JPH0443645A - ウェハの端縁コーティング方法およびその装置 - Google Patents

ウェハの端縁コーティング方法およびその装置

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JPH0443645A
JPH0443645A JP15184590A JP15184590A JPH0443645A JP H0443645 A JPH0443645 A JP H0443645A JP 15184590 A JP15184590 A JP 15184590A JP 15184590 A JP15184590 A JP 15184590A JP H0443645 A JPH0443645 A JP H0443645A
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哲夫 佐藤
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勝 斉藤
Kanji Irie
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、集枯回路(IC)を形成したウェハ1−に、
プリンl−基板へのボンデインタ用接続部(ハング)を
形成するに際し、回ウェハの端縁に鍍金か付着するのを
Uj ILするためのウェハの端縁コーティング方法お
よびその装置に関する。
[従来の技術] ICをプリント基板に実装するには、例えば、ウニへ十
のICチップに電極接続部となるハングをあらかしめ形
成しておき、ウェハを各ICチップに切断後、該バンブ
とプリント基板上のリードとをボンディングにより接合
する方法が採られている。
従来のバンブ形成方法としては、蒸着法、すなわちウェ
ハ上のICリート部以外にマスクを形成しておき、金属
膜を蒸着することによりハンプを形成する方法かある。
しかし、蒸着法の場合、大形’7エハに対してマスク合
わせか困難であり、しかもマスクの反り等の問題が生じ
実用的でなかった。
そこて、近年、第5図(a)〜(C)に示すような鍍金
法が開発され、大形ウェハに対しても上記の問題を生ず
ることなくハンプの形成か可能となった。この鍍金法に
よれば、ウェハWをスどンナーと称する回転支持台に載
せ、ウェハWの表面に半田付着防止膜(レジスト)Lを
塗布し、さらに裏返しにして裏面にもレジストLを塗布
した後、ICリート部分Rft露光することによりレジ
ストLを除去する(同図(a))、次いて、ウェハWを
銅鍍金処理してICリート部分Rに銅鍍金層Pを形成し
、さらに銅鍍金層Pの上に半田層Sを積層して形成する
(同図(b))、その後1両面のレジストLを除去する
とともに半田層Sをリフローしてハンプ■を形成してい
た(同図(c))。
[発明か解決しようとする課題] 上述した従来の鍍金法においては、ウェハWの表裏両面
にレジストを塗布していたが、ウェハWの端面はむき出
しのままであった。すなわち、スピンナーに載置した状
態ては、ウェハWの端面にレジストを塗布できない。
ところか、ウェハを形成するシリコンと銅とは親和性か
強く、ウェハWの端面かむき出しのままであると、銅鍍
金か付着してしまう、特に、半田層に共品半田を使用し
た場合、銅鍍金層を厚く形成しなければないらないため
、ウェハ端面への銅鍍金の+1着量も多くなる。このよ
うに多量の銅鍍金がウェハ端縁に付着すると、後工程に
おいてウェハな切断する際、端縁から不規則な割れや欠
けを生し、生産されるICチップの歩留りが低下すると
いう欠点を有していた。
本発明はこのような事情にかんがみてなされたもので、
ウェハ端縁への鍍金の付着を防止しICチ・ンブの歩留
りを向上することのてきるウェハの端縁コーティング方
法と、同方法の実施に好適なウェハの端縁コーティング
装置の提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 1−記[目的を達成するために、未発+!■のウェハ端
縁コーディング方法は、ウェハを回転させなから、当該
ウェハの端縁に全周にわたり光硬化性樹脂を塗布すると
ともに、前記ウェハの端縁に塗布された光硬化性樹脂に
対して光線を照射する方法としてあり、さらに&7まし
くは前記方法をウェハの全周にわたって行なった後、光
硬化性樹脂の塗布を止め、すでにウェハの端縁に塗布さ
れている光硬化性樹脂に対して更に光線を照射する方法
としである。
また、未発IJIのウェハ端縁コーティング装置は、ウ
ェハを回転自在に支持する手段と、同手段に支持された
ウェハを回転させる手段と、回転するウェハの端縁に接
続し、光硬化性樹脂を塗布する手段と、前記ウェハの端
縁に塗布された光硬化性樹脂に対して光線を照射する手
段とを備えた構成としである。
[作用] 本発明は上述した構成としたのて、ウェハの端縁に光硬
化性樹脂層を形成することかでき、同層により鍍金とシ
リコンとの結合をしゃ断するのて、fs金かウェハ端縁
に付着することはなくなる。
なお、使用する光硬化性樹脂としては、鍍金との親和性
か弱く、かつ鍍金液中への溶解か皆無のものであればよ
