JPS6028016A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、さらに詳しくは基板上
に磁性膜や導電膜を形成し、磁気回路パターン上に保護
板を接合した構造の薄膜磁気ヘッドに関するものである
。
に磁性膜や導電膜を形成し、磁気回路パターン上に保護
板を接合した構造の薄膜磁気ヘッドに関するものである
。
従来技術
一般に薄膜磁気ヘッドは、フェライトなどの基板上にセ
ンダストやパーマロイなどの磁性膜や、AU 、 CU
、 AL等の導電膜をスパッタリングや蒸着などの薄
膜堆積法により形成し、これらの薄膜をフォトエツチン
グ工程を経て所定のパターンの磁気回路及び電気回路を
形成しである。
ンダストやパーマロイなどの磁性膜や、AU 、 CU
、 AL等の導電膜をスパッタリングや蒸着などの薄
膜堆積法により形成し、これらの薄膜をフォトエツチン
グ工程を経て所定のパターンの磁気回路及び電気回路を
形成しである。
そしてこれらの回路パターンを保護すると共に磁気記録
媒体摺動面を形成するためにパターン上の接着材を用い
て貼り合わせ、磁気記録媒体摺動面側を研削して完成し
た薄膜磁気ヘッドを得ている。
媒体摺動面を形成するためにパターン上の接着材を用い
て貼り合わせ、磁気記録媒体摺動面側を研削して完成し
た薄膜磁気ヘッドを得ている。
このような薄膜磁気ヘッドを製造する工程の途中で、基
板上のパターンに保護板を貼り合わせる際、前述したよ
うに接着材を介して保護板を重ね、十分に加圧しながら
、接着材の硬化を行っている。
板上のパターンに保護板を貼り合わせる際、前述したよ
うに接着材を介して保護板を重ね、十分に加圧しながら
、接着材の硬化を行っている。
ところで、接着材を用いて保護板を接着させる構造を採
用すると、接着材の硬化後に接着材中に気泡が発生して
しまう。
用すると、接着材の硬化後に接着材中に気泡が発生して
しまう。
とのような気泡が発生する原因は加熱することにより接
着材中の溶剤が揮発し、これが気泡となることや、保護
板の貼り合わせの際に取込まれた気泡が加圧されること
によシ逃げきれずに接着材中に残ってしまうなどの点に
ある。
着材中の溶剤が揮発し、これが気泡となることや、保護
板の貼り合わせの際に取込まれた気泡が加圧されること
によシ逃げきれずに接着材中に残ってしまうなどの点に
ある。
このような気泡が発生すると次のような各種の問題点が
生じる。
生じる。
(11薄膜磁気ヘツドの磁性膜から形成された素子部近
傍、特に磁気記録媒体摺動面付近に気泡が発生すると、
磁気記録媒体摺動面側を円筒面を形成するように研削す
る際に接着材層に研削だれか生じ、スペーシング損失を
引き起こす原因となったり、接着材層のクラックやチッ
ピング等が発生し、(2)薄膜磁気ヘッドの基板又は保
護板と、接着材層の境界面に気泡が発生すると接着面積
が減少し、接着強度が低下し、保護板が剥離してしまう
。
傍、特に磁気記録媒体摺動面付近に気泡が発生すると、
磁気記録媒体摺動面側を円筒面を形成するように研削す
る際に接着材層に研削だれか生じ、スペーシング損失を
引き起こす原因となったり、接着材層のクラックやチッ
ピング等が発生し、(2)薄膜磁気ヘッドの基板又は保
護板と、接着材層の境界面に気泡が発生すると接着面積
が減少し、接着強度が低下し、保護板が剥離してしまう
。
(3)封じ込められた気泡中の気体が温度変化によって
膨張あるいは収縮し、磁気ヘッドの信頼性を低下させる
。
膨張あるいは収縮し、磁気ヘッドの信頼性を低下させる
。
(4)磁気記録媒体摺動面側に気泡が存在すると磁気記
録媒体側の磁性粉が四部となった気泡の跡に溜ってしま
う。
録媒体側の磁性粉が四部となった気泡の跡に溜ってしま
う。
(5)磁気記録媒体摺動面側に存在する気泡の後から水
が浸入して磁性膜から成る素子の腐食が発生し易くなる
。
が浸入して磁性膜から成る素子の腐食が発生し易くなる
。
目 的
本発明は以上のような従来の欠点を除去するために成さ
れたもので、薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面側に
位置する保護板を接着する接着材中に気泡が発生しない
ように構成した磁気ヘッドを提供することを目的として
いる。
れたもので、薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面側に
位置する保護板を接着する接着材中に気泡が発生しない
ように構成した磁気ヘッドを提供することを目的として
いる。
実施例
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
第1実施例
以下の実施例にあっては磁気抵抗効果素子(以下MR素
子と略省する)を用いたMR磁気ヘッドを例として示し
、ヘッドの基板及び保護板としてガラスを用い、接着材
としては水ガラス(珪酸ソーダ水溶液)を用いた例を示
す。
子と略省する)を用いたMR磁気ヘッドを例として示し
、ヘッドの基板及び保護板としてガラスを用い、接着材
としては水ガラス(珪酸ソーダ水溶液)を用いた例を示
す。
このような素材を用いてMRヘッドを製造するには、ま
ず第1図に示すようにステップS1において第3図に符
号1で示すような洗浄済のガラス基板を用意し、その−
