JPH0444610Y2 - - Google Patents

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JPH0444610Y2
JPH0444610Y2 JP20086186U JP20086186U JPH0444610Y2 JP H0444610 Y2 JPH0444610 Y2 JP H0444610Y2 JP 20086186 U JP20086186 U JP 20086186U JP 20086186 U JP20086186 U JP 20086186U JP H0444610 Y2 JPH0444610 Y2 JP H0444610Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この考案は高炉の炉頂に配される分配シユート
を旋回させる駆動装置のガスシール装置に関する
ものである。
「従来の技術」 高炉において、鉱石、コークス等の材料を炉内
に装入する際に用いられる炉頂装入装置として、
ベルレス式炉頂装入装置が知られている。
このベルレス式炉頂装入装置は2段に設けられ
たシール弁でガスシールし、炉内に設けた分配シ
ユートを連続旋回させて材料を分配装入するもの
であり、全体がコンパクト、かつ高さを比較的低
くし得る等の利点を有し、最近多く採用され始め
ている。
第4図ないし第6図は、従来の水冷式ベルレス
式炉頂装入装置の一例を示すものである。
第4図中符号1は高炉の炉頂部分に配されるケ
ーシングで、このケーシング1は、円錐胴1aの
上下にそれぞれカバー1bおよびフランジ1cが
設けられて成るものである。円錐胴1aの中心部
分には上部開口から供給される鉱石あるいはコー
クス等の材料を炉内に分配装入する分配シユート
2が設けられている。分配シユート2は、円錐胴
1a内に設けられた駆動装置3によつて、炉内中
心線lを中心に旋回操作され、かつ、傾斜角度が
任意に変えられるようになつている。
駆動装置3について第5図を参照しながら説明
すると、ケーシング1の内側には回転テーブル5
が前記中心線lを中心に回転自在に配されてい
る。この回転テーブル5は、前記分配シユート2
を支持するものであつて、上部直立部6と水平部
7と下部直立部8および下部直立部8の下端に取
り付けられたフランジ部9から成つている。
上部直立部6は、円筒部材10の外周に断面L
字状の部材11が固着されることによつて形成さ
れ、上部が開口されたリング溝12を有してい
る。円筒部材10および断面L字状の部材11の
上部には突出部10a,11aがそれぞれ形成さ
れ、それらの突出部はケーシングカバー1bに設
けられたリング溝に遊嵌されている。断面L字状
の部材11の外周には取付金物13が取り付けら
れ、この取付金物13とケーシングカバー1bと
の間には軸受14が設けられている。この軸受1
4によつて回転テーブル5が回転自在に支持され
ている。軸受14は前記取付金物13に固定され
る外輪14aと、ケーシングカバー1bに固定さ
れる内輪14bと、両輪の間に介装されるボール
14cから成つている。外輪14aの外周には歯
部14dが形成され、この歯部14dを介しケー
シング1と回転テーブル5の間に形成された空間
S内に配される駆動力伝達系15の出力が回転テ
ーブル5に伝達され、同テーブル5および分配シ
ユート2が回転駆動されるようになつている。
また、駆動装置3には水冷式冷却装置が付設さ
れている。すなわち、ケーシングカバー1bの下
面には、リング状の中空部16が回転テーブル5
のリング溝12に対向して設けられ、この中空部
16には、ケーシングカバー1bに周方向に沿つ
て複数設けられた給水ノズル17から水が供給さ
れる。中空部16に供給された水は、同中空部1
6から延びる連絡ノズル18を介して回転テーブ
ル5のリング溝12に供され、さらにそこからリ
ング溝底部を貫通する配管19を介して下側の冷
却パネル20a,20bに供される。
冷却パネル20a,20bは、回転テーブル5
の水平部7の上面および下部直立部8の外周面に
それぞれ貼り着けられるものであつて、たとえ
ば、鉄板で作つた枠体内に冷却パイプが蛇管状に
並べられ、該冷却パイプと枠体との間に熱伝導性
