JPS60201878A - 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 - Google Patents
析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石Info
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- JPS60201878A JPS60201878A JP5804484A JP5804484A JPS60201878A JP S60201878 A JPS60201878 A JP S60201878A JP 5804484 A JP5804484 A JP 5804484A JP 5804484 A JP5804484 A JP 5804484A JP S60201878 A JPS60201878 A JP S60201878A
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- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/04—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
- B24D3/06—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements
- B24D3/10—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements for porous or cellular structure, e.g. for use with diamonds as abrasives
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- Mechanical Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ダイヤモンド研磨砥石にかがシ。
特に析出生成させた人工ダイヤモンド粒にて構成された
新規なダイヤモンド研磨砥石に関するものである。
新規なダイヤモンド研磨砥石に関するものである。
従来、一般に、超硬合金やその他のサーメット。
さらにセラミックスやガラスなどの研削・研磨にはダイ
ヤモンド研磨砥石が用いられている。
ヤモンド研磨砥石が用いられている。
この従来ダイヤモンド研磨砥石は、例え゛ばＭやＭ合金
の基体の研磨作用面に、結合剤として、レジン朝脂や、
ＯｕまたはＮｉなどの金属音用いて、天然ダイヤモン
ド粒、あるいに超高圧高温合成によって製造された人工
ダイヤモンド粒を分散結合させた構造をもつものくある
。
の基体の研磨作用面に、結合剤として、レジン朝脂や、
ＯｕまたはＮｉなどの金属音用いて、天然ダイヤモン
ド粒、あるいに超高圧高温合成によって製造された人工
ダイヤモンド粒を分散結合させた構造をもつものくある
。
したがって、上記の従来ダイヤモンド砥石においては、
天然ダイヤモンド粒や人工ダイヤモンド粒が高価である
ばかシでなく、研磨面に影響を及ぼすダイヤモンド粒を
できるだけ狭い範囲の粒度分布に収めなければならない
ため、著しく長時間の分級工程を必要とすることから、
その製造コストは高くならざるを得ないものであった。
天然ダイヤモンド粒や人工ダイヤモンド粒が高価である
ばかシでなく、研磨面に影響を及ぼすダイヤモンド粒を
できるだけ狭い範囲の粒度分布に収めなければならない
ため、著しく長時間の分級工程を必要とすることから、
その製造コストは高くならざるを得ないものであった。
そこで１本発明者等に、上述のような観点から、狭い範
囲内の粒度分布金もったダイヤモンド粒で構成されたダ
イヤモンド研磨砥石ケ製造コスト安く製造すべく研究を
行なった結果、まず、Ｍ、（ｕ。
囲内の粒度分布金もったダイヤモンド粒で構成されたダ
イヤモンド研磨砥石ケ製造コスト安く製造すべく研究を
行なった結果、まず、Ｍ、（ｕ。
Ｆｅ、 Ｎｉ、およびＣＯなど、さらにこれらの成分の
うちのいずれかを主成分として含有する合金からなる金
属、あるいは炭化タングステン（ｗｅ）基サーメット、
炭化チタン（ＴｉＣ）基サーメット、窒化チタン（Ｔｉ
