(4)で示されるシランカップリング剤とを
併用することにより、各種特性に優れたプライマー組成
物が得られることを知見した。
【0010】
【化3】
【0011】即ち、上記式(1)の閉環性ポリイミド樹
脂は、フェノール系、N−メチル−2−ピロリドン等の
一部の溶剤以外には不溶である従来のポリイミド樹脂と
異なり、低沸点有機溶剤であるエーテル系、ケトン系、
セロソルブ系統の有機溶剤に良好な溶解性を示し、従っ
てこれらの低沸点溶剤溶液から短時間、低温の加熱でポ
リイミド樹脂膜を形成し得、作業性の大幅な向上と省エ
ネルギー化、低コスト化を達成でき、安全衛生上からも
好ましいことを見出した。更に、この式(1)のポリイ
ミド樹脂に上記式(4)のシランカップリング剤を併用
した場合、金属材料及びプラスチック材料の表面ではじ
かれることがなく、また材料表面に段差や傾斜があって
も均一にピンホールなく塗膜を形成することができ、単
独のポリイミド樹脂のもつ接着性よりも優れた接着性の
皮膜が得られ、この皮膜は接着性、耐熱性、電気的・機
械的特性、吸湿半田特性等の性能に優れたものであるこ
とを見出した。それ故、上記プライマー組成物は、塗料
、染料、コーティング剤、一般成形材料の下塗り剤等と
して有効であり、特にこの組成物の表面に塗布し、溶剤
を飛散させることにより形成される皮膜で保護された半
導体素子は極めて信頼性が高く、吸湿半田特性も優れて
いるものであることを見い出し、本発明を開発するに至
ったものである。
【0012】従って、本発明は、上記式(1)のポリイ
ミド化合物と上記式(4)のシランカップリング剤とを
配合してなるプライマー組成物、及び、この組成物を表
面に塗布した半導体装置を提供する。
【0013】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の第一必須成分であるポリイミド化合物は下記一般式
(1)で示されるものである。
【0014】
【化4】
【0015】上記式(1)の構造単位を有するポリイミ
ド化合物はテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分と
から合成することができる。
【0016】ここで、テトラカルボン酸二無水物は、例
えば下記のものが挙げられる。
【0017】
【化5】
【0018】なお、酸二無水物としては、これらの1種
を単独で又は2種以上を併用して使用することができる
【0019】また、ジアミン成分としては、下記構造式
(5)で示されるシリコーンジアミンと下記構造式(6
)で示されるエーテルジアミンが好適に使用される。
【0020】
【化6】
【0021】ここで、上記式(5)中のR1の二価の有
機基としては炭素数1〜18、特に1〜7のものが好適
に使用され、例えば下記構造の有機基が挙げられる。
【0022】
【化7】
【0023】更に、R2,R3の非置換又は置換の1価
炭化水素基としては炭素数1〜18、特に1〜8のもの
が好適に使用され、例えばメチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等の
シクロアルキル基、フェニル基,トリル基等のアリール
基、ベンジル基,フェニルエチル基等のアラルキル基又
はこれらの基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子
等で置換したクロロメチル基、3,3,3−トリフルオ
ロプロピル基などが挙げられる。
【0024】また、上記式(5)中Yは酸素原子又は二
価の炭化水素基であり、二価の炭化水素基としては炭素
数が10以下、特に1〜6のものが好適に使用され、例
えば下記構造の基などが挙げられる。
【0025】
【化8】
【0026】上記式(5)で示されるジアミンとして具
体的には、Yが酸素原子の場合、例えば下記構造のジア
ミノシロキサンが挙げられる。
【0027】
【化9】
【0028】また、Yが二価の有機基である場合には、
例えば下記構造のシリコーンジアミンが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【0029】
【化10】
【0030】
【化11】
【0031】次に、もう一つの成分である上記式(6)
のエーテルジアミンとして具体的には、下記のものが挙
げられるが、これに限定されるものではない。
【0032】
【化12】
【0033】上述したテトラカルボン酸二無水物成分と
ジアミン成分とは、当量比で0.9〜1.1の範囲、特
に0.95〜1.05の範囲で配合することが好ましい
【0034】上述した成分、配合比によりポリイミド樹
脂を重合する場合、公知方法に従い行なうことができる
。例えば、上記テトラカルボン酸二無水物成分とジアミ
ン成分との所定量をN−メチル−2−ピロリドン,N,
N’−ジメチルホルムアミド,N,N’−ジメチルアセ
トアミド等の極性有機溶剤中に仕込み、0〜60℃の低
温で反応させてポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミ
ック酸樹脂を合成する。このポリアミック酸樹脂を単離
することなく、引き続いて100〜200℃、好ましく
は140〜180℃の温度範囲に溶液を昇温することに
よりポリアミック酸の酸アミド部分に脱水閉環反応が進
行し、目的とするポリイミド樹脂を合成することができ
る。また、この脱水閉環反応を短時間の内に完全に進行
させるためには、トルエン、キシレン等の共沸脱水溶剤
を併用することが好ましい。この重合反応の進行は赤外
吸収スペクトルのイミド基の特性吸収帯の変化から求め
るという公知の方法(特公昭57−41330号公報)
により検知することができる。脱水閉環によるイミド化
