JPH04370510A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドの製造方法

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JPH04370510A
JPH04370510A JP14840291A JP14840291A JPH04370510A JP H04370510 A JPH04370510 A JP H04370510A JP 14840291 A JP14840291 A JP 14840291A JP 14840291 A JP14840291 A JP 14840291A JP H04370510 A JPH04370510 A JP H04370510A
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JP
Japan
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thin film
plate
film magnetic
protective plates
positioning
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Withdrawn
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JP14840291A
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English (en)
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Kazuaki Egawa
江川 一秋
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドをマト
リックス状に形成した基板上に接着部材によって保護板
を接合する薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】巻線型の薄膜磁気ヘッドとしては、磁気
抵抗効果型ヘッドおよびインダクティブヘッドが使用さ
れている。それらの製造方法を、図10および図11に
基づいて説明する。
【0003】図10は、主として再生ヘッドとして用い
られる磁気抵抗効果型ヘッドのあるユニットの略断面図
である。同図において、基板をなす下側ヨーク1は、N
i−Znフェライトや、Nn−Znフェライト等の高透
磁率磁性体で構成されている。下側ヨーク1の上には、
ギャップgを形成するAl2 O3 やSiO2 より
なる絶縁層2があり、さらにその上に磁気抵抗効果(M
R)素子にバイアス磁場を印加するための電流バイアス
導体3が設けられている。該電流バイアス導体3の上部
は、SiO2 ,Al2 O3 等の素材からなる絶縁
層4で被覆されている。絶縁層4の上にはパーマロイ蒸
着膜からなるMR素子5が形成されている。MR素子5
の上は、SiO2 ,Al2 O3 等からなる絶縁層
6で被覆されている。該絶縁層6の上には、図示されて
いない磁気記録媒体から発生する信号磁界をMR素子5
に導く上側ヨーク7が形成される。該磁気ヘッドの前面
のギャップgは、薄膜磁気ヘッドにおける磁気ギャップ
を構成する部分であり、後の研磨工程によってこの側面
に磁気テープとの摺動面が形成されることになる。この
ようにして薄膜磁気回路が形成された下側ヨーク1の上
の上側ヨーク7をまずSiO2 またはAl2 O3 
等のパッシベーション膜8で覆い、該パッシベーション
膜の上面8aを平坦にするためにダイヤモンドパウダー
等により研磨加工を行なう。この平坦化研磨は、上部磁
性体である上側ヨーク7を傷つけない程度の高さまで行
なう。次に、前記研磨加工により平坦化した部分8aに
接着剤9を介して保護板10を接合する。以上のような
各ユニットが多数1枚のウェーハ上に、薄膜形成技術に
より形成される。このウェーハ上の薄膜磁気ヘッド群を
行単位に分断した後、接着剤9を塗布し保護板10を重
ねて加圧し温度を上昇させて接着し、その後個々のヘッ
ドに分割する。
【0004】図11は、主として記録ヘッドとして用い
られる薄膜型のインダクティブヘッドのあるユニットの
断面図である。同図において、フェライト等の磁性基板
または非磁性体の基板11上に、Fe−Al−Siまた
はFe−Ni等の磁性合金からなる下部磁性層12がス
パッタリング等によって形成される。次にSiO2 ま
たはAl2 O3 等からなる層間絶縁層13を形成し
、Ag,Au,Cu等の金属よりなる巻線導体14をス
