JPH0438235Y2 - - Google Patents
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- JPH0438235Y2 JPH0438235Y2 JP12514886U JP12514886U JPH0438235Y2 JP H0438235 Y2 JPH0438235 Y2 JP H0438235Y2 JP 12514886 U JP12514886 U JP 12514886U JP 12514886 U JP12514886 U JP 12514886U JP H0438235 Y2 JPH0438235 Y2 JP H0438235Y2
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- JP
- Japan
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- box
- notch
- firing
- furnace
- ceramic
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- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 26
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案は、たとえばセラミツク電子部品を製
造するにあたり、セラミツク生チツプを焼成する
段階で用いられるセラミツク焼成用匣の構造の改
良に関する。
造するにあたり、セラミツク生チツプを焼成する
段階で用いられるセラミツク焼成用匣の構造の改
良に関する。
[従来の技術]
第2図は従来のセラミツク焼成用匣の一例を示
し、このセラミツク焼成用匣1は、その上に多数
のセラミツク成形体を載置するために設けられた
SiCよりなる板状部材2と、該板状部材2上に焼
成に際し配置される支柱3…6とを有する。セラ
ミツク焼成用匣1は、炉内で支柱3…6を利用し
て上下に複数段積重ねられ、また側端縁7,8に
おいて相互に接するように横方向にも匣1が配置
される。
し、このセラミツク焼成用匣1は、その上に多数
のセラミツク成形体を載置するために設けられた
SiCよりなる板状部材2と、該板状部材2上に焼
成に際し配置される支柱3…6とを有する。セラ
ミツク焼成用匣1は、炉内で支柱3…6を利用し
て上下に複数段積重ねられ、また側端縁7,8に
おいて相互に接するように横方向にも匣1が配置
される。
他方、第3図は従来のセラミツク焼成用匣の他
の例を示し、このセラミツク焼成用匣11はセラ
ミツクフアイバで強化された材料より一体に形成
されており、底板12と側壁13,14とを有す
る。
の例を示し、このセラミツク焼成用匣11はセラ
ミツクフアイバで強化された材料より一体に形成
されており、底板12と側壁13,14とを有す
る。
上記いずれの匣1,11も、両側に同一の匣
1,11が隣接するように炉内に配置され、全体
の平面状が円となるように充填されるものである
ため、それぞれの板状部材2および底板12は略
扇形形状に構成されている。
1,11が隣接するように炉内に配置され、全体
の平面状が円となるように充填されるものである
ため、それぞれの板状部材2および底板12は略
扇形形状に構成されている。
[考案が解決しようとする問題点]
第2図に示した匣1では、焼成の都度支柱3…
6を板状部材2上に並べる作業を強いられる。ま
た、SiCとセラミツク成形体との反応を防止する
ためにZrO2をコーテイングしたり、ZrO2粉をま
く必要がある。さらに、ZrO2をコーテイングし
たとしても、熱膨張率の差により該コーテイング
材が剥離することもある。また、板状部材2自体
の熱容量が大きく、したがつて炉の急昇温・冷却
動作に迅速に追随し得ない。
6を板状部材2上に並べる作業を強いられる。ま
た、SiCとセラミツク成形体との反応を防止する
ためにZrO2をコーテイングしたり、ZrO2粉をま
く必要がある。さらに、ZrO2をコーテイングし
たとしても、熱膨張率の差により該コーテイング
材が剥離することもある。また、板状部材2自体
の熱容量が大きく、したがつて炉の急昇温・冷却
動作に迅速に追随し得ない。