く、例えば、紫閃線硬化樹脂(商品名 ハートロック(
it気化学−■。業株式会社製))を用いることかでき
る。
[実施例] 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説すl
する。
第1図は本発明のウェハ端縁コーディング装とに係る実
施例を示す側面断面図、第2図はウェハ収納ハスゲット
の一部切欠正面図、第3図は光硬化性樹脂の塗41手段
を示す斜視図、第4図は同手段のローラ部分を示す正面
図である。
まず、これらの図面を参照して本発明装置の実施例を説
明する。
第1図において、10は箱形の装置本体てあり、上面開
口部に蓋体11か着脱自在となっている。装置本体lO
の内部には、ウェハ収納バスケット(ウェハ支持手段)
20の取付枠12、送りローラ(ウェハ回転手段)30
、光硬化性樹脂の塗布手段40.および光源50かそれ
ぞれ設けられている。なお、13.14は換気孔てあり
、特に換気孔13の下方にはしや先板15か設けられ、
ウェハWに対する外部光の入射を防止している。
ウェハ収納バスケット20の内部には、仕切り21か一
定間隔ごとに並べて設けられており、多数のウェハWが
これら仕切り21の間に縦に収納される(第2図参照)
、また、底部には、ウェハWの直径より短い長さの開口
22か設けられており、この開口22からウェハWの下
部か一部露出する。さらに、同バスケット20の上端外
周縁には取付はフランジ23か設けられており、このフ
ランジ23を取付枠11に載置して、装置本体lO内に
装填てきる構成となっている。
送りローラ30は、装置本体lO内に装填されたウェハ
収納バスケット20の底部開口22から露出するウェハ
Wか当接し、しかも同ウェハWがわずかに持上げられる
位置に設けられている。この送りローラ30は、図示し
ない駆動モータにより回転駆動される。また、送りロー
ラ30の外周面には、軟質ゴム等、摩擦係数の大きなす
べり防止部材31が被覆されており、重力により当接す
るウェハWとの間の厚擦力を大きくシ、ウニへWを確実
に回転させる工夫かなされている。
光硬化性樹脂の塗布手段40には、第3図に示すように
、第一、第二ローラ41,42が設けられており、各ロ
ーラ41,42の回転軸43゜44には、互いに噛み合
う歯車45.46が両端に取付けである。さらに、第一
ローラ41の回転軸43には、プーリ47か取付けてあ
り、伝達ベルト48を介して図示しない駆動子−夕より
駆動力を受ける構成となっている。この駆動力により第
一ローラ41か回転するとともに、歯車45゜46を介
して第二ローラ42も回転駆動される。
第一ローラ41の下方には、光硬化性樹脂を充填した容
器49か設けてあり、第一ローラ41の下部かこの容器
49内の光硬化性樹脂に浸漬されている。また、第二ロ
ーラ42には、両端にカラー42a、42aか形成され
ており、これらカラー42a、42a部分か第一ローラ
41に接触している。したかって、カラー42a、42
aに挟まれた中間部分(以下、四部という)42bと第
一ローラ41との間には、第4図に示すように一定深さ
dの隙間か形成されている。
光硬化性樹脂はこの隙間内に充填され、一定深さdを保
ちつつ第二ローラ42のE面に付着して回転する。ウェ
ハWは、第二ローラ42の周面に接触しており、前述し
たように送りローラ30により回転駆動される。ここで
、送りローラ30によるウェハWの回転と第二ローラ4
2の回転とは同期させておくことか好ましい。
なお、光硬化性樹脂の塗布手段40は、図示しない移動
テーブル上に設けられており、第一図の矢印a方向に移
動可能となっている。
光源50は、送りローラ30と光硬化性樹脂のや71+
手段40との間に設けられており、光硬化性樹脂を硬化
させ得る適宜の光線をウェハWの端縁に照射する1本実
施例では、光[50として紫外線ランプを使用している
。また、光源50の前面には開閉自在なシャッター51
か設けられており、このシャッター51か開いた状態の
ときのみウェハWの端縁に光線を照射し、同シャッター
51の閉塞状態においては光線をしゃ断する。さらに、
光硬化性樹脂の塗布手段40と光源50との間にも固定
シャ・ンター52が設けられており。
!Ii布手段40内への光のもれ込みを防止している。
次に、上述した装置を用いて行なう本発明に係るウェハ
端縁コーティング方法の実施例を説明する。
まず、ウェハ収納バスケット〜20の内部にウェハWを
縦に収納し、同バスケウト20を装置本体10に装填す
る。このとき、送りローラ30および光硬化性樹脂の塗
布手段40はともに停止させておき、また、シャッター
51は閉じた状態にしておく。
次いで、送りローラ30を駆動してウェハWを第1図の
反時計方向に回転するとともに、光硬化性樹脂の塗布手
段40における第一、第二ローラ41.42を回転する
。同時に、シャッター51を開いてウェハWの端縁に光
線を照射する。
送りローラ30は、周面にすべり防止部材31を有して
いるので確実にウェハWと接触し、ウェハWにオリフラ
Wo等の切欠かあっても安定して回転させることができ
る。
光硬化性樹脂の塗布手段40ては、第一ローラ41に付