に優れる不定形の耐火物が充填されてなる構造も
の等が利用される。
一方、ケーシング1の下部フランジ1cの内側
には、前記回転テーブル5の水平部7より下側に
位置して、断面U字状のトラフ21が周方向に連
続してリング状に設けられている。前記冷却パネ
ル20a,20b内を流れた水は、周方向適宜間
隔置きに設けられかつ後述するカバー本体28を
貫通する配管22を介してトラフ21内に導か
れ、そこからさらに、トラフ21の外側側壁下部
から延びてマンテル32を貫通する排出管23を
介し外部へ排出される。
前記トラフ21の上部は回転テーブル5から延
びるカバー24によつて覆われており、トラフ2
1内に上方の前記動力伝達系15に使われたグリ
ースが入らないようになつている。カバー24は
第6図に示すように、前記回転テーブル5のフラ
ンジ部9に固定される取付リング25と、そこか
ら上方へ延びかつ周方向所定間隔置きに配される
スタンド26と、該スタンド26にアーム27を
介して取り付けられた円錐状のカバー本体28
と、カバー本体28の下端に溶接された断面コ字
状の案内板29と、該案内板29からトラフ21
内に延びて設けられトラフ底部にダストが溜まる
のを防止する攪拌板30から構成されている。ま
た、このカバー24は周方向に複数に分割されて
いる。なお、31a,31b,31c,31dは
回転テーブル5の炉内側に貼り付けられた断熱
材、33はケーシングカバー1bから回転テーブ
ル5の内側に位置するよう下方に延びて設けられ
た邪魔板である。
ところで、このようなベルレス式炉頂装入装置
にあつては、分配シユート2を旋回させるための
動力伝達系15がケーシング1と回転テーブル5
との間の空間Sに配されており、該動力伝達系1
5に、高温かつ多量のダストを含有する炉内ガス
の影響が及ばないよう十分に配慮する必要があ
る。
上記第4図〜第6図で示す従来例のベルレス式
炉頂装入装置では、炉内ガスが空間S内に流れ込
まないよう次のような工夫が施されている。
すなわち、回転テーブル5のフランジ部9とカ
バーの取付リング25との間には、シールプレー
ト34が挾持され、該シールプレート34の外周
端は、トラフ21の内周側側壁に互いに適宜間隔
を明けて設けられたリング状の突出部35,35
間に遊嵌されている。
つまり、炉内空間から前記動力伝達系15が配
される空間Sまでの経路を屈曲させ、もつて、炉
内のガスが空間Sへ流れ込みにくくしているので
ある。
「考案が解決しようとする問題点」 しかしながら、上記のようなガスシール装置で
は、経路を屈曲させてガスの流通抵抗を大とした
だけであり、小形の高炉においては十分な効力が
得られるものの、例えば内容積が4000m3を超える
ような大形の高炉の場合では、炉内空間のガス乱
流が小形高炉に比べてはるかに大となることか
ら、屈曲した経路であつても炉内の高温ガスがシ
ール部を通つて継続して空間Sに入り込みがちに
なる。この結果、空間Sの雰囲気温度が100℃以
上に達することもあり、またガスが含有する粉塵
量も小形高炉の場合に比べて格段に多くなつてい
るため、機械が損傷されるおそれがあり、十分な
対策にはなつていない。
加えて、上記従来のガスシール装置にあつて
は、例えば高炉がスリツプを起こして吹抜けを生
じた場合等、炉頂部分に高温負荷がかかる場合、
回転テーブル5が熱膨張を起こしてシールプレー
ト34がトラフ21の内側側壁に接触し、旋回不
能つまりは原料装入不能を引き起こす危険性があ
る。
この考案は、このような従来の欠点を除去しよ
うとするものである。
「問題点を解決するための手段」 この考案では、高炉炉頂部のケーシング内に回
転テーブルを水平方向に回転自在に設け、該回転
テーブルを回転させることにより同回転テーブル
に取り付けた分配シユートを旋回させる、高炉の
炉頂分配シユート駆動装置におけるケーシング内
周部と回転テーブル外周部とのガスシール装置で
あつて、互いに対向する前記ケーシング内周部と
回転テーブルの外周部と間に両者のいずれか一方
から全周に亙つて延びるように上方に開口を有す
るリング状のトラフを設け、残る他側から全周に
亙つて延びるようにトラフの上部開口を覆うカバ
ー本体を設け、前記カバー本体から下方へ延びそ