他方、第3図の匣11では、セラミツクフアイ
バを主成分とするため、熱間強度が弱く、ひびや
割れが発生しやすく、したがつて寿命が短いとい
う問題がある。また、焼成の際に導入される雰囲
気ガスは、図示の矢印の方向には円滑に流通する
が、側壁13,14を介して隣接される匣との間
では円滑に流れない。よつて、セラミツク成形体
の焼成に際し、雰囲気制御を確実に行なうことが
できない。
バを主成分とするため、熱間強度が弱く、ひびや
割れが発生しやすく、したがつて寿命が短いとい
う問題がある。また、焼成の際に導入される雰囲
気ガスは、図示の矢印の方向には円滑に流通する
が、側壁13,14を介して隣接される匣との間
では円滑に流れない。よつて、セラミツク成形体
の焼成に際し、雰囲気制御を確実に行なうことが
できない。
この考案の目的は、焼成の際に煩雑な組立作業
を必要とせず、かつ雰囲気ガスを匣内に円滑に流
通させることが可能なセラミツク焼成用匣を提供
することにある。
を必要とせず、かつ雰囲気ガスを匣内に円滑に流
通させることが可能なセラミツク焼成用匣を提供
することにある。
[問題点を解決するための手段]
この考案のセラミツク焼成用匣は、セラミツク
成形体を内部に収納し、炉内で焼成する際に用い
られ、炉内で複数段に積重ねられる匣に関するも
のである。この考案の匣は、底板と、底板の周囲
に一体に形成された直立環状壁とを有し、この環
状壁には、炉内に導入される雰囲気ガスの匣への
進入方向外側に向かつて開いた傾斜面が下方に形
成された第1の切欠が形成されており、また環状
壁の隣接する匣と接する部分には、上方に向かつ
て開いた第2の切欠が形成されていることを特徴
とする。
成形体を内部に収納し、炉内で焼成する際に用い
られ、炉内で複数段に積重ねられる匣に関するも
のである。この考案の匣は、底板と、底板の周囲
に一体に形成された直立環状壁とを有し、この環
状壁には、炉内に導入される雰囲気ガスの匣への
進入方向外側に向かつて開いた傾斜面が下方に形
成された第1の切欠が形成されており、また環状
壁の隣接する匣と接する部分には、上方に向かつ
て開いた第2の切欠が形成されていることを特徴
とする。
[作用]
この考案では、炉内に導入される雰囲気ガスの
匣への進入方向外側に向かつて開いた傾斜面が下
方に形成された第1の切欠が環状壁に形成されて
いるので、雰囲気ガスが匣内に円滑に進入し、ま
た環状壁の隣接する匣と接する部分には、上方に
向かつて開いた第2の切欠が形成されているので
隣り合う匣間で雰囲気ガスが円滑に流通し、よつ
て各匣内の雰囲気および温度を均一に保持するこ
とができる。
匣への進入方向外側に向かつて開いた傾斜面が下
方に形成された第1の切欠が環状壁に形成されて
いるので、雰囲気ガスが匣内に円滑に進入し、ま
た環状壁の隣接する匣と接する部分には、上方に
向かつて開いた第2の切欠が形成されているので
隣り合う匣間で雰囲気ガスが円滑に流通し、よつ
て各匣内の雰囲気および温度を均一に保持するこ
とができる。
また、底板と底板の周囲に直立環状壁が一体に
形成された構成を有するものであるため、焼成に
際し支柱を配置したりする煩雑な作業を要しな
い。
形成された構成を有するものであるため、焼成に
際し支柱を配置したりする煩雑な作業を要しな
い。
[実施例の説明]
第4図は、この考案の一実施例の匣を用いて焼
成を行なう炉の概略断面図である。炉21は、フ
レーム22の上部に断熱材よりなる炉壁23を有
する。フレーム22および炉壁23は円筒状に構
成されており、内部に昇降式の炉床24が配置さ
れている。なお、第4図では炉床24は焼成時の
位置で図示してある。焼成前に焼成材料を投入す
る場合、ならびに焼成後に製品を取出す際には想
像線Xで示す位置に降下される。
成を行なう炉の概略断面図である。炉21は、フ
レーム22の上部に断熱材よりなる炉壁23を有
する。フレーム22および炉壁23は円筒状に構
成されており、内部に昇降式の炉床24が配置さ
れている。なお、第4図では炉床24は焼成時の
位置で図示してある。焼成前に焼成材料を投入す
る場合、ならびに焼成後に製品を取出す際には想
像線Xで示す位置に降下される。
ところで、この考案の一実施例の匣31は上記
炉床24の上部に複数段積重ねられる。また、炉