着した光硬化性樹脂か第二ローラ42の凹部42b内に
充填され、常に均一な面積でウェハWの端縁に塗布され
る(第4図参照)、シたがって、塗布量のコントロール
か正確に行なえ、よって最小@度の塗!tjか可能であ
る。このため。
端面側部の光硬化かスムーズに行なえるとともに、均一
に塗布てきるため鍍金の付着かなく、しかも鍍金終了後
に端面部の塗ITJ物を取り除く作業か容易である。続
いて、ウェハWの端縁に塗布された光硬化性樹脂に対し
、光源50からの光線を照射して同樹脂を硬化させる。
上述した光硬化性樹脂の塗布および光線の照射は、ウェ
ハWの全周にわたり光硬化性樹脂の多層膜かできるまて
続ける。その後、光硬化性樹脂の塗布手段40を移動さ
せることにより第二ローラ42をウェハWの端縁から離
間させ、さらに光線を照射したままウェハWを二回転さ
せる。すなわち、前段の処理たけではウェハWの表裏面
側に付着した樹脂を硬化させるには十分でない、そこで
、ウェハWに光線を照射しながらさらに二回転させるこ
とにより、十分な樹脂の硬化処理を行なっている。
このようにして端縁に光硬化性樹脂がコーティングされ
たウェハWは、その後の鍍金工程において、端縁に鍍金
の付着するおそれかない、そして、端縁の光硬化性樹脂
は、リフトオフによりウェハWから除去される。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、要旨を変更しない範囲で種々・変形実施か可能であ
る。
例えば、装置本体や各手段の構造は一■−記実施例に限
定されるものではなく、特に装置本体およびウェハ収納
バスケットについては、作業スペース、作業規模簿を考
慮して適宜設シ1変更てきる余地か大きい。
また、上述した方法発明の実施例においてはクエへの全
周にわたって、光硬化性樹脂のp!Ii布および光線の
照射を行なった後、さらにウェハな二回転させる間光線
を照射したが、光硬化性樹脂の硬化特性によっては、後
段の操作を行なわず紳了してもよく、あるいは別に光照
射用ボックスを設けて光線を照射することにより、後段
の操作に代えてもよい。
[発明の効果] 以ト説明したように、未発1]のウェハ端縁コーティン
グ方法によれば、ウェハ端縁への鍍金の付着を防1にニ
ジ、ICチップの歩留りを向」−できる効果かある。
また、本発明のウェハ端縁コーティング装置によれば、
−1−配力法を筒中かつ迅速に行なうことがてきる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のウェハ端縁コーディング装置に係る実
施例を示す側面断面L;a、t52図はウェハ収納ハス
ケントの一部切欠正面]A、第3図は光硬化性m1ll
iの塗4J手段を>Tjす斜視図、第4図は同手段のロ
ーラ部分を示す正面LA、第5図(a)。 (b)、(e)はウェハのハング形成上程を示す断面図
である。 10 装置本体    11 取付枠 20 ウェハ収納バスケット 22:開口      23・フランジ30:送りロー
ラ 31:すべり防止部材 40:光硬化性樹脂の塗布手段

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ウェハを回転させなから、当該ウェハの端縁に全
    周にわたり光硬化性樹脂を塗布するとともに、前記ウェ
    ハの端縁に塗布された光硬化性樹脂に対して光線を照射
    することを特徴としたウェハの端縁コーティング方法。
  2. (2)ウェハを回転させなから、当該ウェハの端縁に全
    周にわたり光硬化性樹脂を塗布するとともに、前記ウェ
    ハの端縁に塗布された光硬化性樹脂に対して光線を照射
    する工程と、 前記工程をウェハの全周にわたって行なった後、光硬化
    性樹脂の塗布を止め、すでにウェハの端縁に塗布されて
    いる光硬化性樹脂に対して更に光線を照射する工程と、 を含むことを特徴としたウェハの端縁コーティング方法
  3. (3)ウェハを回転自在に支持する手段と、同手段に支
    持されたウェハを回転させる手段と、回転するウェハの
    端縁に接続し、光硬化性樹脂を塗布する手段と、前記ウ
    ェハの端縁に塗布された光硬化性樹脂に対して光線を照
    射する手段とを備えたことを特徴とするウェハの端縁コ
    ーティング装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006352078A (ja) * 2005-05-16 2006-12-28 Fuji Electric Holdings Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2010147184A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Shimadzu Corp 積層基板の形成方法、および形成装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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