JPH0437031B2 - - Google Patents
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- JPH0437031B2 JPH0437031B2 JP26857484A JP26857484A JPH0437031B2 JP H0437031 B2 JPH0437031 B2 JP H0437031B2 JP 26857484 A JP26857484 A JP 26857484A JP 26857484 A JP26857484 A JP 26857484A JP H0437031 B2 JPH0437031 B2 JP H0437031B2
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- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 29
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 26
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 24
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-) Chemical group [O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3] LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011019 hematite Substances 0.000 description 2
- 229910052595 hematite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004781 supercooling Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明はオーデイオ用の磁気ヘツドや、フロツ
ピードデイスク用のデイジタル磁気ヘツドなどの
磁気ヘツドの製造におけるMn−Znフエライトの
ギヤツプ形成を兼ねた接合方法に関するものであ
る。 〔従来技術とその問題点〕 上記のような磁気ヘツドにおいては、Mn−Zn
フエライト同志間またはMn−Znフエライトと非
磁性セラミツクスの間のギヤツプにこれらと接着
性に富む非磁性材料を充填固化してこれを形成す
るようにしている。そしてこの非磁性材料として
は、樹脂、ガラス、Si膜などが用いられるが、デ
イジタルヘツドのようにギヤツプが数ミクロン以
下と非常に薄いものでは、専らガラスが用いられ
る。 上記のようにガラスはMn−Znフエライトを用
いたヘツドの充填材として多用されるが、これは
ガラスの熱膨張係数をフエライトやセラミツクス
の熱膨張係数とほぼ等しく又はやや小さく選ぶこ
とができ、硬度が比較的大きく、而も軟化点が比
較的高いことによるものである。しかしながら従
来の製法によるヘツドにおいては、ガラス接着部
にボイドが比較的多数存在し、これが使用時にデ
イスクを傷つけることになり、デイスクの寿命を
短くするという欠点があつた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記の欠点を無くすためには、ガラスの接着面
に存在するボイドをなるべく少くすることであ
る。そこでボイド発生の機構を検討した結果次の
点が明らかになつた。すなわち、従来硝子を溶融
してギヤツプに充填する場合、雰囲気中に酸素が
あるとMn−Znフエライトにヘマタイト（Fe2O3）
など磁気特性を害する異相が形成されるので、こ
れを防止するため雰囲気として不活性ガス（実際
は数ppmの残存酸素を含む）を用いていた。この
ため酸素分圧の高い大気中で形成された本来酸化
物であるガラスが、高温において雰囲気中の酸素
分圧が零に近くなると平衡関係から酸素を放出
し、これが過冷過程でボイドとなつてそのまま残
るものと推考し、もし酸素分圧を或る程度高くし
てもヘマタイトのような異相が生じない範囲で前
記のボイドの発生を抑圧するような酸素分圧領域
があれば、前述の問点を解決し得るものと考え、
実験を行つた。そして予期したような結果を得
た。 〔発明の構成〕 本発明は雰囲気の酸素分圧を50ppmないし
300ppmに制御して前述の問題点を解消したもの
である。 すなわち本発明によれば、Mn−Zn系フエライ
トとMn−Zn系フエライトあるいは非磁性セラミ
ツクスをガラスで接合する際に、酸素分圧を
50ppmないし300ppmの間の濃度に制御し雰囲気
中で加熱して行うことを特徴とするフエライトの
接着方法が得られる。 〔実施例〕 以下本発明につき図面を参照して詳細に説明す
る。 実施例 １ 第１図はこの実施例に従つてフエライト同志を
ガラスで接着した状態を斜めから見た図である。
図においてフエライト１１と１２はいずれもMn
−Zn系フエライト（Fe2O351mol％、MnO28mol
％、ZnO21mol％）であり、ガラス１３は接着時
一旦溶融したあと固化したB2O3−SiO2系ガラス