の下端が前記トラフの底部近傍まで達するリング
状の仕切板を設け、トラフ内の水位がそこに差し
入れられた前記仕切板の下端より上側となるよう
に制御するトラフ水位制御手段を設け、前記仕切
板のトラフ水面下に没する位置に貫通部を周方向
に複数設けていることを特徴としている。
「作用」 カバー本体から延びる仕切板をトラフ内に水位
より下側となるように差し入れることにより、回
転テーブル外周部と炉頂ケーシング内周部との間
が水封できる。したがつて、この水封が切れない
限りにおいては、その部分を通つて炉内ガスが回
転テーブル外周部とケーシング内周部との間に形
成される空間に侵入することがなく、確実なシー
ルが実現できる。
また、仕切板のトラフ水面下に通常没する位置
に貫通部を設けているため、炉頂圧に変動がある
場合トラフ水位が下がつた際前記貫通部を介して
炉内ガスが序々にケーシング内側の空間に流出入
することとなり、多量のガスが突発的に流出入す
るのを未然に防止できる。
「実施例」 以下、この考案の一実施例について第1図ない
し第3図を参照して説明する。なお、従来例で説
明したものと同一構成要素には同一符号を付しそ
の説明を省略する。
この例において、回転テーブル5を軸受14で
回転自在に支持し、該回転テーブル5を動力伝達
系15により回転駆動することにより分配シユー
トを旋回し、回転テーブル5の炉内側には断熱材
31a〜31dを張り付ける一方、そのケーシン
グ内周側には冷却パネル20a,20bを配し、
給水ノズル17を介し回転テーブル5上部のリン
グ溝12内に給水しながら冷却パネル20a,2
0bを通じて回転テーブル5およびその外側の空
間Sを冷却し、冷却後のトラフ21で受けて外部
へ排出するといつた構造は第4図〜第6図で示し
た従来例のものと同様である。この例の特徴部分
は、前記従来例のシールプレート34を廃止し、
その変わりに特殊なカバー40を用いるととも
に、トラフ21内の水位を一定に保つ水位調整手
段50を備えた点にある。
カバー40について説明すると、回転テーブル
5の外周下部のフランジ部9にはリング状の取付
金具41が、ボルト等の固定手段によつて取り付
けられている(第2図参照)。取付金具41は外
周がトラフ21の内周側側壁21aの上方まで延
びて設けられ、その先端は下方に折り曲げられて
トラフ内に位置している。取付金具41の外周端
上部にはトラフ21上部開口21bを覆う円錐状
のカバー本体42が、拡径側が上方となるように
溶接されている。カバー本体42の下部中央から
はリング状の仕切板43が、先端がトラフ21の
水位より下方となるようトラフ底部近傍まで延び
て設けられている。カバー本体42の仕切板43
が取り付けられた部分よりさらに外周側には冷却
パネル20a,20bから延びる配管22が貫通
状態で設けられ、冷却パネル20a,20bを通
つた後の水がトラフ21内に流れ込むようになつ
ている。
上記取り付け金具41、カバー本体42および
仕切板43は周方向に複数に分割されており、そ
れら部材どうしは適宜間隔(例えば2〜3mm程
度、この値はカバー40の外径、厚さ、分割数に
よつても変わる)を明けてかつそれらの隙間にペ
ースト等の充填材が詰められた状態で配される。
このように配するのはカバー40の熱膨張を吸収
するためである。カバー本体42および取付金具
41の上部には一枚もののリング状シールパツキ
ン44が、上部の止め板45により固定されてい
る。
前記仕切板43のトラフ水面下に没する位置に
は、下端から延びる大小2つの逆V字状の切欠4
6,47が交互に複数周方向適宜間隔置きに設け
られている(第3図参照)。図においてLはトラ
フの通常運転時の水位を示し、この水位より寸法
aだけ低いレベルに切欠46の上端がくるよう
に、寸法b(b>a)のレベルに切欠47の上端
がくるように、それら切欠46,47は作られて
いる。なお、図示例では仕切板43に逆V字状の
切欠46,47を形成しているが、形状はなんら
V字状のに限られることなくしかも必ずしも切欠
に限らず孔で有つてもよい。要は仕切板43の下
部を貫通するものであれば足りる。
一方、トラフ水位制御手段50について説明す
ると、トラフの外側側壁21cからは配管51が
外方へ延びマンテル32を貫通して設けられてお
