JPH0436833B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0436833B2 JPH0436833B2 JP59110570A JP11057084A JPH0436833B2 JP H0436833 B2 JPH0436833 B2 JP H0436833B2 JP 59110570 A JP59110570 A JP 59110570A JP 11057084 A JP11057084 A JP 11057084A JP H0436833 B2 JPH0436833 B2 JP H0436833B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- paper
- abrasive
- particles
- abrasive paper
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 技術分野
本発明は特に研磨特性に優れた研磨紙の製造法
に関する。
に関する。
(ロ) 技術背景
研磨紙はガラスやSiC粉末を砥粒として作られ
ており、高硬度材やセラミツクス等の硬い材料の
研磨は不可能である。
ており、高硬度材やセラミツクス等の硬い材料の
研磨は不可能である。
ダイヤモンドを砥粒として用いれば高硬度材用
の研磨紙が作られるものの原石の単価が高く、通
常は使用されない。しかし焼入れや表面処理によ
り高硬度の表面を持つ金属材料が数多く使用され
るようになり、高硬度の研磨紙が必要となつてい
る。さらに高密度のセラミツクス部材も多く使用
されるようになつたが、これ等は従来の研磨紙で
は全く歯が立たない。
の研磨紙が作られるものの原石の単価が高く、通
常は使用されない。しかし焼入れや表面処理によ
り高硬度の表面を持つ金属材料が数多く使用され
るようになり、高硬度の研磨紙が必要となつてい
る。さらに高密度のセラミツクス部材も多く使用
されるようになつたが、これ等は従来の研磨紙で
は全く歯が立たない。
これらに対する砥粒に要求される特性としては
耐摩耗性、低摩擦係数等が挙げられるが、ダイヤ
モンドはこれらの観点からも優れた材料として注
目を浴びている。
耐摩耗性、低摩擦係数等が挙げられるが、ダイヤ
モンドはこれらの観点からも優れた材料として注
目を浴びている。
例えば、ピン→円板型単粒摩耗実験で円板材質
を焼入鋼（SUJ2）を例にとつた場合５ｍ／secの
回転速度では、ダイヤモンドの摩擦係数（η）は
ほぼ0.3であるのに対し、従来より使用されてい
るA12O3、やSiC砥粒では摩擦係数（η）は0.45
〜0.50を示すこと、又ηの回転速度依存性につい
て言及した場合、SiCやA12O3砥粒では回転数の
増加に伴いηは低下するのに対し、diamondのそ
れは回転速度に拘らず一定値を示すことが知られ
ている。
を焼入鋼（SUJ2）を例にとつた場合５ｍ／secの
回転速度では、ダイヤモンドの摩擦係数（η）は
ほぼ0.3であるのに対し、従来より使用されてい
るA12O3、やSiC砥粒では摩擦係数（η）は0.45
〜0.50を示すこと、又ηの回転速度依存性につい
て言及した場合、SiCやA12O3砥粒では回転数の
増加に伴いηは低下するのに対し、diamondのそ
れは回転速度に拘らず一定値を示すことが知られ
ている。
(ハ) 発明の開示
本発明は連続的に安価なダイヤモンド粒子を、
シート上に生成させることによりダイヤモンドを
砥粒とする研磨紙を製造する方法に関する。
シート上に生成させることによりダイヤモンドを
砥粒とする研磨紙を製造する方法に関する。
気相合成によりダイヤモンドを得る技術は既に
数多く提案されているが、粒子状もしくは膜状に
生成されることが知られている。この粒状ダイヤ
モンドをはがして砥粒とすることはやはり高価で
あつて、研磨紙を目的とした製造法としては適し
ていない。
数多く提案されているが、粒子状もしくは膜状に
生成されることが知られている。この粒状ダイヤ
モンドをはがして砥粒とすることはやはり高価で
あつて、研磨紙を目的とした製造法としては適し
ていない。
発明者は、気相より生成した粒状ダイヤモンド
を直接研磨紙として利用する方法を考えるに至つ
た。
を直接研磨紙として利用する方法を考えるに至つ
た。
本発明を工業的に実現させる為には下記の要点
が必要である。
が必要である。
ダイヤモンド気相合成温度に耐え得る基板上
にダイヤモンド粒子を生成させる。
にダイヤモンド粒子を生成させる。
上記基板を連続的に移動させる。
基板は通常700℃以上のダイヤモンドの合成温
度に耐える物質である必要がある。従つてMO
Ti、Ｗ等の耐熱金属が適するが、研磨紙自体を
屈曲させて用いる場合が多いので、該金属は0.1
mm以下の厚さであることが好ましい。上述の金属
を0.1mm以下の薄板としたものは高価であるが、
ステンレスや鋼等の安価な金属によつても実現は
可能であるが、ステンレスや鋼は700℃以上の高
温とすれば、相変態が起りダイヤモンド粒子の密
着性が下がる場合もあり考慮が必要である。ダイ
ヤモンドの気相合成法はCVD法、プラズマCVD
法、イオンビーム蒸着法等の種々の手段が知られ
ているが粒子状のダイヤモンドの析出の為には、
CVD法やプラズマCVD法が有効である。ダイヤ
モンド粒子が研磨紙中に、はがれ落ちない為に
は、粒子の間〓を、樹脂等で埋めることが効果を
持つ。
度に耐える物質である必要がある。従つてMO
Ti、Ｗ等の耐熱金属が適するが、研磨紙自体を
屈曲させて用いる場合が多いので、該金属は0.1
mm以下の厚さであることが好ましい。上述の金属
を0.1mm以下の薄板としたものは高価であるが、
ステンレスや鋼等の安価な金属によつても実現は
可能であるが、ステンレスや鋼は700℃以上の高
温とすれば、相変態が起りダイヤモンド粒子の密
着性が下がる場合もあり考慮が必要である。ダイ
ヤモンドの気相合成法はCVD法、プラズマCVD
