JPH04371957A - フォトレジストフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はフォトレジストフィルム
に関する。さらに詳しくは、高解像度を有し、プリント
回路の形成に好適に使用しうるフォトレジストフィルム
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、プリント回路を形成する際には
、ドライフィルム状フォトレジストが用いられており、
該フォトレジストは、通常光透過性支持体フィルム、フ
ォトレジスト層および保護フィルムから構成されている
。

【０００３】ところで、前記支持体フィルムは、フォト
レジスト層を形成する際の支持体としての役割を果たす
ためには、ある程度の機械的強度が要求されるため、一
般に該支持体フィルムの厚さは、１６〜２５μｍ程度と
なるように調整されなければならなかった。しかしなが
ら、このように支持体フィルムの厚さを大きくしたばあ
いには、解像度が著しく低下するという問題がある。

【０００４】そこで、近年、解像度を大幅に向上せしめ
るために、フォトレジストから支持体フィルムを除去し
たのち、フォトレジスト層上に直接パターンマスクを密
着させて露光させることが検討されているが、フォトレ
ジスト層の粘着力が大きいため、パターンマスクと密着
させて露光したときに剥すのが困難となることがあり、
またフォトレジスト層とパターンマスクの間に入り込ん
だ空気だまりにより解像力が部分的に不充分となったり
、パターンマスクを傷めることがあった。

【０００５】このような欠点を解消する方法として、フ
ォトレジスト層と支持体フィルムのあいだに中間層とし
てポリビニルアルコール層、エチレンオキシド変性ポリ
ビニルアルコール層、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ール層などを形成し、使用時に支持体フィルムを剥離し
、フォトレジスト層を、中間層を介してパターンマスク
と密着させる方法が検討されている。かかる方法によれ
ば、フォトレジスト層とパターンマスクとが密着するこ
とにより生じる前記欠点は確かにある程度解消されると
はいうものの、中間層と支持体フィルムとの密着性が大
きいため、中間層とフォトレジスト層間の剥れおよび浮
きにより層間に空気が入りこんで解像力が低下するとい
う欠点があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者らは
、前記従来技術に鑑みてフォトレジスト層、中間層およ
び支持体フィルムの各層間の密着力が適度であり、空気
だまりが生じることがなく、また支持体フィルムを剥離
したのち、中間層とパターンマスクを密着させたときの
すべり性にすぐれたフォトレジストフィルムを開発する
べく鋭意研究を重ねた結果、かかる性質をすべて同時に
満足するフォトレジストフィルムを見出し、本発明を完
成するにいたった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は支持
体フィルム、中間層、フォトレジスト層および保護フィ
ルムを順次積層してなるフォトレジストフィルムであっ
て、中間層がオキシプロピレン基含有ポリビニルアルコ
ール系樹脂からなり、フォトレジスト層が多価アルコー
ルの（メタ）アクリル酸部分エステルを含有したことを
特徴とするフォトレジストフィルムに関する。

【０００８】

【作用および実施例】本発明のフォトレジストフィルム
は、支持体フィルム、中間層、フォトレジスト層および
保護フィルムを順次積層したものであり、中間層として
オキシプロピレン基含有ポリビニルアルコール系樹脂層
を設けたばあいには、かかる中間層と支持体フィルムと
が適度な密着性を有し、また支持体フィルムを剥離した
のち、中間層とパターンマスクとを接触させたときには
、適度なすべり性が付与される。

【０００９】また、本発明においては、フォトレジスト
層に多価アルコールの（メタ）アクリル酸部分エステル
が含有されているため、フォトレジスト層と中間層の密
着性が改善される。

【００１０】本発明に用いられる支持体フィルムは、フ
ォトレジスト層を形成する際の耐熱性および耐溶剤性を
有するものである。前記支持体フィルムの具体例として
は、たとえばポリエステルフィルム、ポリイミドフィル
ム、アルミニウム箔などがあげられるが、本発明はかか
る例示のみに限定されるものではない。なお、前記支持
体フィルムの厚さは、該フィルムの材質によって異なる
ので一概には決定することができず、通常該フィルムの
機械的強度などに応じて適宜調整される。