床24の上面も円形に構成されているので、匣3
1はそれぞれが平面形状略扇形に構成されてお
り、たとえば第5図および第6図に示すように
(第5図および第6図では半円分のみを図示す
る)、複数の匣が円環を構成するように配置され
ている。
炉床24の上部に複数段積重ねられる。また、炉
床24の上面も円形に構成されているので、匣3
1はそれぞれが平面形状略扇形に構成されてお
り、たとえば第5図および第6図に示すように
(第5図および第6図では半円分のみを図示す
る)、複数の匣が円環を構成するように配置され
ている。
次に、この考案の一実施例の匣31の構成を第
1図を参照して説明する。匣31は、セラミツク
フアイバを主成分とする軽い材料により一体に形
成されており、底板41と直立環状壁42とを有
する。底板41は、平面形状が略扇形とされてい
る。これは、上述のように複数の匣31を円環状
に配置するためである。したがつて、一方端側で
互いに近接するように延びる側壁部分43,44
において、隣り合う匣31の側壁部分と当接する
ように配置される。
1図を参照して説明する。匣31は、セラミツク
フアイバを主成分とする軽い材料により一体に形
成されており、底板41と直立環状壁42とを有
する。底板41は、平面形状が略扇形とされてい
る。これは、上述のように複数の匣31を円環状
に配置するためである。したがつて、一方端側で
互いに近接するように延びる側壁部分43,44
において、隣り合う匣31の側壁部分と当接する
ように配置される。
他方、第4図に示した炉21では、複数の匣3
1が組合わさつて構成する円環の外周に雰囲気ガ
ス導入口が配置されており、かつ匣31で構成さ
れる円環の中心に雰囲気ガス排出口が形成されて
いる(共に図示せず)。よつて、焼成に際しては
雰囲気ガスは匣31の外周側の側壁部分45から
匣31内に進入し、中心側の側壁部分46から匣
31外へ排出することになる。そこで、雰囲気ガ
スの匣31内への進入および排出を容易とし、匣
31内の雰囲気を均一にするために、側壁部分4
5,46に、それぞれ、切欠51,52が形成さ
れている。このうち切欠51が、この考案の第1
の切欠を構成し、下方に傾斜面53を有する。傾
斜面53は、第7図に断面図で示すように、外側
に向かつて開いた状態に形成されている。したが
つて、第7図の矢印A方向に進入する雰囲気ガス
が、該傾斜面53の存在しない場合に比べてより
円滑に匣31内に進入し得ることがわかる。
1が組合わさつて構成する円環の外周に雰囲気ガ
ス導入口が配置されており、かつ匣31で構成さ
れる円環の中心に雰囲気ガス排出口が形成されて
いる(共に図示せず)。よつて、焼成に際しては
雰囲気ガスは匣31の外周側の側壁部分45から
匣31内に進入し、中心側の側壁部分46から匣
31外へ排出することになる。そこで、雰囲気ガ
スの匣31内への進入および排出を容易とし、匣
31内の雰囲気を均一にするために、側壁部分4
5,46に、それぞれ、切欠51,52が形成さ
れている。このうち切欠51が、この考案の第1
の切欠を構成し、下方に傾斜面53を有する。傾
斜面53は、第7図に断面図で示すように、外側
に向かつて開いた状態に形成されている。したが
つて、第7図の矢印A方向に進入する雰囲気ガス
が、該傾斜面53の存在しない場合に比べてより
円滑に匣31内に進入し得ることがわかる。
なお、傾斜面53の傾きθ(第7図)は、雰囲
気ガスができるだけ入り込みやすい程度の大きさ
に選ぶことが好ましく、具体的には45度以下であ
ることが好ましい。また、傾斜面53の頂点53
aの底板41の上面からの高さHi(第7図)は、
1/2(H−t)より大きい方が、匣31の側壁部
分45の強度を保つために好ましい。なお、ここ
でHは底板41の下面から側壁部分45の先端ま
での高さを示し、底板41の厚みを示す。
気ガスができるだけ入り込みやすい程度の大きさ
に選ぶことが好ましく、具体的には45度以下であ
ることが好ましい。また、傾斜面53の頂点53
aの底板41の上面からの高さHi(第7図)は、
1/2(H−t)より大きい方が、匣31の側壁部
分45の強度を保つために好ましい。なお、ここ
でHは底板41の下面から側壁部分45の先端ま
での高さを示し、底板41の厚みを示す。
さらに、第1図の匣31では、隣接する匣の側