が終了した後は、この反応溶液を冷却し、メタノール中
に流し込むことによって再沈させ、これを乾燥するなど
して、本発明に係るポリイミド樹脂を得ることができる
【0035】これらの一連の操作により得られるポリイ
ミド樹脂は、上述したように低沸点有機溶剤、即ち、シ
クロヘキサノン,アセトフェノン等のケトン系溶剤、テ
トラヒドロフラン,1,4−ジオキサン,ジグライム等
のエーテル系溶剤やセロソルブ系溶剤などに良好な溶解
性を示す。従って、後述するように本発明組成物は有機
溶剤に溶解して用いられるが、有機溶剤としては、これ
ら有機溶剤の1種を単独で又は2種以上を混合して用い
ることができる。
【0036】本発明のプライマー組成物は、上述したポ
リイミド樹脂に加えてシランカップリング剤を配合する
【0037】ここで、シランカップリング剤は下記一般
式(4)で示される化合物である。
【0038】
【化13】
【0039】ここで、Mで示される加水分解性基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等
のアルコキシ基;アセトオキシ基、プロピオノキシ基、
ブチロイロキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ
基;イソプロペニルオキシ基、イソブテニルオキシ基、
1−エチル−2−メチルビニルオキシ基等のアルケニル
オキシ基;ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケト
オキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノ
キシム基、シクロヘキサノキシム基等のイミノキシ基;
N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピ
ルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N,N−ジメチルア
ミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、シクロヘキシルア
ミノ基等のアミノ基;N−メチルアセトアミド基、N−
エチルアセトアミド基、N−メチルベンズアミド基等の
アミド基;N,N−ジメチルアミノオキシ基、N,N−
ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基を挙げるこ
とができる。
【0040】このような式(4)のシランカップリング
剤として具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン
、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルモノ
メトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリス(tert−プチルパーオキシ)シラン、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシド
キシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタアクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタアクリロ
キシプロピルトリエトキシシラン、3−メタアクリロキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタアクリロ
キシプロピルメチルジエトキシシラン、N−(2−アミ
ノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジ
エトキシシラン、3−チオメタアクリレートプロピルト
リメトキシシラン、3−メタアクリルアミドプロピルメ
チルジエトキシシラン、3−チオメタアクリレートプロ
ピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。これらの
中でも特にN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ
メトキシシランが好ましい。これらシランカップリング
剤は、単独で使用してもよく、2種以上混合しても差し
支えない。また、これらシランカップリング剤の加水分
解物の使用も可能である。
【0041】本発明のプライマー組成物において、上述
した式(1)のポリイミド化合物と式(4)のシランカ
ップリング剤との配合量は作業条件等により適宜選択さ
れるが、通常ポリイミド化合物は組成物全体の2〜80
重量%、特に10〜50重量%とすることが好ましく、
シランカップリング剤は組成物全体の20〜98重量%
、特に50〜90重量%とすることが好ましい。ポリイ
ミド化合物が2重量%未満であったり、シランカップリ
ング剤が98重量%を超えると形成された皮膜の強度が
弱く、プライマー層で凝集破壊し易くなる場合があり、
ポリイミド化合物が80重量%を超えたり、シランカッ
プリング剤が20重量%に満たないと、接着性が弱くな
る場合がある。なお、この接着力の低下はシランカップ
リング剤の配合量が少なくなってシランカップリング剤
中に存在する反応性アルコキシ基含有量が少なくなるた
めであると考える。
【0042】本発明のプライマー組成物は、前述の低沸
点有機溶剤で希釈可能であり、種々の濃度の溶液として
使用可能である。プライマー濃度としては、20重量%
以下が好ましく、特に10重量%以下とすることが望ま
しい。また、対象物に塗布する際、プライマーの皮膜の
厚みを10μm以下、特に5μm以下とすることが望ま
しい。