【００１１】本発明に用いられる中間層は、前記したよ
うに、オキシプロピレン基含有ポリビニルアルコール系
樹脂からなる。

【００１２】前記オキシプロピレン基含有ポリビニルア
ルコール系樹脂は、一般式（Ｉ）　：

【００１３】

【化１】

【００１４】（式中、ｎは１〜３００　の整数を示す）
で表わされるポリオキシプロピレン基を有するポリオキ
シプロピレン変性ポリビニルアルコールである。一般式
（Ｉ）　中、ｎが３００　をこえるばあいには、中間層
とフォトレジスト層との接着性が著しく低下するように
なる。ｎは好ましくは５〜５０である。

【００１５】本発明に用いられるポリビニルアルコール
系樹脂は、ポリオキシプロピレンの存在下で酢酸ビニル
を重合し、ケン化する方法や、オキシプロピレン基を有
する不飽和単量体、たとえばポリオキシプロピレン（メ
タ）アクリレート、ポリオキシプロピレン（メタ）アリ
ルエーテル、ポリオキシプロピレン（メタ）アクリル酸
アミドなどと酢酸ビニルとを共重合し、ケン化する方法
などによってうることができる。

【００１６】また、前記オキシプロピレン基含有ポリビ
ニルアルコール系樹脂に含まれるオキシプロピレン基の
含有量は１〜８０重量％、なかんづく５〜５０重量％で
あることが好ましい。かかる含有量が、前記範囲をこえ
るばあいには、現像時に中間層の溶解が不充分となり、
また前記範囲よりも小さいばあいには、支持体フィルム
との密着力が大きくなりすぎ、中間層とフォトレジスト
層との間で空気だまりが生じることがある。

【００１７】前記オキシプロピレン基含有ポリビニルア
ルコール系樹脂のケン化度は、１０〜９０モル％、なか
んづく５０〜９０モル％であることが好ましい。かかる
ケン化度は、前記範囲よりも大きいばあいには、中間層
の硬度が大きくなりすぎてドライフィルム製造時の作業
性がわるくなり、また前記範囲よりも小さいばあいには
、支持体フィルムとの密着力が大きくなりすぎ、中間層
とフォトレジスト層との間で空気だまりが生じるように
なる。

【００１８】また、前記オキシプロピレン基含有ポリビ
ニルアルコール系樹脂の平均重合度は、あまりにも大き
いばあいには、中間層を水などで溶解除去するときに溶
解速度が遅くなり、またあまりにも小さいばあいには耐
湿性が劣り、中間層に粘着性が発生し、パターンマスク
と中間層の間に空気だまりによる部分的な解像度の低下
がおこるので、通常５００　〜３０００、なかんづく５
００　〜１５００であることが好ましい。

【００１９】前記中間層の厚さは、あまりにも大きいば
あいには，解像度の低下の原因となり、またあまりにも
小さいばあいには、レジスト層とのマイグレーションに
よりタックが発生し、パターンマスクを汚染するので、
０．３　〜１０μｍ、なかんづく１〜５μｍであること
が好ましい。

【００２０】本発明に用いられるフォトレジスト層は、
前記したように、多価アルコールの（メタ）アクリル酸
部分エステルを含有したものである。

【００２１】前記多価アルコールの（メタ）アクリル酸
部分エステルは、分子中に少なくとも１個、通常は１〜
２個のヒドロキシル基をもつものであればよく、その具
体例としては、たとえばポリエチレングリコールモノ（
メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（
メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ
）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチ
レン、グリコールモノ（メタ）アクリレート、２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−２−　ヒドロキシエチ
ルフタル酸エステル、２−ヒドロキシ−３−　フェノキ
シプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオ
キシアシドフォスフェート、エポキシアクリレートなど
があげられ、これらの（メタ）アクリル酸部分エステル
は通常単独でまたは２種以上を混合して用いられる。