パッタリング等により形成し、その上を層間絶縁層13
の上層部で覆った後、フロントギャップとバックギャッ
プの層間絶縁層13をテーパエッチングして、磁気ギャ
ップを構成するギャップgを端部に形成する。次に下部
磁性層12と同材料よりなる上部磁性層15が、スパッ
タリング等の薄膜成膜技術およびフォトリソグラフィ等
により所定のパターンで順次積層されて薄膜磁気回路を
形成する。このようにして形成された薄膜磁気回路は、
その上方に保護板19を接合することにより保護する必
要がある。まず、この磁気回路が形成された基板11上
を、絶縁保護層16で覆い、さらにガラス下地層17で
覆う。絶縁保護層16は、SiO2 等からなる絶縁膜
で、ガラス下地層17は、Cr,またはTi等の金属膜
で、接合に用いるガラスと絶縁保護層の化学反応によっ
て発泡が生じるのを防止するためである。次に保護板1
9の接合に入る。前記のガラス下地層17とその上の保
護板19との隙間に、ガラス18を充填するかまたは接
着することにより保護板19が接合されることになる。
【0005】ここで保護板19の接合は、この接合強度
を十分に得るために、ガラス転移点よりさらに数百度高
い温度で作業を行なう必要がある。したがって、従来は
ウェーハ上に形成したヘッドチップ群を行単位に切断し
た後、該行ウェーハを位置決めし、その上にガラスを形
成した短冊状保護板を位置決めし、その上より一定の重
さを加えて途中に入れ、加熱して接合が行なわれていた
。その後個々のヘッドに分割する。
【0006】前述のように、保護板をヘッドチップに接
合するとき、磁気抵抗効果型の場合は接着剤を用い、イ
ンダクティブ型の場合はガラスが用いられていた。
【0007】そして、保護板とヘッドチップとの間で接
着剤を硬化させることにより、またはガラスを軟化また
は溶融し固まらせることにより接合が行なわれる。この
ような薄膜磁気ヘッドは、薄膜形成技術およびリソグラ
フィ技術の応用により、その量産性が優れている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来は
、磁気ヘッドの量産においてはコストダウンを図るため
、面積の大きなウェーハ上にマトリックス状の複数個の
ヘッド群をバッチ処理により形成するから、保護板の接
合工程においても、ウェーハ単位で複数行の保護板を同
時に接合する必要がある。このとき保護板を接着剤によ
り接着するタイプの磁気ヘッドにおいては、接着層が厚
くなると、摺動面の研磨加工の際の接合部の境界面のチ
ッピング発生の原因となる。また、保護板をガラスによ
り接合するタイプの磁気ヘッドにおいては、ガラス層の
厚さの均一性、接着層の均一性等が、磁気ヘッドのテー
プ摺動面の磨耗の均一性を実現する上で重要である。 特にガラス接合においては、作業温度が高く高温での保
護板圧力の安定性が重要である。このように、薄膜磁気
ヘッドの量産性の特徴を最大限に発揮するためには、薄
膜形成後の保護板接合を、ウェーハ単位に効率的にかつ
均一な接合部分の厚さを得る必要がある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明においては、接合
装置本体に複数の薄膜磁気ヘッドをマトリックス状に形
成した基板を位置決めする工程と、前記のマトリックス
状に形成された各行に接着部材を介して保護板を位置決
めして載置する工程と、各行の保護板の上部に押圧体を
載置する工程と、各押圧体の上部をスリットで分割され
た板ばねで各行ごとに押圧する工程と、板ばねで押圧さ
れた基板と保護板とを加熱して保護板を薄膜磁気ヘッド
に接合する工程とを設けた。
【0010】
【作用】本発明による製造方法は、以上のような工程を
有するから、位置決めしたウェーハの、複数の磁気ヘッ
ドを形成した単位行を複数行形成してなるそれぞれの単
位行上に、磁気テープと接触する磁気ヘッドの摺動部分
の一部を形成しかつ磁気ヘッドの薄膜形成部を保護する
ための保護板を、接着剤またはガラス等の接着部材を介
して、位置決めして重ね合せ各行ごとに所望の圧力で接
合することができる。また、加圧用ばねは平行度の良好
な1枚の薄板ばねを用いており、これはスリットで分割
されているから、接合時加圧力を複数行の各保護板に均
一に加えることができる。そのため各単位行間の接合部
における接着剤またはガラスの厚さの分布の幅を小さく
できる。ばね用材料として、Ni−Cr系を中心とした
耐熱ばね材料を使用すると、ガラスによる接合のとき、
高い作業温度においても一様でかつ十分な加圧力が得ら
れ、良好に結合が行なわれる。
【0011】
【実施例】図1は、本発明による製造工程を実施するた
めの装置の一部切欠正面図であり、図2はその平面図で
