JPH0439125B2 - - Google Patents

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JPH0439125B2
JPH0439125B2 JP12878685A JP12878685A JPH0439125B2 JP H0439125 B2 JPH0439125 B2 JP H0439125B2 JP 12878685 A JP12878685 A JP 12878685A JP 12878685 A JP12878685 A JP 12878685A JP H0439125 B2 JPH0439125 B2 JP H0439125B2
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JP
Japan
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ferrite
etching
magnetic
film
magnetic head
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JP12878685A
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JPS61287017A (ja
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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/1871Shaping or contouring of the transducing or guiding surface

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明はVTR等において使用する磁気ヘツド
に関する。
(ロ) 従来の技術 作動ギヤツプを形成する非磁性体を介して相対
峙する2個のフエライトコアの作動ギヤツプ形成
面側に該コア材よりも飽和磁束密度の大きいセン
ダスト等の金属材料を結合して形成した複合型の
磁気ヘツドが例えば実開昭50−117808号や特開昭
58−175122号公報等に記載されている。斯種磁気
ヘツドはフエライト材料のみのヘツドコアでは飽
和磁束密度が低く抗磁力が1000エルステツドを越
えるような記録媒体に対する記録能力が不十分で
あるのを克服するべく、磁気飽和現象の最も生じ
易い作動ギヤツプ部近傍をフエライトよりも飽和
磁束密度の高い材料(例えば、センダスト、パー
マロイ、アモルフアス等)で構成したものであ
る。
ところで、この複合型磁気ヘツドを形成するの
に、スパツタ等で金属磁性材料の薄膜を形成した
フエライト基板に各種の溝を機械加工で施こすと
き金属磁性材料に対してはボラゾンが、フエライ
トに対してはダイヤモンドが適している。
(ハ) 考案が解決しようとする問題点 しかし、金属磁性材料が薄膜という形で施され
ているため、どちらで加工しても膜剥れやカケを
生じてしまう。斯る不都合を生じないように加工
速度を遅くすると加工時間がかかり過ぎて作業性
を悪くする。そのほかブレードが摩耗してくる
と、磁気ヘツドのトラツク幅にバラツキが生じて
くる。しかも機械加工ということで薄膜に各種の
歪が入り磁気特性を劣化させる。それらを解消す
るためにケミカルエツチングで薄膜部分を加工す
る方法があるが、ケミカルエツチングは等方性で
あるので、サイドエツチが起つてしまう。また、
エツチング形成した金属材料膜の裾野の端が、フ
エライトに対する機械加工の際に剥れてしまう。
(ニ) 問題点を解決するための手段 金属磁性材料の膜をイオンビームを用いてエツ
チングすると共に、そのエツチングをフエライト
にも届くように施こす。
(ホ) 作 用 イオンビームエツチングは異方性エツチングで
あるので、サイドエツチが生じない。フエライト
は機械加工されるが、金属磁性材料膜の裾野に位
置するフエライト部分には、金属磁性材料膜のイ
オンビームエツチング時のエツチングを受けて所
定厚分だけ削除される。従つて、フエライトを機
械加工するとき、金属磁性材料はその影響を受け
ない。
(ヘ) 実施例 第1図に示すフエライト基板1に、センダスト
膜2と、そのセンダスト膜上にSiO2膜をスパツ
タリング法等によつて形成する(第2図)。更に
第3図に示す如くスピンナーを用いてレジスト3
を塗布する。次にフオトマスクを用いて露光と現
像を行ない第4図の如くレジストパターンを形成
する。第4図の状態でイオンビーム6によるエツ
チングを施こして第5図の如く加工する。このと
き、エツチングはフエライト部分にも及ぶように
しているので、前記フエライト基板1の上面は除
去され、センダスト膜2と、該センダスト膜2に
隣接するフエライト表面1aとの間には段差が生
じる。第4図において点線Aはエツチングを施こ
す深さを示している。第5図において、フエライ
ト1の表面1aには更に点線Bで示す形状に機械
加工を施こす。このようにして形成したものを一
対対向配置すると共に両サイドに研磨を施こすと
第6図のようになる。第6図でサイド溝4部分に
は接合用のガラスを充填する。5はSiO2膜より
なるギヤツプ用非磁性体を示す。イオンビームの
入射角(θ)を50°より大きくしてエツチングし
たものを組合せると第7図の如くなる。従つて、
本来のギヤツプ以外に見掛け上大きなギヤツプが
できたことに対応して好ましくない。上述におい
てセンダストに代えてパーマロイ、アモルフアス
などを用いることもできる。
(ト) 発明の効果 本発明によれば、金属磁性材料の膜剥れが生じ
ることがない。また、金属磁性材料膜のトラツク
部分とフエライトの機械加工を施こす部分を離す
ことができるので、トラツク幅の精度が向上し、
加工時間も大幅に短縮できる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図およ
び第6図は本発明の一実施例を説明する図であ
り、第7図は他の実施例を説明するための図であ
る。 1……フエライト基板、2……センダスト、3
……レジスト、5……ギヤツプ用非磁性体、6…
…イオンビーム。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 フエライト材料よりなる主磁路のギヤツプを
    形成する非磁性体と前記フエライト材料との間に
    高飽和磁束密度の金属磁性材料を配してなる磁気
    ヘツドを形成する段階で各種の溝加工を施こす際
    に前記金属磁性材料はエツチングで加工し、前記
    フエライト材料は機械的に加工する磁気ヘツドの
    製造方法において、前記エツチングをイオンビー
    ムを用いて行なうと共に、そのエツチングを前記
    フエライトにも及ぶように行ない、前記フエライ
    ト材料の上面を除去することを特徴とする磁気ヘ
    ツドの製造方法。
JP12878685A 1985-06-13 1985-06-13 磁気ヘツドの製造方法 Granted JPS61287017A (ja)

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JPS61287017A JPS61287017A (ja) 1986-12-17
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US5007158A (en) * 1988-02-09 1991-04-16 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of manufacturing magnetic heads

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JPS61287017A (ja) 1986-12-17

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