り、その先端には水位コントロールタンク53が
接続されている。コントロールタンク53は略中
央に設けられた底部から上方へ所定高さまで延び
る仕切板54によつて内部下部が2室に仕切られ
ており、その内の1つの室53aは前記配管51
に接続され、他の室53bは外部へつながる排水
管55に接続されている。配管51を介してトラ
フ21側から流れてくる水は室53aへ流れ込ん
だ後、仕切板54の上端を越えて室53bに至
り、そこから排水管55を通じて外部へ排出され
る。仕切板54の高さhを調整することによつて
トラフ21の水位を定めることができ、この高さ
hは、トラフ水位が前記仕切板43の下端より上
側であつてかつトラフ21の内側側壁21aの上
端より下側にくるように設定されている。
また、タンク53の内部は、一端が蓋56を貫
通し他端がケーシング1を貫通する連通管57を
介して空間Sに連通している。このようにタンク
53内を空間Sに連通させているのは、タンク5
3内と空間Sの圧力が変わる際に、トラフ21の
水位が所望の高さに保ち得なくなるのを防止する
ためである。なお、58は配管貫通部のシール部
を示す。
しかして、上記のガスシール装置であると、炉
内空間に対し動力伝達系15が収納される空間S
は、下部がケーシング1から延びるトラフ21、
回転テーブル5からトラフ21側へ延びるカバー
40、シートパツキン44、下端がトラフ水面下
に没せられる仕切板43によつて水封されて気密
とされ、また上部が、ケーシングカバー1bから
延びる邪魔板33、ケーシングカバー1b下面の
リング溝内に遊嵌される回転テーブル上部の突出
部10a,11aおよび軸受14によつて比較的
気密に保持され、もつて、炉内ガスが空間Sに極
めて入り込み難くなつている。したがつて、空間
Sに収納されている動力伝達系15を炉内ガスの
熱、ダストから保護し得る。
また、炉頂圧は原料投入前後に変動し、スリツ
プを起こした場合特に大きく変動する。このよう
な炉頂圧の変動に伴い、トラフ21の仕切板43
によつて仕切られた左右の水位L1,L2は変動す
る。例えば、炉頂圧が上昇する場合には水位L1
が下がり、距離a以上下がつた時点で炉内ガスが
切欠46の上端を通つて空間S側へ流れ、炉内と
空間Sとの圧力差を緩和する。この緩和速度より
炉頂圧の上昇の方が大きい場合には水位L1がさ
らに下降し、距離b以上下がつたときに炉内ガス
が前記切欠46のみならず切欠47も通つて空間
S側へ流れる。このように炉頂圧の上昇に伴い、
炉内側から空間Sへの流出入ガスを序々に増大さ
せ、両空間内の圧力を速やかに等しくすることが
できる。なお、仕切板43の切欠46,47を図
示例のように逆V字状に形成すれば、水位の下降
に伴い切欠を通過するガス量を指数的に増大でき
ることとなりより好ましい。以上のようにして炉
内側と空間Sとの圧力緩和がなされ、両者が等し
い圧力になつた時にレベルL1,L2がLに復帰す
る。逆に、炉頂圧が下がつた時には、水位L2
下がり、空間S内のガスが炉内側へ流れる。
なお、上記実施例で示した水位制御手段50は
あくまで一例であり、他のもの例えば、配管に開
閉弁を介在させるとともに、トラフ水位を検出す
るセンサを設け、該センサからの出力信号に基づ
き前記開閉弁を制御することによつてトラフ水位
を一定に保つ構造のものを用いてもよい。ただ
し、トラフ21から延びる配管51の接続口を水
位に合わせて上方へ移動させるのは、トラフ底部
に溜まるダスト等を排出させるのが困難になるた
め、好ましくない。
また、上記実施例ではケーシング1側にトラフ
21を設ける一方、回転テーブル5側にカバー本
体42および仕切板43を設けているが、逆に、
ケーシング1側にカバー本体42、仕切板43を
設け、回転テーブル5側にトラフ21を設けても
よい。
また、上記実施例ではこの考案が、水冷式炉頂
装入装置に適用された例について説明している
が、この考案はなんら水冷式のものに限らず、空
冷式のものにも適用できる。ただし、空冷式の場
合にはトラフを新たに設ける必要がある。これに
比べて水冷式のものに適用する場合には、既設の
トラフ、カバー等ほとんどの部品を利用すること
ができ、低コストで設備できる利点がある。