【００２２】前記多価アルコールの（メタ）アクリル酸
部分エステルは、該多価アルコールの（メタ）アクリル
酸部分エステルと光重合性モノマーの合計量１００　重
量部に対して１０〜５０重量部、好ましくは２０〜５０
重量部、さらに好ましくは２５〜４０重量部となるよう
に調整される。かかる多価アルコールの（メタ）アクリ
ル酸部分エステルの含有量は、前記範囲よりも小さいば
あいには、形成されるフォトレジスト層と中間層との密
着性が小さくなりすぎ、また前記範囲をこえるばあいに
は、中間層にタックが生じ、パターンマスクを汚染する
ようになる。

【００２３】前記光重合性モノマーとしては、たとえば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、２，２−ビス［４−（メタ）ア
クリロキシプロピロキシフェニル］プロパン、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）
アクリロキシエチルホスフェート、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート
、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）
アクリレート、グリセリントリグリシジルエーテルトリ
（メタ）アクリレートなどがあげられ、これらは単独で
または２種以上を混合して用いられる。

【００２４】前記多価アルコールの（メタ）アクリル酸
部分エステルを含有した光重合性モノマーは、通常用い
られているバインダー樹脂と併用される。

【００２５】前記バインダー樹脂としては、たとえばビ
ニル系共重合体、ポリエステル、エポキシ樹脂などがあ
げられ、これらは通常単独でまたは２種以上を混合して
用いられる。前記ビニル系共重合体に用いられるモノマ
ー成分としては、たとえば（メタ）アクリル酸、（メタ
）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メ
タ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸
メトキシエチル、スチレン、（メタ）アクリルアミド、
（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニルなどがあげられ
、これらのモノマーは通常単独でまたは２種以上を混合
して用いられる。前記ポリエステルは、（無水）フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、（無水）マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、
無水トリメリット酸、無水ピロメリト酸などの２価以上
のカルボン酸とエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、１，３−ブタンジオール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、
ネオペンチルグリコール、水素化ビスフェノールＡ、グ
リセリン、トリメチロールプロパンなどの２価以上のア
ルコールとのエステル化反応によりえられる。また、前
記エポキシ樹脂としては、たとえばビスフェノールエポ
キシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂などがあげられ、こ
れらに酢酸、シュウ酸、（メタ）アクリル酸などの１価
のカルボン酸を付加したものであってもよい。

【００２６】前記多価アルコールの（メタ）アクリル酸
部分エステルを含有した光重合性モノマーと、前記バイ
ンダー樹脂との配合割合（重量比）は、１０／９０〜７
０／３０、なかんづく３０／７０〜５０／５０となるよ
うに調整されるのが好ましい。かかる配合割合は、前記
範囲よりも小さいばあいには、硬化が不充分で満足しう
る解像力がえられなくなり、また前記範囲をこえるばあ
いには、フォトレジストフィルムをロール状にする混合
ロール端部よりブリーディング現象が現れる傾向がある
。

【００２７】前記光重合性モノマーには、光重合開始剤
が配合される。かかる光重合開始剤としては、たとえば
ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４　′−　ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｔ−ブチルアン
トラキノン、２−エチルアントラキノン、チオキサトン
類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルケタール
類などがあげられ、これらは単独でまたは混合して用い
られる。該光重合開始剤は、通常感光剤の全固形分中に
０．０１〜３０重量％含有するように配合される。

【００２８】なお、前記フォトレジスト層には、必要に
より、たとえば光発色剤、染料、密着性付与剤などの各
種添加剤を適宜添加することができる。

【００２９】前記フォトレジスト層の厚さは、あまりに
も大きいばあいには中間層上に塗工、乾燥する際に、被
膜が不均一になったり、ピンホールが生じやすくなり、
またあまりにも大きいばあいには、露光感度が低下し、
現像速度が遅くなるため、通常５〜３００　μｍ、なか
んづく１０〜５０μｍであることが好ましい。