ある。こられの図に示されるように、接合装置本体20
の上に接合基準下板21を、接合装置本体20に固定し
た位置決めピン22a、22bにより位置決めする。そ
の上に載置される各部分については、以下に各部ごとに
詳説する。これらは、後述の図9に示されるように、接
合装置本体20に回転自在に取付けられたウェーハ加圧
用板36で押さえられそれに設けた加圧用ねじ39によ
り圧力を調整される。
【0012】図3Aは、1対のウェーハ位置決め板24
a,24bよりなるウェーハ位置決め用の部品であって
、それぞれの内側の位置決め部24cに、多数の薄膜磁
気ヘッドをマトリックス状に形成しパッシベーション膜
の平坦化研磨を完了した基板51が嵌込まれる。接合装
置本体20に固定した位置決めピン23a,23bにウ
ェーハ位置決め板24a,24bの位置決め用ピン穴2
5を嵌合させて位置決めし、前述のように位置決め部2
4cに基板51を位置決めする。同図に示されるように
、基板51上の左端の行a上に複数個のヘッドチップa
1〜a4が形成されており、さらにこの行は複数行a〜
nが形成されている。最終的にこれらは個々のチップ単
位に分断される。ウェーハ位置決め板24a,24bは
、その厚さをウェーハ厚さより薄くして、接着剤の流出
による基板51と位置決め板24a,24bとの誤接着
を防いでいる。
【0013】次に、図3Bに示されるように、基板51
上に形成された磁気ヘッドの保護板接合位置に、各行単
位に接着剤(図示されていない)を塗布しておき、図3
Cに示されるような1対のスペーサ26a,26bをそ
の位置決め用ピン穴25aにより前述と同様に位置決め
ピン23a,23bに嵌合させ、ウェーハ位置決め板2
4a,24b上に位置決めしておき、その上に多数の保
護板10を位置決めするための保護板位置決め板27a
,27bを、さらに位置決めピン23a,23bに嵌合
させて取付ける。次に、短冊状に切断した保護板10,
10…を保護板位置決め板27aおよび27bの位置決
め溝27c,27c…に平行に並べる。
【0014】その後、図4に示されるような枠状の加圧
体28の位置決め穴28a,28bを位置決めピン22
a,22bに嵌合して、保護板位置決め板27a,27
bの上に被せ位置決めする。同図に示されるように、加
圧体28は、その内側に設けたガイド溝28c,28c
…に沿って後述の保護板10の押圧体29,29…が上
下に摺動可能になっており、このガイド溝28cはウェ
ーハ上の保護板接着部のピッチに合せて複数個平行に設
けられている。
【0015】図5は、押圧体29の斜視図である。これ
は、保護板押圧部30とその反対側の板ばね加圧部30
b,30cと、これを加圧体28にセットしたとき、下
側に抜け落ちないように左右対称位置に鍔30dが設け
られている。
【0016】図6は、図1の点線で囲ったEの部分の拡
大図である。基板51の上面に接着剤を介して位置決め
した保護板10の上面を押圧体29を介して、後述の板
ばね31によって加圧して、所望の接着層厚さを得るこ
とになる。接着剤による結合の場合は、保護板10を均
一に加圧するために、押圧体29の保護板10と当接す
る面30に、シリコンゴム等の弾性体を張付けておく。
【0017】図7は、板ばね31の平面図である。これ
は図のように1枚の板材を下記のように加工してある。 板ばね31は、その縦方向に等ピッチのスリット31s
,31s…で分割された板ばね加圧部31a,31a,
…が、それぞれ押圧体30の上端を加圧するとき、片持
ちばねとして作用するように中央に割目31cを設けて
ある。したがって、分離された各ばねによる加圧力は、
均一に付加されるため接着層の厚さを均一にできる。板
ばね31は、位置決め穴32a,32bを図4に示され
るばね位置決め板33の位置決め穴33a,33bと位
置決めピン23a,23bにより加圧体28に位置決め
され、図2に示されるようにばね押え板34とともにね
じ35により加圧体28に固定される。
【0018】図8は、ばね押え板34の平面図である。 枠体の中央にビーム34aが形成されており、これは板
ばね加圧部31a,31a,…の自由端を押さえるよう
になっている。
【0019】さて、基板51のセット、保護板10のセ
ット、加圧体28のセット等が完了すると、次に、図9
に示したように、接合装置本体20に支軸38を中心と
して回転自在に取付けられたウェーハ加圧用板36を、
セットされたものの上に被せ、固定ピン37を接合装置
本体20からウェーハ加圧用板36に貫通させ動きを規
制する。そして、ウェーハ加圧用板36の中心のねじ3
9を締め込んで、ばね押え板34および加圧体28を下
に向かって押すことによりばね力を保護板10の押圧体