「考案の効果」 以上説明したようにこの考案によれば以下の優
れた効果を奏する。
ケーシング内周部と回転テーブル外周部と間
に両者のいずれか一方から全周に亙つて延びる
ようにトラフを設け、残る他側から全周に亙つ
て延びるようにトラフの上部開口を覆うカバー
本体を設け、該カバー本体から下方へ延びその
下端がトラフの水面下に没する仕切板を設ける
ことによつて、ケーシングと回転テーブルの間
に形成される動力伝達系15を収納する空間の
下部を、炉内室間に対して気密に保持し、もつ
て、炉内ガスがケーシングと回転テーブルとの
間に形成される空間に侵入するのを防止するこ
とができる。この結果、たとえ大形の高炉であ
つても、ケーシング内に収納する動力伝達系を
炉内ガスの熱、ダストから保護することがで
き、動力伝達系の耐久性、メンテナンス性の向
上が図れる。
また、仕切板の下部に貫通部を設けているか
ら、炉頂圧の変動がある場合でも、トラフ水位
が下がり炉内ガスが序々にケーシングと回転テ
ーブルとの間の空間に流出入することとなり、
炉内の多量のガスが突発的にケーシングと回転
テーブル間に形成される空間へ流れてトラフ内
の水が炉内に飛散するといつた事故を未然に防
止することができる。また、炉内ガスがトラフ
と仕切板の水封を破つてケーシング内空間S内
に流れ込む場合であつても、そのガスがトラフ
の水を通過する間に冷却され、しかも含有する
ダストが取り除かれるので、同ガスによる旋回
駆動装置部品の影響は極めて少ない。
さらに、従来例で示すシールリングを用いて
いないため、スリツプ等に起因する高温負荷時
において回転テーブルが熱膨張する場合でも、
回転テーブルに付随する部品がケーシング側の
部品に接触することがなく、旋回不能といつた
不都合を未然に防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図はこの考案の一実施例を示
し、第1図は高炉上部の半断面図、第2図はカバ
ーの一部の斜視図、第3図は仕切板の一部の斜視
図、第4図ないし第6図は従来例を示し、第4図
は高炉上部の断面図、第5図は分配シユート駆動
装置を説明する半断面図、第6図はカバーの一部
の斜視図である。 1……ケーシング、2……分配シユート、3…
…駆動装置、5……回転テーブル、12……リン
グ溝、14……軸受、15……動力伝達系、20
a,20b……冷却パネル、21……トラフ、3
2……マンテル、40……カバー、41……取付
金具、42……カバー本体、43……仕切板、4
4……シートパツキン、46,47……切欠(貫
通部)、50……トラフ水位制御手段、53……
水位コントロールタンク、54……仕切板、55
……排水管、57……連通管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高炉炉頂部のケーシング内に回転テーブルを水
    平方向に回転自在に設け、該回転テーブルを回転
    させることにより同回転テーブルに取り付けた分
    配シユートを旋回させる、高炉の炉頂分配シユー
    ト駆動装置におけるケーシング内周部と回転テー
    ブル外周部とのガスシール装置であつて、互いに
    対向する前記ケーシング内周部と回転テーブル外
    周部と間に両者のいずれか一方から全周に亙つて
    延びるように上方に開口を有するリング状のトラ
    フを設け、残る他側から全周に亙つて延びるよう
    にトラフの上部開口を覆うカバー本体を設け、前
    記カバー本体から下方へ延びその下端が前記トラ
    フの底部近傍まで達するリング状の仕切板を設
    け、トラフ内の水位がそこに差し入れられた前記
    リング状の仕切板の下端より上側となるように制
    御するトラフ水位制御手段を設け、前記仕切板の
    トラフ水面下に没する位置に貫通部を周方向に複
    数設けていることを特徴とする高炉の炉頂分配シ
    ユートの駆動装置のガスシール装置。
JP20086186U 1986-12-29 1986-12-29 Expired JPH0444610Y2 (ja)

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