【００３０】本発明に用いられる保護フィルムは、フォ
トレジストフィルムをロール状にして用いるばあいに、
粘着性を有するフォトレジスト層が支持体フィルムに転
着したり、フォトレジスト層に塵などが付着するのを防
止する目的でフォトレジスト層に積層して用いられる。 かかる保護フィルムとしては、たとえばポリエステルフ
ィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、テフロンフィルムなどがあげられるが、本発明はか
かる例示のみに限定されるものではない。なお、該保護
フィルムの厚さについてはとくに限定はなく、通常１０
〜５０μｍ、なかんづく３０〜４０μｍ程度であればよ
い。

【００３１】本発明のフォトレジストフィルムの製造法
としては、たとえば（イ）支持体フィルムに中間層、フ
ォトレジスト層を順次設け、さらにその上に保護フィル
ムを積層する方法、（ロ）支持体フィルムに中間層を設
けた２層フィルムと、これとは別に保護フィルムにフォ
トレジスト層を設けた２層フィルムとを中間層とフォト
レジスト層とが接着するようにラミネートする方法など
があげられるが、本発明はかかる例示のみに限定される
ものではない。

【００３２】本発明のフォトレジストフィルムの使用方
法としては、たとえば保護フィルムを剥離し、フォトレ
ジスト層が基材に接触するように重ね、通常の熱ロール
で圧着し、支持体フィルムを剥してパターンマスクを密
着させて該パターンマスクを通して紫外線などの活性光
で露光する方法などがあげられる。

【００３３】前記基材としては、たとえば銅板、鉄板、
アルミニウム板、ステンレス鋼板などをはじめ、電気絶
縁性を有する無機または有機基板の表面に銅箔やアルミ
ニウム箔などを積層したものなどがあげられる。

【００３４】露光された基材上のフォトレジストフィル
ムに現像液を噴霧または浸漬してフォトレジスト層を現
像することにより画像が形成される。現像液としては、
たとえば炭酸ソーダ、苛性ソーダなどのアルカリ水溶液
や１，１，１−トリクロロエタンなどがあげられ、さら
にトリエタノールアミン、ブチルセロソルブなどの有機
溶剤を添加することができる。

【００３５】現像されたフォトレジストフィルムをメッ
キ用として用いるばあいには、まず必要な前処理を行な
ったのち、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ、ハンダ
メッキ、スズメッキ、ニッケルメッキなどのメッキを施
し、ついで苛性ソーダ、苛性カリなどのアルカリ水溶液
や塩化メチレンなどでフォトレジストを除去し、さらに
露呈した金属板や金属箔部分を過酸化水素／硫酸、アル
カリ性アンモニアなどの溶液でエッチングして除去する
。

【００３６】現像されたフォトレジストフィルムをテン
ティング用やエッチング用として用いるばあいには、塩
化第二鉄、塩化第二銅、過酸化水素−　硫酸、アルカリ
状アンモニアなどのエッチング液で露呈した金属板や金
属箔部分を除去し、ついで苛性ソーダ、苛性カリなどの
アルカリ水溶液や塩化メチレンなどでレジストを除去す
る。

【００３７】前記のように、本発明のフォトレジストフ
ィルムは、中間層としてオキシプロピレン基含有ポリビ
ニルアルコール系樹脂を用いた４層構造を有し、かかる
中間層の存在によってより効率的な画像形成が可能とな
る。

【００３８】つぎに本発明のフォトレジストフィルムを
実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はか
かる実施例のみに限定されるものではない。

【００３９】実施例１〜５および比較例１〜２オキシプ
ロピレン基含有ポリビニルアルコール（オキシプロピレ
ン基含有量：２０重量％、ケン化度：８８モル％、平均
重合度：５００　）の１０重量％水溶液をポリエチレン
テレフタレートフィルム（厚さ：２５μｍ）上に乾燥後
の膜厚が４μｍとなるように塗布し、８０℃で１０分間
乾燥し、中間層が形成された支持体フィルムをえた。