壁部分に当接される側壁部分43,44に、それ
ぞれ、複数の切欠61が形成されている。この切
欠61は上方に向かつて開いた形状に形成されて
おり、側壁部分43,44に当接される隣り合う
匣との間の導入ガスの流通を円滑とするために設
けられているものである。したがつて、上記切欠
51,52と協働して、匣31内の雰囲気を均一
に維持することが可能とされている。
壁部分に当接される側壁部分43,44に、それ
ぞれ、複数の切欠61が形成されている。この切
欠61は上方に向かつて開いた形状に形成されて
おり、側壁部分43,44に当接される隣り合う
匣との間の導入ガスの流通を円滑とするために設
けられているものである。したがつて、上記切欠
51,52と協働して、匣31内の雰囲気を均一
に維持することが可能とされている。
なお、第1の切欠51の形成されている部分で
は、傾斜面53だけでなく、第7図に想像線B,
Cで示す第2の傾斜面を形成するように匣31の
底板41の外側下端を削り取つてもよい。この場
合には、匣31を上下に積重ねた場合、下側に位
置する匣の傾斜面53と、上側に位置する匣31
A(第7図)の下方傾斜面(想像線B,Cで示す
面)とにより、雰囲気ガスの匣31内への導入を
より円滑にすることが可能となる。
は、傾斜面53だけでなく、第7図に想像線B,
Cで示す第2の傾斜面を形成するように匣31の
底板41の外側下端を削り取つてもよい。この場
合には、匣31を上下に積重ねた場合、下側に位
置する匣の傾斜面53と、上側に位置する匣31
A(第7図)の下方傾斜面(想像線B,Cで示す
面)とにより、雰囲気ガスの匣31内への導入を
より円滑にすることが可能となる。
なお、第5図に示したように中心角の大きな匣
30を構成する場合には、第8図に示すように外
側に位置する側壁部分75を平面形状においてく
の字状に折れ曲がるように形成することにより、
匣の外周部分における強度を高めることができ
る。
30を構成する場合には、第8図に示すように外
側に位置する側壁部分75を平面形状においてく
の字状に折れ曲がるように形成することにより、
匣の外周部分における強度を高めることができ
る。
また、第1図実施例では、外側に形成された切
欠51の下方にのみ外側に向かつて開いた傾斜面
53を形成したが、内側の切欠52の下方に傾斜
面を設けてもよい。この場合にも、該傾斜面は外
側にすなわち炉床24上に積層された場合におけ
る中心の側に向かつて開いた形状の傾斜面が設け
られる。導入された雰囲気ガスの排出を容易とす
るためだからである。
欠51の下方にのみ外側に向かつて開いた傾斜面
53を形成したが、内側の切欠52の下方に傾斜
面を設けてもよい。この場合にも、該傾斜面は外
側にすなわち炉床24上に積層された場合におけ
る中心の側に向かつて開いた形状の傾斜面が設け
られる。導入された雰囲気ガスの排出を容易とす
るためだからである。
[考案の効果]
上述したように、この考案では、雰囲気ガスの
匣内への導入方向に、第1の切欠が形成されてお
り、該第一の切欠の下方には外側に向かつて開い
た傾斜面が形成されている。したがつて、雰囲気
ガスを匣内へむらなく円滑に導入することができ
る。したも、隣接する匣と接する側壁部分には、
第2の切欠が形成されているので、第2の切欠に
より、隣り合う匣間の雰囲気ガスの流通を確保す
ることができる。したがつて、匣内の雰囲気を均
一に保つことができ、特性の揃つたセラミツク焼
結体を得ることが可能となる。
匣内への導入方向に、第1の切欠が形成されてお
り、該第一の切欠の下方には外側に向かつて開い
た傾斜面が形成されている。したがつて、雰囲気
ガスを匣内へむらなく円滑に導入することができ
る。したも、隣接する匣と接する側壁部分には、
第2の切欠が形成されているので、第2の切欠に
より、隣り合う匣間の雰囲気ガスの流通を確保す
ることができる。したがつて、匣内の雰囲気を均
一に保つことができ、特性の揃つたセラミツク焼
結体を得ることが可能となる。
また、環状側壁は、底板と一体に形成されてい
るものであるため、焼成の都度支柱を底板上に配
置したりする煩雑な作業を強いられることもな
く、したがつて能率良く多数のセラミツク成形体
を焼成することができる。
るものであるため、焼成の都度支柱を底板上に配
置したりする煩雑な作業を強いられることもな