Ｎ）基サーメット、および炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）基
サーメットなどのサーメットで製造された基体の研磨作
用面に、Ｗ、Ｍｏ、およびＮｂ。
うちのいずれかを主成分として含有する合金からなる金
属、あるいは炭化タングステン（ｗｅ）基サーメット、
炭化チタン（ＴｉＣ）基サーメット、窒化チタン（Ｔｉ
Ｎ）基サーメット、および炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）基
サーメットなどのサーメットで製造された基体の研磨作
用面に、Ｗ、Ｍｏ、およびＮｂ。
並びにその合金のうちの１種以上が分散相として存在す
る組織を有する蒸着層を、通常の化学蒸着法または物理
蒸着法によって形成し、この状態で、これを通常の人工
ダイヤモンド析出生成法、すなわち、反応混合ガスを加
熱し、活性化する手段として。
る組織を有する蒸着層を、通常の化学蒸着法または物理
蒸着法によって形成し、この状態で、これを通常の人工
ダイヤモンド析出生成法、すなわち、反応混合ガスを加
熱し、活性化する手段として。
（ａ） 例えば特開昭５８−９１１００号公報に記載さ
れるような熱電子放射材音用いる方法。
れるような熱電子放射材音用いる方法。
（ｂ）例えば特開昭５８−１３５１１７ 号公報に記載
されるような高周波によるプラズマ放電を利用する方法
、 （Ｃ） 例えば特開昭５８−１１０４９４ 号公報に記
載されるようなマイクロ波によるプラズマ放電を利用す
る方法、 以上（ａ）〜（Ｃ）のいずれかの方法によって処理する
と、主として前記蒸着層における分散相に強固な密着力
で人工ダイヤモンドが析出生成するよう［７ｚｊ０、こ
の結果の前記分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド
粒は粒度分布がきわめて狭い範囲内にあることから、こ
れ全研磨砥石として使用した場合。
されるような高周波によるプラズマ放電を利用する方法
、 （Ｃ） 例えば特開昭５８−１１０４９４ 号公報に記
載されるようなマイクロ波によるプラズマ放電を利用す
る方法、 以上（ａ）〜（Ｃ）のいずれかの方法によって処理する
と、主として前記蒸着層における分散相に強固な密着力
で人工ダイヤモンドが析出生成するよう［７ｚｊ０、こ
の結果の前記分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド
粒は粒度分布がきわめて狭い範囲内にあることから、こ
れ全研磨砥石として使用した場合。
すぐれた砥石性能を発揮するようになシ、さらにこの表
面にＮｉなどの金属表面層を、通常の化学蒸着法または
物理蒸着法にて蒸着形成したり、あるいは電解メッキ法
または無電解メッキ法によ勺メッキ形成した場合には、
前記析出生成人工ダイヤモンド粒の密着性が一段と向上
するようＩｃなシ、しかもこのダイヤモンド研磨砥石の
製造コス）（ｄ著しく安価であるという知見全得たので
ある。
面にＮｉなどの金属表面層を、通常の化学蒸着法または
物理蒸着法にて蒸着形成したり、あるいは電解メッキ法
または無電解メッキ法によ勺メッキ形成した場合には、
前記析出生成人工ダイヤモンド粒の密着性が一段と向上
するようＩｃなシ、しかもこのダイヤモンド研磨砥石の
製造コス）（ｄ著しく安価であるという知見全得たので
ある。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て。
て。
（１） 金属またはサーメットの基体と。
前記基体の研磨作用面に形成された。Ｗ、Ｍｏ。
およびＮｂ、並びにその合金のうちの１種以上が分散相
として存在する組織を有する蒸着層と、前記蒸着層にお
ける分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド粒と、 からなる析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイ
ヤモンド研磨砥石。
として存在する組織を有する蒸着層と、前記蒸着層にお
ける分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド粒と、 からなる析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイ
ヤモンド研磨砥石。