（SiO235.0％、B2O35.0％、Al2O35.0％、
Na2CO323.0％、ZnO2.0％）である。外形の寸法
は図に示したとおりであり（単位mm）、ガラスの
接着層１４の厚さは2.0μである。 接着条件は、昇温速度150℃／時間で750℃×２
時間保持し、冷却速度は50℃／１時間で、窒素雰
囲気中とした。 窒素雰囲気中の酸素分圧は10ppm、50ppm、
100ppm、150ppmの４水準とした。各酸素分圧の
条件で、接着後のボイド数を評価した。評価は、
試料として用いたMn−Znフエライト（接着面鏡
面加工仕上げ品同志を接着）を長さ方向で10断面
に等分し、その断面を顕微鏡下1000倍でボイドを
数えることにより行つた。その結果表１の通りと
なつた。
ピードデイスク用のデイジタル磁気ヘツドなどの
磁気ヘツドの製造におけるMn−Znフエライトの
ギヤツプ形成を兼ねた接合方法に関するものであ
る。 〔従来技術とその問題点〕 上記のような磁気ヘツドにおいては、Mn−Zn
フエライト同志間またはMn−Znフエライトと非
磁性セラミツクスの間のギヤツプにこれらと接着
性に富む非磁性材料を充填固化してこれを形成す
るようにしている。そしてこの非磁性材料として
は、樹脂、ガラス、Si膜などが用いられるが、デ
イジタルヘツドのようにギヤツプが数ミクロン以
下と非常に薄いものでは、専らガラスが用いられ
る。 上記のようにガラスはMn−Znフエライトを用
いたヘツドの充填材として多用されるが、これは
ガラスの熱膨張係数をフエライトやセラミツクス
の熱膨張係数とほぼ等しく又はやや小さく選ぶこ
とができ、硬度が比較的大きく、而も軟化点が比
較的高いことによるものである。しかしながら従
来の製法によるヘツドにおいては、ガラス接着部
にボイドが比較的多数存在し、これが使用時にデ
イスクを傷つけることになり、デイスクの寿命を
短くするという欠点があつた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記の欠点を無くすためには、ガラスの接着面
に存在するボイドをなるべく少くすることであ
る。そこでボイド発生の機構を検討した結果次の
点が明らかになつた。すなわち、従来硝子を溶融
してギヤツプに充填する場合、雰囲気中に酸素が
あるとMn−Znフエライトにヘマタイト（Fe2O3）
など磁気特性を害する異相が形成されるので、こ
れを防止するため雰囲気として不活性ガス（実際
は数ppmの残存酸素を含む）を用いていた。この
ため酸素分圧の高い大気中で形成された本来酸化
物であるガラスが、高温において雰囲気中の酸素
分圧が零に近くなると平衡関係から酸素を放出
し、これが過冷過程でボイドとなつてそのまま残
るものと推考し、もし酸素分圧を或る程度高くし
てもヘマタイトのような異相が生じない範囲で前
記のボイドの発生を抑圧するような酸素分圧領域
があれば、前述の問点を解決し得るものと考え、
実験を行つた。そして予期したような結果を得
た。 〔発明の構成〕 本発明は雰囲気の酸素分圧を50ppmないし
300ppmに制御して前述の問題点を解消したもの
である。 すなわち本発明によれば、Mn−Zn系フエライ
トとMn−Zn系フエライトあるいは非磁性セラミ
ツクスをガラスで接合する際に、酸素分圧を
50ppmないし300ppmの間の濃度に制御し雰囲気
中で加熱して行うことを特徴とするフエライトの
接着方法が得られる。 〔実施例〕 以下本発明につき図面を参照して詳細に説明す
る。 実施例 １ 第１図はこの実施例に従つてフエライト同志を
ガラスで接着した状態を斜めから見た図である。
図においてフエライト１１と１２はいずれもMn
−Zn系フエライト（Fe2O351mol％、MnO28mol
％、ZnO21mol％）であり、ガラス１３は接着時
一旦溶融したあと固化したB2O3−SiO2系ガラス
（SiO235.0％、B2O35.0％、Al2O35.0％、
Na2CO323.0％、ZnO2.0％）である。外形の寸法
は図に示したとおりであり（単位mm）、ガラスの
接着層１４の厚さは2.0μである。 接着条件は、昇温速度150℃／時間で750℃×２
時間保持し、冷却速度は50℃／１時間で、窒素雰
囲気中とした。 窒素雰囲気中の酸素分圧は10ppm、50ppm、
100ppm、150ppmの４水準とした。各酸素分圧の
条件で、接着後のボイド数を評価した。評価は、
試料として用いたMn−Znフエライト（接着面鏡
面加工仕上げ品同志を接着）を長さ方向で10断面
に等分し、その断面を顕微鏡下1000倍でボイドを
数えることにより行つた。その結果表１の通りと
なつた。
【表】
この表１から分るように、窒素雰囲気中の酸素
分圧を高めることにより、ボイド数を減少させる
ことができた。なおこの範囲では異相の発生はな
かつた。 第２図のＡは表１の結果を酸素分圧（ppm）と
ボイド数（10断面分）の関係を示す図である。酸
素分圧の増加に伴つてボイド数が相当減少するこ
とが分る。Ｂについてはあとに説明する。 実施例 ２ 第１図のような形状の試料を用いてMn−Znフ
エライト（Fe2O353mol％、MnO31mol％、
ZnO17mol％）をPbO−SiO2系ガラス（PbO51.0
％、SiO233.0％、NaCO36.0％、B2O34.0％、