く、したがつて能率良く多数のセラミツク成形体
を焼成することができる。
第1図は、この考案の一実施例の斜視図、第2
図は従来のセラミツク焼成用匣の一例を示す斜視
図、第3図は従来のセラミツク焼成用匣の他の例
を示す斜視図である。第4図は、この考案のセラ
ミツク焼成用匣を用いる炉の概略断面図である。
第5図は、炉内での匣の集合状態の一例を示す平
面図、第6図は他の例を示す平面図である。第7
図は、第1図実施例を積層した状態を示す部分拡
大断面図であり、第1図の−線に沿う断面図
である。第8図は、この考案の他の実施例を示す
斜視図である。 図において、31はセラミツク焼成用匣、41
は底板、42は直立環状壁、43,44は隣接す
る匣と接する側壁部分、45は雰囲気ガスを導入
する側の側壁部分、51は第1の切欠、53は傾
斜面、54は第2の切欠を示す。
図は従来のセラミツク焼成用匣の一例を示す斜視
図、第3図は従来のセラミツク焼成用匣の他の例
を示す斜視図である。第4図は、この考案のセラ
ミツク焼成用匣を用いる炉の概略断面図である。
第5図は、炉内での匣の集合状態の一例を示す平
面図、第6図は他の例を示す平面図である。第7
図は、第1図実施例を積層した状態を示す部分拡
大断面図であり、第1図の−線に沿う断面図
である。第8図は、この考案の他の実施例を示す
斜視図である。 図において、31はセラミツク焼成用匣、41
は底板、42は直立環状壁、43,44は隣接す
る匣と接する側壁部分、45は雰囲気ガスを導入
する側の側壁部分、51は第1の切欠、53は傾
斜面、54は第2の切欠を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 セラミツク成形体を内部に収納して炉内で焼成
するのに用いられ、かつ炉内で複数段に重ねられ
るセラミツク焼成用匣であつて、 底板と、 底板の周囲に一体に形成された直立環状壁とを
有し、 前記環状壁には、炉内に導入される雰囲気ガス
の匣への進入方向外側に向かつて開いた傾斜面が
下方に形成された第1の切欠が設けられており、
かつ 前記環状壁の隣接する匣と接する部分には、上
方に向かつて開いた第2の切欠が形成されている
ことを特徴とする、セラミツク焼成用匣。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12514886U JPH0438235Y2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12514886U JPH0438235Y2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6332300U JPS6332300U (ja) | 1988-03-02 |
| JPH0438235Y2 true JPH0438235Y2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=31017801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12514886U Expired JPH0438235Y2 (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438235Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006200772A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理さや、熱処理方法およびセラミック電子部品の製造方法 |
| JP2019219068A (ja) * | 2018-06-15 | 2019-12-26 | Skメディカル電子株式会社 | 歯科用セラミック義歯焼成装置及び匣 |
-
1986
- 1986-08-14 JP JP12514886U patent/JPH0438235Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6332300U (ja) | 1988-03-02 |
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