（２）金属またはサーメットの基体と。
前記基体の研磨作用面に形成された、Ｗ、Ｍｏ。
およびＮｂ、並びにその合金のうちの１種以上が分散相
として存在する組織を有する蒸着層と。
として存在する組織を有する蒸着層と。
前記蒸着層における分散相上に析出生成した人工ダイヤ
モンド粒と、 前記基体の研磨作用面ＶｃＭ着またはメッキにょ多形成
された金属表面層と。
モンド粒と、 前記基体の研磨作用面ＶｃＭ着またはメッキにょ多形成
された金属表面層と。
からなる析出主成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイ
ヤモンド研磨砥石。
ヤモンド研磨砥石。
に特徴含有するものである。
つぎｖｃ、この発明のダイヤモンド研磨砥石を実施例に
よシ具体的に説明する。
よシ具体的に説明する。
実施例 ｌ
基体として、Ｊ工Ｓ−８ＵＳ３１０のステンレス鋼で製
造され、かつ研磨作用面の寸法が外径＝７０１１１ＩＩ
Ｉφ×内径：５０ｍｍφのカップ状砥石本体を用意し、
まず、この砥石本体１−、通常の化学蒸着装置に装し。
造され、かつ研磨作用面の寸法が外径＝７０１１１ＩＩ
Ｉφ×内径：５０ｍｍφのカップ状砥石本体を用意し、
まず、この砥石本体１−、通常の化学蒸着装置に装し。
反応カス組成： ％ル％ Ｔ、 ＷＦａ ： ７４ 、
ＣＨ４：３ ’ ＋ Ｈ２’ ４０４ ＋ Ａｒ ：残
シ、反応ガス流量： ２ ｔ／１１１１１１゜砥石本体
加熱温度：１０００℃。
ＣＨ４：３ ’ ＋ Ｈ２’ ４０４ ＋ Ａｒ ：残
シ、反応ガス流量： ２ ｔ／１１１１１１゜砥石本体
加熱温度：１０００℃。
反応時間：２０時間、
の条件で化学蒸着処理を施すことによって、前記砥石本
体の研磨作用面に、平均層厚＝３００μｒｒＬヲ有し、
かつＷＯ２：５０容量係、Ｗ：５０容量係からなる組成
、並びに分散相としてのＷの平均粒径：０．５μｍｆ有
する蒸着層を形成し、引続いて、この化学蒸着処理後の
砥石本体を１反応混合ガスを加熱し、活性化する手段と
して、例えば金属タングステン製フィラメントの熱電子
放射材を用いる、特開昭５８−９１１００号公報に記載
きれるような人工ダイヤモンド析出生成装置に装入し、
反応容器：外径１２ｏ＋＋ＩＩ＋Ｉφを有する石英管、
反応混合ガス組成：容量割合で、ＯＨ４，／Ｈ２＝１
／ １００ 。
体の研磨作用面に、平均層厚＝３００μｒｒＬヲ有し、
かつＷＯ２：５０容量係、Ｗ：５０容量係からなる組成
、並びに分散相としてのＷの平均粒径：０．５μｍｆ有
する蒸着層を形成し、引続いて、この化学蒸着処理後の
砥石本体を１反応混合ガスを加熱し、活性化する手段と
して、例えば金属タングステン製フィラメントの熱電子
放射材を用いる、特開昭５８−９１１００号公報に記載
きれるような人工ダイヤモンド析出生成装置に装入し、
反応容器：外径１２ｏ＋＋ＩＩ＋Ｉφを有する石英管、
反応混合ガス組成：容量割合で、ＯＨ４，／Ｈ２＝１
／ １００ 。
熱電子放射材と砥石本体の研磨作用面との距離：１５ｍ
＋＋ 、 反応容器内雰囲気圧力ニ １０ ｔｏｒｒ；熱電子放射
材の加熱温度：２２００℃、熱電子放射材による上記研
磨作用面の加熱温度： ７５０ ℃１ 反応処理時間＝２０時間、 の条件で処理することによって、上記砥石本体の研磨作
用面における上記蒸着層のＷ分散相上に、平均粒径：４
μｍの人工ダイヤモンド粒を、分布面積：３５％の割合
で析出生成せしめた。
＋＋ 、 反応容器内雰囲気圧力ニ １０ ｔｏｒｒ；熱電子放射
材の加熱温度：２２００℃、熱電子放射材による上記研
磨作用面の加熱温度： ７５０ ℃１ 反応処理時間＝２０時間、 の条件で処理することによって、上記砥石本体の研磨作
用面における上記蒸着層のＷ分散相上に、平均粒径：４
μｍの人工ダイヤモンド粒を、分布面積：３５％の割合
で析出生成せしめた。
ついで、この結果得られた本発明ダイヤモンド研磨砥石
を用いて、研磨面が２７０”に調整され、口 かつ平面１０ｍｍｘ厚さ５１＋ｌｌ１１の寸法を有する
窒化けい素基セラミックスの前記研磨面’ｉ０．２８に
研磨した。この場合、３０秒の研磨時間を要したが、こ
の研磨時間は従来の結合剤としてＮｉミラいた同種ノダ
イヤモンド研磨砥石と同等のものであった。
を用いて、研磨面が２７０”に調整され、口 かつ平面１０ｍｍｘ厚さ５１＋ｌｌ１１の寸法を有する
窒化けい素基セラミックスの前記研磨面’ｉ０．２８に