【００４０】バインダー樹脂として表１に示す樹脂を用
い、該バインダー樹脂と、表１に示す組成からなる多価
アルコールの（メタ）アクリル酸部分エステルを含有し
た光重合性モノマーとを重量比で６５：３５（実施例１
〜４、比較例２）、５５：４５（実施例５）または５５
：３５（比較例１）の割合で混合し、フォトレジスト用
樹脂をえた。

【００４１】つぎに、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ：２５μｍ）上に前記でえられたフォトレジ
スト用樹脂を塗布し、８０〜１１０　℃で１０分間乾燥
し、厚さ３８μｍのフォトレジスト層を形成し、さらに
フォトレジスト層上にポリエチレンフィルム（厚さ：４
０μｍ）を設けた。

【００４２】フォトレジスト層上のポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥しながら、フォトレジスト層を支
持体フィルム上の中間層とラミネートし、ポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる支持体フィルム、中間
層、フォトレジスト層およびポリエチレンフィルムから
なる保護フィルムが積層された４層構造を有するフォト
レジストフィルムをえた。

【００４３】えられたフォトレジストフィルムから保護
フィルム（ポリエチレンフィルム）を剥し、フォトレジ
スト層面を、バフロールにより研磨し、清浄化された銅
張積層板の銅面上に高温ラミネータを用いて１００　〜
１３０　℃で連続的に積層してテストピースをえた。

【００４４】つぎに、支持体フィルム（ポリエチレンテ
レフタレートフィルム）を剥し、中間層面にパターンマ
スク（２１段ステップタブレットネガ）を密着させ、ス
テップ感度が８段になるように３ｋｗの超高圧水銀灯を
用いて真空下で露光した。露光された基板に３０℃の炭
酸ナトリウム１重量％水溶液を４５秒間噴霧して現像し
、レリーフ像を形成した。

【００４５】えられたレリーフ像を以下の評価方法に基
づいて評価した。その結果を表２に示す。

【００４６】（イ）支持体フィルム−　中間層の密着性
ＪＩＳ　　Ｚ−０２３７に準じて引張試験を行なう。（
株）島津製作所製オートグラフＡＧ−１００Ａを用い、
試験片２００ｍｍ　（長さ）×２５ｍｍ（幅）に対して
ピールテスト（１８０　°引張）を行なう。

【００４７】（評価基準） Ａ：５〜１５ｇ／幅２５ｍｍ Ｂ：１５ｇ／幅２５ｍｍ以上 Ｃ：５ｇ／幅２５ｍｍ以下 （ロ）中間層−　フォトレジスト層の密着性ＪＩＳ　　
Ｚ−０２３７に準じて引張試験を行なう。（株）島津製
作所製オートグラフＡＧ−１００Ａを用い、試験片２０
０ｍｍ　（長さ）×２５ｍｍ（幅）に対してピールテス
ト（１８０　°引張）を行なう。

【００４８】（評価基準） Ａ：１００　ｇ／幅２５ｍｍ以上 Ｂ：５０〜１００　ｇ／幅２５ｍｍ Ｃ：５０ｇ／幅２５ｍｍ以下 （ハ）パターンマスク−　中間層のすべり性ラミネート
後に２２℃、６０％ＲＨ（相対湿度）の条件下で放置し
、紫外線照射後、パターンマスクとの接着性を観察する
。

【００４９】（評価基準） Ａ：タックの発生が１０日以上 Ｂ：５〜１０日でタックが発生 Ｃ：５日以内にタックが発生 （ニ）解像度 Ｌ／Ｓの比が１／１（ライン数１０本）のライン３０、
４０、５０、６０、７０、８０μｍのネガマスクを用い
て感度８で照射する。１％炭酸ナトリウム水溶液で３０
℃で４５秒間現像したのち、評価する。

【００５０】（ホ）細線密着度 スペース４００　μｍ（ライン数１０本）でライン３０
、４０、５０、６０、７０、８０μｍのネガマスクを用
いて解像度を前記（ニ）と同様に評価する。