【0043】また、プライマー組成物の各種基材に対す
る塗布方法としてはハケ塗り、浸透法、ロールコータ法
、スプレー法等用途に合わせて可能である。また、半導
体素子に保護膜を形成する場合は、組成物をスピンコー
トやディスペンサーから滴下したり、あるいはその他の
公知の塗布方法により半導体素子上に塗布した後、有機
溶剤を150℃〜180℃で1〜2時間の加熱処理で揮
発させるという極めて簡単かつ低温短時間の処理により
素子や配線に対する接着性、耐熱性、電気特性、機械的
特性、吸湿半田特性に優れたプライマー層の保護膜を均
一にしかもピンホールなく形成することができる。
【0044】このような本発明のプライマー組成物は金
属材料又はプラスチックからなる成形品の表面に強固な
硬化皮膜を形成し得るものであり、金属材料としては、
例えばアルミニウム,鉄,亜鉛,錫,銀,金,銅,ニッ
ケル,ステンレス,クロム銅,ケイ素銅,銅−ニッケル
合金等が、また、プラスチックとしては、例えばエポキ
シ樹脂,ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−
スチレン共重合体樹脂),PBT樹脂(ポリブチレンテ
レフタレート樹脂),PPS樹脂(ポリフェニレンサル
ファイド樹脂),DAP樹脂(ジアリルフタレート樹脂
),ナイロン,スチレン樹脂,メラミン樹脂,ポリエス
テル樹脂,ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。なお
、本発明組成物は、特に鉄、銅、ニッケル等の金属との
接着性が高いので、これら金属の表面にエポキシ樹脂成
形材料の硬化物を接着させるプライマーとして極めて有
用である。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプライマ
ー組成物は金属材料又はプラスチックからなる成形品の
表面に強固な硬化皮膜を設ける際に有用で、これらの表
面改質に有効なものであり、特に半導体素子に用いる場
合、低温且つ短時間の熱処理により簡単な操作で優れた
耐熱性、電気的、機械的特性、吸湿半田特性、接着性を
有する硬化皮膜を半導体素子にピンホールなく均一に形
成することができ、従来の高温で長時間の熱処理を必要
とするポリイミド樹脂膜の製造法に比べて、大幅な省エ
ネルギー化が可能となり、その工業的価値は極めて大な
るものである。従って、本発明組成物は、塗料、染料、
コーティング剤、一般成形材料の下塗り剤などとして有
効であり、特に半導体用として有用である。
【0046】
【実施例】以下、合成例、実施例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【0047】〔合成例1〕…ポリイミド樹脂A撹拌器、
温度計及び窒素置換装置を具備したフラスコ内にテトラ
カルボン酸二無水物成分として2,2−ビス(3,4−
ベンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフルオロプロ
パン4.4g(0.01モル)と3,3’,4,4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物26.5g(0.
09モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリド
ン400gを仕込み、これにジアミン成分としてビス(
3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン19.
8g(0.08モル)と2,2−ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕プロパン8.2g(0.02
モル)とを溶解したN−メチル−2−ピロリドン溶液を
反応系の温度が50℃を超えないように調節しつつ徐々
に滴下した。滴下終了後、更に室温で10時間撹拌し、
次にフラスコに水分受容器付還流冷却器を取り付けた後
、キシレン30gを加え、反応系を160℃に昇温し、
4時間160℃の温度を保持して反応させ、黄褐色透明
のポリイミド樹脂溶液を得た。なお、この反応において
3.4gの水が副生した。次いで、上記ポリイミド樹脂
溶液をメタノール中に投じ、再沈して樹脂を得た。この
樹脂を60℃で24時間減圧乾燥し、ポリイミド樹脂5
2.6gを単離した。
【0048】このポリイミド樹脂の赤外線吸収スペクト
ルを観測したところ、ポリアミック酸に基づく吸収は観
測されず、1780cm−1と1720cm−1とにイ
ミド基に基づく吸収が確認された。
【0049】〔合成例2〕…ポリイミド樹脂Bテトラカ
ルボン酸二無水物成分として3,3’,4,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物29.4g(0.1モ
ル)を用い、ジアミン成分として1,2−ビス(γ−ア
ミノプロピルジメチルシリル)エタン2.6g(0.0
1モル)と2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル)プロパン36.9g(0.09モル)とを
用いる以外は合成例1と同様の操作により、ポリイミド
樹脂67.1gを得た。
【0050】〔合成例3〕…ポリイミド樹脂C撹拌器、
温度計及び窒素置換装置を具備したフラスコ内にテトラ
カルボン酸二無水物成分として2,2−ビス(3,4−
ベンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフルオロプロ
パン4.4g(0.01モル)と3,3’,4,4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物26.5g(0.
09モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリド
ン400gを仕込み、これにジアミン成分として1,2
−ビス(γ−アミノプロピルジメチルシリル)エタン2
0.8g(0.08モル)と2,2−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン8.2g(0.
02モル)とを溶解したN−メチル−2−ピロリドン溶
液69gを反応系の温度が50℃を超えないように調節
しつつ徐々に滴下した。滴下終了後、更に室温で10時
間撹拌し、次にフラスコに水分受容器付還流冷却器を取
り付けた後、キシレン30gを加え、反応系を160℃
に昇温し、4時間160℃の温度を保持して反応させ、
黄褐色透明のポリイミド樹脂溶液を得た。なお、この反
応において3.4gの水が副生した。 次いで、上記ポリイミド樹脂溶液をメタノール中に投じ
、再沈して樹脂を得た。この樹脂を60℃で24時間減
圧乾燥し、ポリイミド樹脂52.8gを単離した。
【0051】このポリイミド樹脂の赤外線吸収スペクト
ルを観測したところ、ポリアミック酸に基づく吸収は観
測されず、1780cm−1と1720cm−1とにイ
ミド基に基づく吸収が確認された。
【0052】また、このポリイミド樹脂は、テトラヒド
ロフラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ア
セトフェノンに可溶であった。
【0053】〔合成例4〕…ポリイミド樹脂Dテトラカ
ルボン酸二無水物成分として2,2−ビス(3,4−ベ
ンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフルオロプロパ
ン13.3g(0.03モル)と3,3’,4,4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物20.6g(0.
07モル)とを用い、ジアミン成分として1,2−ビス
(γ−アミノプロピルジメチルシリル)エタン15.6
g(0.06モル)と1,4−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン11.7g(0.04モル)とを用いて
、合成例1と同様の操作により、ポリイミド樹脂54.
1gを得た。
【0054】得られたポリイミド樹脂は、テトラヒドロ
フラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノンのいずれの溶剤にも可溶であった。
【0055】〔合成例5〕…ポリイミド樹脂Eテトラカ
ルボン酸二無水物成分として2,2−ビス(3,4−ベ
ンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフルオロプロパ
ン13.3g(0.03モル)と3,3’,4,4’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物22.6g(
0.07モル)とを用い、ジアミン成分として1,2−
ビス(γ−アミノプロピルジメチルシリル)エタン2.
6g(0.01モル)と2,2−ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕プロパン36.9g(0.0
9モル)とを用いて、合成例1と同様の操作により、ポ
リイミド樹脂68.9gを得た。
【0056】得られたポリイミド樹脂は、テトラヒドロ
フラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノンのいずれの溶剤にも可溶であった。
【0057】〔合成例6〕…ポリイミド樹脂F(開環型
ポリイミド樹脂) 撹拌器、温度計及び窒素置換装置を具備したフラスコ内
にテトラカルボン酸二無水物成分として2,2−ビス(
3,4−ベンゼンジカルボン酸アンヒドリド)パーフル
オロプロパン4.4g(0.01モル)と3,3’,4
,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物26.5
g(0.09モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−
ピロリドン400gを仕込み、これにジアミン成分とし
てビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサ
ン19.8g(0.08モル)と2,2−ビス〔4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン8.2g(
0.02モル)とを溶解したN−メチル−2−ピロリド
ン溶液を反応系の温度が50℃を超えないように調節し
つつ徐々に滴下した。滴下終了後、更に室温で10時間
撹拌し、黄褐色のポリイミド樹脂溶液を得た。次いで、
上記ポリイミド樹脂溶液をメタノール中に投じ、再沈し
て樹脂を得た。この樹脂を60℃で24時間減圧乾燥し
てポリイミド樹脂56gを単離した。
【0058】このポリイミド樹脂の赤外線吸収スペクト
ルを観測したところ、ポリアミック酸に基づく吸収が2
900cm−1と3100cm−1に確認された。