研磨した。この場合、３０秒の研磨時間を要したが、こ
の研磨時間は従来の結合剤としてＮｉミラいた同種ノダ
イヤモンド研磨砥石と同等のものであった。
実施例 ２
基体として、研磨作用面の寸法が外径ニア０ｍｍφ×内
径：５０咽φのＭ合金（Ｓｉ：１０重量係含有）製カッ
プ状砥石本体を用意し、まず、この砥石本体を、物理蒸
着法の１種である通常のイオンブレーティング法葡用い
。
径：５０咽φのＭ合金（Ｓｉ：１０重量係含有）製カッ
プ状砥石本体を用意し、まず、この砥石本体を、物理蒸
着法の１種である通常のイオンブレーティング法葡用い
。
反応容器内の真空度： ５ｘ ｌ Ｏｔｏｒｒ。
蒸発源二ＭＯおよびＴｉ。
ＭＯへ照射される電子ビームの出カニ１５ＫＶ−０，２
２Ａ。
２Ａ。
Ｔｉへ照射される電子ビーム（７）出カニ１０Ｋｙ−０
，２Ａ。
，２Ａ。
反応容器の底部に置かれた上記蒸発源に対向して反応容
器の上部から５回転／分の速度で回転する状態で垂設さ
れた上記砥石本体への印加電圧・電流ニー２００Ｖ、２
００ｍＡ。
器の上部から５回転／分の速度で回転する状態で垂設さ
れた上記砥石本体への印加電圧・電流ニー２００Ｖ、２
００ｍＡ。
砥石本体の研磨作用面の加熱温度： ｓｏｏ ｃ。
反応時間＝１時間、
の条件で蒸着処理を施すことによって、前記砥石本体の
研磨作用面に、平均層厚＝０．８μｍｔ−有し。
研磨作用面に、平均層厚＝０．８μｍｔ−有し。
かつＭＯとＴ１とがそれぞれ面積比でＭｏ／Ｔｉ＝２７
１の割合で分散相を形成した組織を有する蒸着層を ｊ
形成し、さらに、この蒸着層形成後の砥石本体ヲ、１反
応混合ガスを加熱し、活性化する手段として、 ｊ高周
波によるプラズマ放電を利用する。−特開昭５８−１３
５１１７号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析
出生成装置に装入し。
１の割合で分散相を形成した組織を有する蒸着層を ｊ
形成し、さらに、この蒸着層形成後の砥石本体ヲ、１反
応混合ガスを加熱し、活性化する手段として、 ｊ高周
波によるプラズマ放電を利用する。−特開昭５８−１３
５１１７号公報に記載されるような人工ダイヤモンド析
出生成装置に装入し。
反応容器：直径１２０＋ｏ＋φの石英管、；。
反応混合ガス組成：モル割合で、ＯＨ４／Ｈ２／ Ａｒ
＝１／３００／３００ ）。
＝１／３００／３００ ）。
反応容器内雰囲気圧力＋ ２ ｔｏｒｒ 。
高周波コイルへの印加条件：周波数：１３．５６ＭＨ２
，出カニ５００Ｗ。
，出カニ５００Ｗ。
反応処理時間＝７時間。
の条件で処理することによって、上記砥石本体の研磨作
用面における上記蒸着層のＭｏ分散相上に、平均粒径：
１．５μｍの人工ダイヤモンド粒を、分布１ｆｆｔ ：
６０ ％の割合で析出形成させた。
用面における上記蒸着層のＭｏ分散相上に、平均粒径：
１．５μｍの人工ダイヤモンド粒を、分布１ｆｆｔ ：
６０ ％の割合で析出形成させた。
つぎに、この結果得られた本発明ダイヤモンド質層砥石
、さらにその表面に通常の条件にて平均菌属：２μｍの
Ｎ１を電気メッキして金属表面層全形成した本発明表面
被覆ダイヤモンド研磨砥石を用β、研磨面が６００ の
表面粗さを有する窒化け＾素基セラミックス試片の前記
研磨面を研磨して。
、さらにその表面に通常の条件にて平均菌属：２μｍの
Ｎ１を電気メッキして金属表面層全形成した本発明表面
被覆ダイヤモンド研磨砥石を用β、研磨面が６００ の
表面粗さを有する窒化け＾素基セラミックス試片の前記
研磨面を研磨して。
１１ｓＩｃ仕上げるのに要した時間を測定したとこう、
いずれも６０秒を要し、この所要時間は、レンン樹脂ボ
ンドの同種の従来ダイヤモンド研磨砥ゴと同等のもので
あった。
いずれも６０秒を要し、この所要時間は、レンン樹脂ボ
ンドの同種の従来ダイヤモンド研磨砥ゴと同等のもので
あった。
実施例 ３
基体として１重量係で％ＷＣニア０係、ＴｉＣ！Ｎ：１
０％、ＴｉＮ：５係、Ｔａｇ：２９６．Ｏｏ：９％、Ｎ
ｉ：４係からなる組成を有する超硬合金で製造され。
０％、ＴｉＮ：５係、Ｔａｇ：２９６．Ｏｏ：９％、Ｎ
ｉ：４係からなる組成を有する超硬合金で製造され。
かつ両端面外径：５０ｍｍφ×厚さ：１５ｍｍの寸法を
有する円板の研磨作用面となる外周面中央部に円周にそ
って半径：５叫の凸条を有するフォームド砥石本体全用
意し、まず、この砥石本体を１通常のスパッタリング装