側面にMR素子として磁性膜であるパーマロイ膜及び信
号導入用の電極となるアルミニウム膜を蒸着又はスパッ
タリング等の薄膜堆積法で形成する(ステップ82)。
ず第1図に示すようにステップS1において第3図に符
号1で示すような洗浄済のガラス基板を用意し、その−
側面にMR素子として磁性膜であるパーマロイ膜及び信
号導入用の電極となるアルミニウム膜を蒸着又はスパッ
タリング等の薄膜堆積法で形成する(ステップ82)。
これらのパーマロイ膜やアルミニウム膜は相互に連続し
た状態で形成される。
た状態で形成される。
次にステップS3においてアルミニウム膜をフォトエツ
チング法により信号導入電極として形成すると共に、ス
テップS4においてパーマロイ膜を同じくフォトエツチ
ング法により不要部分を除去してMR素子部とする。
チング法により信号導入電極として形成すると共に、ス
テップS4においてパーマロイ膜を同じくフォトエツチ
ング法により不要部分を除去してMR素子部とする。
続いてステップS5において耐環境性を向−ヒさせるた
めに二酸化ケイ素(S’02)膜を信号電極やMR素子
部を覆って形成する。
めに二酸化ケイ素(S’02)膜を信号電極やMR素子
部を覆って形成する。
一方、保護板は第1図のステップ↑1においてガラス素
材を用意し、ステップT2において所定の大きさにカッ
ティングし、さらにステップT3において保護板である
ガラス板の側面に長手方向に沿って溝を加工する。
材を用意し、ステップT2において所定の大きさにカッ
ティングし、さらにステップT3において保護板である
ガラス板の側面に長手方向に沿って溝を加工する。
しかる後、ステップT4において洗浄を行ない、これを
ステップS6において基板側と後述するような位置関係
において貼り合わせ、ステップS7において加圧を行な
い、ステップ8Bにおいて加熱硬化させて薄膜磁気ヘッ
ドを得る。
ステップS6において基板側と後述するような位置関係
において貼り合わせ、ステップS7において加圧を行な
い、ステップ8Bにおいて加熱硬化させて薄膜磁気ヘッ
ドを得る。
以上のような工程を経て製造されるMRヘッドの保護板
2は第2図に示すようにその一方の側面に長手方向に連
続した状態で溝3が形成されている。
2は第2図に示すようにその一方の側面に長手方向に連
続した状態で溝3が形成されている。
一方基板1上にはフォトエツチング工程によって形成さ
れたMR素子4及び電極5が形成されている。
れたMR素子4及び電極5が形成されている。
この状態を第3図及び第4図に示す。
ところで、保護板2を基板1上に重ねるには溝3側を基
板1側として配置するが、溝3の位置は第3図に示すよ
うにMR素子4よりも磁気記録媒体摺動面側に寄った位
置か、あるいは第4図に示すようにMR素子4よりも電
極5側に寄った位置、のようにMR素子4の近傍が選ば
れる。
板1側として配置するが、溝3の位置は第3図に示すよ
うにMR素子4よりも磁気記録媒体摺動面側に寄った位
置か、あるいは第4図に示すようにMR素子4よりも電
極5側に寄った位置、のようにMR素子4の近傍が選ば
れる。
MR素子4上に溝3を位置させると記録媒体摺動面側を
研削する場合に、この溝3がギャップとなり研削だれか
生じ不適当である。
研削する場合に、この溝3がギャップとなり研削だれか
生じ不適当である。
このようにして保護板2を基板1上に重ねた後、第5図
に示すように基板1と保護板2が重なる方向に加圧しつ
つ加熱を行ない接着材である水ガラスを硬化させる。
に示すように基板1と保護板2が重なる方向に加圧しつ
つ加熱を行ない接着材である水ガラスを硬化させる。
すると、接着材中に発生した気泡はほとんどが溝3中に
集められ、MR素子4の近傍には気泡が基板1と保護板
2とに圧力を加えつつ加熱を行なうと、加熱中に発生し
た気泡が溝3内に集捷り易くなる。
集められ、MR素子4の近傍には気泡が基板1と保護板
2とに圧力を加えつつ加熱を行なうと、加熱中に発生し
た気泡が溝3内に集捷り易くなる。
このようにして保護板2を固定した後、M R素子4を
長手方向に縦断して通る直線上において切断を行なえば
MR素子4が臨まされる側である磁気記録媒体摺動面側
には気泡が存在しないことになる。
長手方向に縦断して通る直線上において切断を行なえば
MR素子4が臨まされる側である磁気記録媒体摺動面側
には気泡が存在しないことになる。
本実施例は以上のように構成されているため、MR素子
の周辺部には気泡が発生せず、接着材層が薄くなり、磁
気記録媒体摺動面側の研削時に研削だれか生じなくなる
。
の周辺部には気泡が発生せず、接着材層が薄くなり、磁
気記録媒体摺動面側の研削時に研削だれか生じなくなる
。
第2実施例
第6図は本発明の他の実施例を説明するもので、息
本実施例においてはMR素子を挾んだ状態で保獲2に2
条の溝3,3が形成されている。
条の溝3,3が形成されている。
このようにMl?素子4を挾んで2条の溝3,3を配置
すると気泡は2つの溝側に導かれることに々す、より効
率良く気泡を集めることができる。
すると気泡は2つの溝側に導かれることに々す、より効
率良く気泡を集めることができる。
ところで、実験の結果、溝3の本数は2〜4本が適当で
あり、5本以上になると接着面積が減少し、接着強度が
低下してしまうことが分った。