Al2O31.0％、ZnO5.0％）で接着した。接着層の
厚さは2.5μである。 接着の条件は、昇温200℃／１時間で、750℃×
２時間保持し、冷却速度50℃／１時間で、アルゴ
ン雰囲気中とした。そしてアルゴン雰囲気中の酸
素分圧を10ppm、50ppm、100ppm、150ppm、
250ppm、300ppmの６水準とし、各酸素分圧の条
件で、接着後実施例１と同様にしてボイド数を評
価した。その結果は表２の通りとなつた。
分圧を高めることにより、ボイド数を減少させる
ことができた。なおこの範囲では異相の発生はな
かつた。 第２図のＡは表１の結果を酸素分圧（ppm）と
ボイド数（10断面分）の関係を示す図である。酸
素分圧の増加に伴つてボイド数が相当減少するこ
とが分る。Ｂについてはあとに説明する。 実施例 ２ 第１図のような形状の試料を用いてMn−Znフ
エライト（Fe2O353mol％、MnO31mol％、
ZnO17mol％）をPbO−SiO2系ガラス（PbO51.0
％、SiO233.0％、NaCO36.0％、B2O34.0％、
Al2O31.0％、ZnO5.0％）で接着した。接着層の
厚さは2.5μである。 接着の条件は、昇温200℃／１時間で、750℃×
２時間保持し、冷却速度50℃／１時間で、アルゴ
ン雰囲気中とした。そしてアルゴン雰囲気中の酸
素分圧を10ppm、50ppm、100ppm、150ppm、
250ppm、300ppmの６水準とし、各酸素分圧の条
件で、接着後実施例１と同様にしてボイド数を評
価した。その結果は表２の通りとなつた。
【表】
この表２から分るように、アルゴン雰囲気の酸
素分圧を高めることにより、第２図のＢに示すよ
うに、ボイド数を減少させることができた。しか
し300ppm以上にすると、フエライトにはヘマタ
イト相（非磁性相）が生成し（顕微鏡で確認でき
た）、磁気ヘツドを製造する際には透磁率を劣化
させるので好ましくなく、酸素分圧は制限され
る。 実施例 ３ 第３図はこの実施例に従つてフエライトとセラ
ミツクをガラスで接着した状態を示す図である。
図においてフエライト２１はMn−Zn系フエライ
ト（Fe2O352mol％、MnO28mol％、ZnO20mol
％）、セラミツクス２２はチタン酸バリウム系セ
ラミツク（CaTiO3（CaC38mol％、TiO262mol
％））、ガラス２３はPbO−B2O3系ガラス
（PbO58.0％、B2O318.0％、SiO27.0％、
Al2O310.0％、Na2CO35.0％、ZnO2.0％）であ
る。ガラス接着層２４の厚さは5.0μである。接着
の条件は、昇温速度200℃／１時間で700℃×0.5
時間保持し、冷却速度50℃／時間で、窒素雰囲気
中とした。そして窒素雰囲気中の酸素分圧を
10ppm、50ppm、100ppm、150ppmの４水準とし
た。 各酸素分圧の条件で接着後、そのボイド数を前
述の実施例と同じようにして評価した。その結果
は表３の通りとなつた。
素分圧を高めることにより、第２図のＢに示すよ
うに、ボイド数を減少させることができた。しか
し300ppm以上にすると、フエライトにはヘマタ
イト相（非磁性相）が生成し（顕微鏡で確認でき
た）、磁気ヘツドを製造する際には透磁率を劣化
させるので好ましくなく、酸素分圧は制限され
る。 実施例 ３ 第３図はこの実施例に従つてフエライトとセラ
ミツクをガラスで接着した状態を示す図である。
図においてフエライト２１はMn−Zn系フエライ
ト（Fe2O352mol％、MnO28mol％、ZnO20mol
％）、セラミツクス２２はチタン酸バリウム系セ
ラミツク（CaTiO3（CaC38mol％、TiO262mol
％））、ガラス２３はPbO−B2O3系ガラス
（PbO58.0％、B2O318.0％、SiO27.0％、
Al2O310.0％、Na2CO35.0％、ZnO2.0％）であ
る。ガラス接着層２４の厚さは5.0μである。接着
の条件は、昇温速度200℃／１時間で700℃×0.5
時間保持し、冷却速度50℃／時間で、窒素雰囲気
中とした。そして窒素雰囲気中の酸素分圧を
10ppm、50ppm、100ppm、150ppmの４水準とし
た。 各酸素分圧の条件で接着後、そのボイド数を前
述の実施例と同じようにして評価した。その結果
は表３の通りとなつた。
【表】
第４図のＣは表２の結果をグラフにした図であ
る。表３および第４図から分るように、窒素雰囲
気中の酸素分圧を高めることによりボイド数を減
少させることができた。なおこの範囲ではフエラ
イト２１に異相の発生は見出されなかつた。 実施例 ４ 第３図と同じ形状の試料を用い、Mn−Zn系フ
エライト（Fe2O352mol％、MnO27mol％、
ZnO21mol％）２１とチタンサンバリウム系セラ
ミツクス（CaO30mol％、TiO270mol％）２２を
PbO−B2O3系ガラス（PbO45.0％、B2O323.0％、
SiO215.0％、Na2CO310.0％、Al2O37.0％）２４
で接着した。接着層の厚さは8.0μである。接着の
条件は、昇温250℃／１時間で、700℃×２時間保
持し、冷却速度50℃／１時間でアルゴン雰囲気中
とした。そしてアルゴン雰囲気中の酸素分圧を
10ppm、50ppm、100ppm、150ppm、300ppm、