置に装入し、 反応容器内の真空度： ２ ｘ １０ ｔｏｒｒ ＊雰
囲気： Ａｒ。
有する円板の研磨作用面となる外周面中央部に円周にそ
って半径：５叫の凸条を有するフォームド砥石本体全用
意し、まず、この砥石本体を１通常のスパッタリング装
置に装入し、 反応容器内の真空度： ２ ｘ １０ ｔｏｒｒ ＊雰
囲気： Ａｒ。
反応容器の上部にそれぞれ別個に配置されたターゲット
：ＮｂおよびＯｒ。
：ＮｂおよびＯｒ。
Ｎｂターゲットに印加される電圧： −１５００Ｖ 。
Ｏｒメタ−ットに印加される電圧ニー１２００Ｖ、反応
容器の下部に４回転／分の速度で回転させながら立置き
配置された砥石本体への印カリ電圧ニー２００Ｖ 、 砥石本体の加熱温度ニア００℃、 反応時間２２時間、 の条件で蒸着処理を施すことによって、前記砥石本体の
研磨作用面（外周面）に、平均層厚：０．８μｒｎｆ有
し、かつＮｂとｃｒとがそれぞれ同等の割合の面積比で
分散しへ組織を有する蒸着層全形成し。
容器の下部に４回転／分の速度で回転させながら立置き
配置された砥石本体への印カリ電圧ニー２００Ｖ 、 砥石本体の加熱温度ニア００℃、 反応時間２２時間、 の条件で蒸着処理を施すことによって、前記砥石本体の
研磨作用面（外周面）に、平均層厚：０．８μｒｎｆ有
し、かつＮｂとｃｒとがそれぞれ同等の割合の面積比で
分散しへ組織を有する蒸着層全形成し。
引続いて、この蒸着層形成後の砥石本体を、反応混合ガ
スを加熱し、活性化する手段として、マイクロ波による
プラズマ放電全利用する、特開昭５８−１１０４９４号
公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生成装置
に装入し。
スを加熱し、活性化する手段として、マイクロ波による
プラズマ放電全利用する、特開昭５８−１１０４９４号
公報に記載されるような人工ダイヤモンド析出生成装置
に装入し。
反応容器：直径１２０ｍｍφを有する石英管、反応混合
ガス組成：容量割合で、ＣＨ４／Ｈ２／ Ａ ｒ＝ １
／ １００／１０ ）％ 反応容器内の雰囲気圧力ニ ｌ ｔｏｒｒ・マイクロ波
：２．４５ＧＨ２゜ 反応処理時間：２４時間、 の条件で処理することにより、上記砥石本体の研磨作用
面における上記蒸着層のＮｂ分散相上に、平均粒径：６
μｒｒＬヲ有する人工ダイヤモンド粒を、４５憾の分布
面積割合で析出生成させた。
ガス組成：容量割合で、ＣＨ４／Ｈ２／ Ａ ｒ＝ １
／ １００／１０ ）％ 反応容器内の雰囲気圧力ニ ｌ ｔｏｒｒ・マイクロ波
：２．４５ＧＨ２゜ 反応処理時間：２４時間、 の条件で処理することにより、上記砥石本体の研磨作用
面における上記蒸着層のＮｂ分散相上に、平均粒径：６
μｒｒＬヲ有する人工ダイヤモンド粒を、４５憾の分布
面積割合で析出生成させた。
ついで、この結果得られた本発明ダイヤモンド研磨砥石
、並びにさらにこの表面に通常の条件にて平均層厚：３
μｍのＣ１ｕｉ電気メツキして金属底面層を形成した本
発明表面被覆ダイヤモンド研磨砥石を用い、Ｃｏ：１２
重量係、ＷＣ二残シからなる組成を有し、かつプロファ
イル加工によシ半径：４．８門の凹みを′形成しである
超硬合金素材の前記凹みを仕上げ研磨したところ、９０
秒を要した。
、並びにさらにこの表面に通常の条件にて平均層厚：３
μｍのＣ１ｕｉ電気メツキして金属底面層を形成した本
発明表面被覆ダイヤモンド研磨砥石を用い、Ｃｏ：１２
重量係、ＷＣ二残シからなる組成を有し、かつプロファ
イル加工によシ半径：４．８門の凹みを′形成しである
超硬合金素材の前記凹みを仕上げ研磨したところ、９０
秒を要した。
この所要時間はレジンボンドの同種の従来ダイヤモンド
研磨砥石と同等のものであった。
研磨砥石と同等のものであった。
上述のように、この発明のダイヤモンド研磨砥石は、こ
れ全構成するダイヤモンド粒が強固な密着力で結合し、
かつその粒度も蒸着層における分散相によって、＠わめ
て狭い範囲内に分布しているので、すぐれた研磨性能を
著しく長期に亘って発揮し、さらにダイヤモンド粒を通
常の人工ダイヤモンド析出生成法によって形成すること
ができるので、上記の整粒のダイヤモンド粒が形成され
ることと含まって製造コストが安いほど工業上有用な特
性を有するのである。
れ全構成するダイヤモンド粒が強固な密着力で結合し、
かつその粒度も蒸着層における分散相によって、＠わめ