29に伝え、保護板10を加圧する。
【0020】その後図1および図2に示される重ね合わ
せられた加圧体28と接合基準下板21等をねじ40a
,40bにより一体とする。そして接合装置本体20よ
り上記一体となった加圧治具一式41を炉中に入れ、昇
温して接着材を硬化させ接合が完了する。なお、ウェー
ハ位置決め板24a,24b、保護板位置決め板27a
,27b、スペーサ26a,26bは、加圧治具一式4
1を接合装置本体20から取外すとき、固定ピン37が
外れるため横方向から取外すことが可能である。
【0021】以上の説明では、磁気抵抗効果装置を使用
した再生ヘッドの場合の、接着剤による接合の場合を示
したが、記録ヘッドとして用いるインダクティブヘッド
の場合は、前述と同様に、複数の磁気ヘッドをマトリッ
クス状に形成したウェーハを図2に示した接合装置本体
20の上に位置決めされた接合基準下板21の上に、位
置決めピン22a,22bにより位置決めされた図3A
に示されるウェーハ位置決め板24a,24bによりそ
の位置決めを行なう。その上に、図3Cに示されるスペ
ーサ26a,26b、保護板位置決め板27a,27b
を置き、片面に低融点ガラス層を形成した保護板10,
10…を置き、次に加圧体28押圧体29等を重ねるこ
とは、前述と同様である。加圧用板ばね31は、ガラス
接合の作業温度が高温であるため、高温でもその弾性を
失わないばね材を使用する必要がある。高温でも弾性を
失わない材料として、Ni−Cr系を初めとしたNi基
合金を用いる。また、その他構成部品も耐熱性の高い材
料を用いる。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、大面積のウェーハ上に
スパッタリング等によりマトリックス状に形成した薄膜
磁気ヘッドの保護板接合において、1ウェーハ分同時に
保護板の接合が行なえ、また加圧用板ばねの一体化によ
り、接合時の加圧力が均一に加わるため、接着剤または
ガラス層の厚さの均一化が図れる。また高温下において
も十分な強度を保持する材料を使用すると、ガラス接合
時における高温での加圧力の均一化が可能であり、ガラ
ス層厚さが均一化される。また接合治具もその熱容量が
小さく、温度上昇,温度降下が早く、量産性に優れてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用される装置の一部切欠正面図であ
る。
【図2】図1の平面図である。
【図3】Aはウェーハ位置決め板、Bは保護板位置決め
板、Cはスペーサの平面図である。
【図4】加圧体の平面図である。
【図5】押圧体の斜視図である。
【図6】図1のEの部分の拡大図である。
【図7】板ばねの平面図である。
【図8】ばね押え板の平面図である。
【図9】接合装置本体のウェーハ加圧用板の動作を示す
側面図である。
【図10】磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの略断面図で
ある。
【図11】薄膜型インダクティブヘッドの略断面図であ
る。
【符号の説明】
20  接合装置本体 21  接合基準下板 22a,22b  位置決めピン 23a,23b  位置決めピン 24a,24b  ウェーハ位置決め板25  位置決
め用ピン穴 26a,26b  スペーサ 27a,27b  保護板位置決め板 28  加圧体 29  押圧体 31  板ばね 33  ばね位置決め板 34  ばね押え板 35  ねじ 36  ウェーハ加圧用板 37  固定ピン 38  支軸 39  加圧用ねじ 40  ねじ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  接合装置本体に複数の薄膜磁気ヘッド
    をマトリックス状に形成した基板を位置決めする工程と
    、前記のマトリックス状に形成された各行に接着部材を
    介して保護板を位置決めして載置する工程と、各行の保
    護板の上部に押圧体を配置する工程と、各押圧体の上部
    をスリットで分割された板ばねで各行ごとに押圧する工
    程と、板ばねで押圧された基板と保護板とを加熱して保
    護板を薄膜磁気ヘッドに接合する工程とを有することを
    特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
JP14840291A 1991-06-20 1991-06-20 薄膜磁気ヘッドの製造方法 Withdrawn JPH04370510A (ja)

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Effective date: 19980903