及び350ppmの６標準とし、各酸素分圧の条件で、
接着後、実施例と同様にしてボイド数を評価し
た。その結果を表４に示す。第４図のＤは表２の
データをグラフにした図である。
る。表３および第４図から分るように、窒素雰囲
気中の酸素分圧を高めることによりボイド数を減
少させることができた。なおこの範囲ではフエラ
イト２１に異相の発生は見出されなかつた。 実施例 ４ 第３図と同じ形状の試料を用い、Mn−Zn系フ
エライト（Fe2O352mol％、MnO27mol％、
ZnO21mol％）２１とチタンサンバリウム系セラ
ミツクス（CaO30mol％、TiO270mol％）２２を
PbO−B2O3系ガラス（PbO45.0％、B2O323.0％、
SiO215.0％、Na2CO310.0％、Al2O37.0％）２４
で接着した。接着層の厚さは8.0μである。接着の
条件は、昇温250℃／１時間で、700℃×２時間保
持し、冷却速度50℃／１時間でアルゴン雰囲気中
とした。そしてアルゴン雰囲気中の酸素分圧を
10ppm、50ppm、100ppm、150ppm、300ppm、
及び350ppmの６標準とし、各酸素分圧の条件で、
接着後、実施例と同様にしてボイド数を評価し
た。その結果を表４に示す。第４図のＤは表２の
データをグラフにした図である。
以上の説明から分るように、本発明のフエライ
ト接着方法によれば、デイスクを使用中に傷つけ
ることが少なく而も磁気特性の劣化しないヘツド
を作ることが出来る。
ト接着方法によれば、デイスクを使用中に傷つけ
ることが少なく而も磁気特性の劣化しないヘツド
を作ることが出来る。
第１図はフエライト同志をガラスで接着した状
態を斜めから見た図、第２図は第１図における接
着によつて生じるボイドの数と酸素分圧の関係を
示す図、第３図はフエライトとセラミツクスをガ
ラスで接着した状態を斜めから見た図、第４図は
第３図における接着によつて生じるボイドの数と
酸素分圧の関係を示す図である。 記号の説明：１１，１２はフエライト、１３は
ガラス、１４は接着層、２１はフエライト、２２
はセラミツクス、２３はガラス、２４は接着層と
それぞれあらわしている。
態を斜めから見た図、第２図は第１図における接
着によつて生じるボイドの数と酸素分圧の関係を
示す図、第３図はフエライトとセラミツクスをガ
ラスで接着した状態を斜めから見た図、第４図は
第３図における接着によつて生じるボイドの数と
酸素分圧の関係を示す図である。 記号の説明：１１，１２はフエライト、１３は
ガラス、１４は接着層、２１はフエライト、２２
はセラミツクス、２３はガラス、２４は接着層と
それぞれあらわしている。
Claims (1)
- １ Mn−Zn系フエライトとMn−Zn系フエライ
トあるいは非磁性セラミツクスをガラスで接合す
る際に、酸素分圧を50ppmないし300ppmの間の
濃度に制御した雰囲気中で加熱して行うことを特
徴とするフエライトの接着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26857484A JPS61151069A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | フェライトの接着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26857484A JPS61151069A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | フェライトの接着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61151069A JPS61151069A (ja) | 1986-07-09 |
| JPH0437031B2 true JPH0437031B2 (ja) | 1992-06-18 |
Family
ID=17460409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26857484A Granted JPS61151069A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | フェライトの接着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61151069A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63173211A (ja) * | 1987-01-10 | 1988-07-16 | Sony Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1984
- 1984-12-21 JP JP26857484A patent/JPS61151069A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61151069A (ja) | 1986-07-09 |
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