あり、5本以上になると接着面積が減少し、接着強度が
低下してしまうことが分った。
尚、第6図において符号a −aで示す直線は磁気記録
媒体摺動面側を研削する場合の切断線を示し、MR素子
4の外側に位置する溝は研削時には切断されてしまう。
媒体摺動面側を研削する場合の切断線を示し、MR素子
4の外側に位置する溝は研削時には切断されてしまう。
尚、上述した実施例はMRヘッドを例と゛して説明した
が、インダクティプヘッドにも適用することができるの
は勿論である。
が、インダクティプヘッドにも適用することができるの
は勿論である。
効 果
以上の説明から明らかなように本発明によれば基板上に
重ねられて接着される保護板に薄膜磁気ヘッドの素子近
傍に位置する溝を形成した構造を採用しているため、接
着材中に発生する気泡を溝の部分に多く集めることがで
き、薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面側近傍に気泡
の発生が殆どなく、磁気記録媒体摺動面側の研削時にお
ける研削だれなどが生じることがない。
重ねられて接着される保護板に薄膜磁気ヘッドの素子近
傍に位置する溝を形成した構造を採用しているため、接
着材中に発生する気泡を溝の部分に多く集めることがで
き、薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面側近傍に気泡
の発生が殆どなく、磁気記録媒体摺動面側の研削時にお
ける研削だれなどが生じることがない。
第1図〜第5図は本発明の一実施例を説明するもので、
第1図は製造工程を説明するフローチャート図、第2図
は保護板の斜視図、第3図及び第4図は保護板に形成さ
れた溝の位置と素子との位置関係を示す説明図、第5図
は加圧状態を示す説明図、第6図は本発明の他の実施例
を示す説明図である。 1・・・基板 2・・・保護板 3・・・溝 4・・・MR素子 5・・・電極 特許出願人 キャノン電子 株式会社 第1WA 第2図 第3図 第4図 第5図、 第6図
第1図は製造工程を説明するフローチャート図、第2図
は保護板の斜視図、第3図及び第4図は保護板に形成さ
れた溝の位置と素子との位置関係を示す説明図、第5図
は加圧状態を示す説明図、第6図は本発明の他の実施例
を示す説明図である。 1・・・基板 2・・・保護板 3・・・溝 4・・・MR素子 5・・・電極 特許出願人 キャノン電子 株式会社 第1WA 第2図 第3図 第4図 第5図、 第6図
Claims (5)
- (1)基板上に磁性膜から成る素子部と信号電極とを薄
膜として形成し、これら素子部及び信号電極上に保護板
を貼着した薄膜磁気ヘッドにおいて、前記保護板の貼着
面に溝を形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - (2)溝は素子に対してほぼ平行で、素子の近傍に位置
するように設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の薄膜磁気ヘッド。 - (3)溝は複数本であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の薄膜磁気ヘッド。 - (4)複数本の溝は素子゛を挾んで配置されていること
を特徴とする特許請求の範囲第3項記載の薄膜磁気ヘッ
ド。 - (5)素子は磁気抵抗効果素子であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項ないし第4項までのいずれか1項
に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13588083A JPS6028016A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13588083A JPS6028016A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6028016A true JPS6028016A (ja) | 1985-02-13 |
Family
ID=15161929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13588083A Pending JPS6028016A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028016A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62202309A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツドの保護板接合法 |
-
1983
- 1983-07-27 JP JP13588083A patent/JPS6028016A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62202309A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツドの保護板接合法 |
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