法、イオンビーム蒸着法等の種々の手段が知られ
ているが粒子状のダイヤモンドの析出の為には、
CVD法やプラズマCVD法が有効である。ダイヤ
モンド粒子が研磨紙中に、はがれ落ちない為に
は、粒子の間〓を、樹脂等で埋めることが効果を
持つ。
第１図は本発明を実現する装置の一例である。
は金属薄板の供給原。
はダイヤモンドの合成管である。
はダイヤモンドを合成するためのガスをプラ
ズマ化するコイルである。
ズマ化するコイルである。
金属薄板にこの反応管でプラズマ化したCH4と
H2ガスからダイヤモンドが析出蒸着される。
H2ガスからダイヤモンドが析出蒸着される。
この後により樹脂をかぶせから供給される
紙で裏打ちしで巻きとられる。
紙で裏打ちしで巻きとられる。
実施例 １
第１図に示す装置により、0.05mmのMO板に粒
径20μｍのダイヤモンド粒子を一面に析出させ
た。ダイヤモンドは１％CH4を含むH2ガスを
13.56MHZの高周波でプラズマ化し、プラズマゾ
ーンを約１時間で通過して得られた。
径20μｍのダイヤモンド粒子を一面に析出させ
た。ダイヤモンドは１％CH4を含むH2ガスを
13.56MHZの高周波でプラズマ化し、プラズマゾ
ーンを約１時間で通過して得られた。
ダイヤモンドの密度は、１mm2に約1200ケ程度で
あり互いに接している粒子はほとんど見られなか
つた。これをエポキシ樹脂で固め１mm厚の紙で裏
打ちした。この研磨紙は、アルミナ（相対密度98
％）の高質アルミナの研磨が可能であつた。
あり互いに接している粒子はほとんど見られなか
つた。これをエポキシ樹脂で固め１mm厚の紙で裏
打ちした。この研磨紙は、アルミナ（相対密度98
％）の高質アルミナの研磨が可能であつた。
第１図は本願発明を実現する装置の１例であ
る。 １……金属薄板の供給原、２……反応室、３…
…プラズマ発生用コイル、４……ガス導入口、５
……ガス排気口、６，７……真空シールド、８…
…樹脂塗布装置、９……裏打ち紙供給装置、１０
……巻き取り装置、１１……プラズマ励起用電
源。
る。 １……金属薄板の供給原、２……反応室、３…
…プラズマ発生用コイル、４……ガス導入口、５
……ガス排気口、６，７……真空シールド、８…
…樹脂塗布装置、９……裏打ち紙供給装置、１０
……巻き取り装置、１１……プラズマ励起用電
源。
Claims (1)
- １ コーテイングゾーンの中を0.1mm以下の厚さ
を有する金属の薄板を連続的に移動させ、該金属
薄板上にダイヤモンド粒子を気相合成法により生
成させ、ダイヤモンド粒子の間〓を樹脂で埋め、
該金属板を紙で裏打ちすることを特徴とするダイ
ヤモンド研磨紙の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11057084A JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11057084A JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255366A JPS60255366A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0436833B2 true JPH0436833B2 (ja) | 1992-06-17 |
Family
ID=14539177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11057084A Granted JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255366A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0696227B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1994-11-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 研磨テ−プ |
| JPH0187865U (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-09 | ||
| DE69416855T2 (de) * | 1993-11-23 | 1999-08-12 | Plasmoteg Engineering Center, Minsk | Schleifmittel zur feinen oberflächenbehandlung und verfahren zur herstellung desselben |
| US5643343A (en) * | 1993-11-23 | 1997-07-01 | Selifanov; Oleg Vladimirovich | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| US5711773A (en) * | 1994-11-17 | 1998-01-27 | Plasmoteg Engineering Center | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60201877A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-12 | Mitsubishi Metal Corp | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP11057084A patent/JPS60255366A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60255366A (ja) | 1985-12-17 |
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