【００５１】なお、表１および表２中、各略号は以下の
ことを意味する。

【００５２】ＭＭＡ　：メチルメタクリレートｎ−ＢＡ
：ｎ−ブチルアクリレート ＭＡＡｃ：メタクリル酸 ＰＥＴＴＡ　：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＢＡＰ　：ビスフェノールＡ ＤＥＡＡ：ジエポキシ−　アクリル酸付加物（エポキシ
エステル３０００Ａ　、共栄油脂化学工業（株）製、商
品名）ＡＯＥＨＥＰ：２−アクリロイルオキシ−２−　
ヒドロキシエチルフタル酸 ＰＰＧＭＡ　：ポリプロピレングリコールメタクリレー
ト（ＰＰ−１０００　、日本油脂（株）製、商品名）Ｔ
ＭＰＴＡ　：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＢＰＥ　：２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエ
トキシ）フェニル］プロパン ＰＥＧＤＡ　：ポリエチレングリコールジアクリレート
ＰＥＧＤＭＡ：ポリエチレングリコールジメタクリレー
トＡＭＰ　：フェノキシポリエチレングリコールモノア
クリレート（ＡＭＰ−６０Ｇ　、新中村化学工業（株）
製、商品名）ＥＡ：エチルアクリレート ２ＥＨＡ：２−エチルヘキシルアクリレートＢＰＨ　：
ベンゾフェノン ＬＣＶ　：ロイコクリスタルラクトン ＨＧ：ハイドロキノン ＭＫ：ミヒラーズケトン ＭＱ：マラカイトグリーン ＡＢＭＰＳ　：トリブロモメチルフェニルスルホン

【０
０５３】

【表１】

【００５４】比較例３ 実施例１において、中間層を形成しないで、支持体フィ
ルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を剥離し
なかったほかは、実施例１と同様にしてレリーフ像を形
成した。形成されたレリーフ像の物性を実施例１と同様
にして調べた。その結果を表２に示す。

【００５５】比較例４ 比較例１において、中間層を形成しないで、支持体フィ
ルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を剥離し
なかったほかは、比較例１と同様にしてレリーフ像を形
成した。形成されたレリーフ像の物性を比較例１と同様
にして調べた。その結果を表２に示す。

【００５６】比較例５ 実施例１において、実施例１で用いたのと同じ組成のフ
ォトレジスト用樹脂にさらにビスフェノールＡを１０重
量部添加し、中間層を形成しなかったほかは、実施例１
と同様にしてレリーフ像を形成した。形成されたレリー
フ像の物性を実施例１と同様にして調べた。その結果を
表２に示す。

【００５７】

【表２】

【００５８】表２に示した結果から、本発明の実施例１
〜５のフォトレジストフィルムは、フォトレジスト層、
中間層および支持体フィルムの各層間の密着力が適度で
あり、しかも中間層とパターンマスクを密着させたとき
のすべり性が良好であることがわかる。また、解像度お
よび細線密着度についても、本発明の実施例１〜５のフ
ォトレジストフィルムはすぐれていることがわかる。

【００５９】

【発明の効果】本発明のフォトレジストフィルムは、フ
ォトレジスト層、中間層および支持体フィルムの各層間
の密着力が適度であるから、空気だまりが生じることが
ない。また、支持体フィルムを剥離したのち、中間層と
パターンマスクを密着させたときのすべり性にすぐれて
いるので、両者間に空気が入り込んで空気だまりが生じ
ることがない。

【００６０】さらに、本発明のフォトレジストフィルム
は、支持体フィルムを必要としないので、高解像度を有
するパターンを形成することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持体フィルム、中間層、フォトレジ
   スト層および保護フィルムを順次積層してなるフォトレ
   ジストフィルムであって、中間層がオキシプロピレン基
   含有ポリビニルアルコール系樹脂からなり、フォトレジ
   スト層が多価アルコールの（メタ）アクリル酸部分エス
   テルを含有したことを特徴とするフォトレジストフィル
   ム。