て狭い範囲内に分布しているので、すぐれた研磨性能を
著しく長期に亘って発揮し、さらにダイヤモンド粒を通
常の人工ダイヤモンド析出生成法によって形成すること
ができるので、上記の整粒のダイヤモンド粒が形成され
ることと含まって製造コストが安いほど工業上有用な特
性を有するのである。
Claims (2)
- （１） 金属またはサーメットの基体と。 前記基体の研磨作用面に形成された。Ｗ、ＭＯ。 およびＮ１：＋、 兼びにその合金のうちの１種以上が
分散相として存在する組織を有する蒸着層と、前記蒸着
層における分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド粒
と、 からなること全特徴とする析出生成人工ダイヤモンド粒
で構成されたダイヤモンド研磨砥石。 - （２）金属またはサーメットの基体と、前記基体の研磨
作用面に形成された、Ｗ、Ｍｏ。 およびＮｂ、並びにその合金のうちの１種以上が分散相
として存在する組織を有する蒸着層と、前記蒸着層にお
ける分散相上に析出生成した人工ダイヤモンド粒と、 前記基体の研磨作用面に蒸着またはメッキにょ多形成さ
れた金属表面層と・ からなることを特徴とする析出生成人工ダイヤモンド粒
で構成されたダイヤモンド研磨砥石。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5804484A JPS60201878A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5804484A JPS60201878A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60201878A true JPS60201878A (ja) | 1985-10-12 |
| JPH0116624B2 JPH0116624B2 (ja) | 1989-03-27 |
Family
ID=13072930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5804484A Granted JPS60201878A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60201878A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63237870A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Goei Seisakusho:Kk | ダイヤモンド被膜砥石 |
| US5260141A (en) * | 1991-11-29 | 1993-11-09 | Regents Of The University Of Minnesota | Diamond coated products |
| JP2008006507A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-17 | Ebara Corp | ダイヤモンド研磨工具、ダイヤモンド研磨工具の作成方法、ダイヤモンド研磨工具の再生方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855562A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-04-01 | Hitachi Ltd | 研磨皿とその製造方法 |
| JPS58135117A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-11 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | ダイヤモンドの製造法 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5804484A patent/JPS60201878A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0116624B2 (ja) | 1989-03-27 |
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