【0059】〔実施例・比較例〕表1,2,3に示すよ
うに前記合成例で得たポリイミド樹脂と下記のシランカ
ップリング剤を配合して18種のプライマー組成物を調
製した。
【0060】得られたプライマー組成物を用い、表1,
2,3に示す各種基材に対してプライマー塗布後(浸漬
法)、150℃で1時間キュアーし、その後エポキシ樹
脂成形材料(KMC165VA:信越化学工業(株)製
)を175℃、70kg/cm2で成形し、成形物を得
た。また、半導体素子に対して、プライマー組成物を塗
布し、150℃で1時間キュアー後、エポキシ樹脂成形
材料(KMC165VA)を175℃、70kg/cm
2で成形して成形物を得た(図1参照)。得られた成形
物に付いて、下記の試験を行なった。結果を表1,2,
3に併記する。接着性表1,2,3に示される各種テス
トピースにプライマー塗布後、直径15mm、高さ5m
mの円筒成形品を175℃、70kg/cm2、成形時
間2分の条件で成形し、180℃で4時間ポストキュア
ーした後、プッシュプルゲージで成形物と各種テストピ
ースとの剥離力を測定した。 ヒートサイクルによる耐クラック性 9.0mm×4.5mm×0.5mmの大きさのシリコ
ンチップを14PIN−ICフレーム(42アロイ)に
接着し、その後表1,2,3に示されるプライマー組成
物を塗布後、これにエポキシ樹脂組成物を成形条件17
5℃×2分で成形し、180℃で4時間ポストキュアー
した後、−50℃×30分〜180℃×30分の熱サイ
クルを繰り返し、1000サイクル後の樹脂クラック発
生率を測定した。 耐湿性 4DRAMチップを20PINのSOJフレームに接着
し、その後プライマー組成物をシリコンチップ表面とダ
イパッドの裏面(図1参照)に塗布後、これにエポキシ
樹脂組成物を成形条件175℃×3分で成形し、180
℃で4時間ポストキュアーした。これを121℃/10
0%RH雰囲気中に24時間放置して吸湿後、215℃
の半田浴に10秒間浸漬し、さらに121℃/100%
RH雰囲気中に300時間放置した時のアルミニウム配
線断線率を測定した。 吸湿後の半田クラック性 60pinQFP(サイズ20mm×14mm、ダイハ
ード下の樹脂厚0.7mm、ダイパッド寸法10mm×
8mm)のダイパッド裏面(図1参照)にプライマー組
成物を塗布後、これにエポキシ樹脂組成物を成形条件1
75℃×3分で成形し、180℃で4時間ポストキュア
ーした。このパッケージを85℃/85%RHの雰囲気
に24時間放置して、吸湿処理を行なった後、これを2
15℃の半田浴に10秒浸漬した。この時に発生するパ
ッケージのクラック発生不良率を調べた(試験数n=1
0)。 シランカップリング剤:(いずれも信越化学工業(株)
製) KBM403・・・3−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン KBM503・・・3−メタアクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン KBM603・・・N−(2−アミノエチル)3−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン KBM803・・・3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン KBE903・・・3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン KBM303・・・2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シルエチル)トリメトキシシラン KBE402・・・3−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン
【0061】
【表1】
【0062】
【表2】
【0063】
【表3】
【0064】以上の結果から、本発明のプライマー組成
物は、各種金属材料及び各種プラスチック類との接着性
に優れ、これらの表面改質に有効であることがわかる。 また、半導体素子に塗布した場合、耐クラック性、耐湿
性、吸湿半田特性に向上が認められ、本発明のプライマ
ー組成物を用いた低温短時間の加熱処理は、半導体製造
工程上コストダウン対策として極めて有効といえる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る樹脂封止型半導体装置
を示す断面図である。
【符号の説明】
1  シリコンチップ 2  ダイパッド 3  リードフレーム 4  ボンディングワイヤー 5  樹脂封止剤 6  プライマー組成物

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下記一般式(1)で示される構造単位
    を有するポリイミド化合物と下記一般式(4)で示され
    るシランカップリング剤とを配合してなることを特徴と
    するプライマー組成物。 【化1】 【化2】
  2. 【請求項2】  請求項1記載のプライマー組成物が塗
    布された半導体装置。
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