JPH0446948B2

JPH0446948B2 -

Info

Publication number: JPH0446948B2
Application number: JP10562488A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Tanaka; Eigo Sakuraba
Original assignee: Agency of Industrial Science and Technology
Current assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 1988-04-28
Filing date: 1988-04-28
Publication date: 1992-07-31
Also published as: JPH02231466A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は光学活性なスルホキシド類の製造に関
するものである。即ち抗腸瘍物質などの医薬品や
生理活性物質など及びそれらを合成する不斉合成
中間体として重要なＤ−及びＬ−スルホキシド類
を選択的に与える合成法を提供するものである。

従来の技術及び問題点プロキラルなスルフイドを不斉酸化すると光学
活性なスルホキシドが得られる事は周知である
が、かなり難しい反応のひとつであつて、これま
でにも多くの研究が行われてきた〔J.D.
Morrison、M.S.Mosher（編）；Asymmetric
Organic Reactions、Prentice−Hall、1971
Chapter ８〕。

即ち、そのほとんどは（＋）−モノ過シヤヨノ
−酸のような光学活性な過酸化物を用いるもので
あるが、不斉収率はたかだか10％に過ぎず、光学
活性な過酸化物を用いる酸化では純度の高い光学
活性スルホキシドを得ることはできない。一方微
生物を用いた芳香族スルフイドの不斉酸化では高
純度の光学活性スルホキシドが得られることも公
知である。たとえばAspergillus nigerを用いて
〔B.J.Autet、D.R.Boyd、S.Ross.H.B.Henbest；
J.Chem.Soc.、(c)2371（1968）〕スルフイドにもよ
るが光学収率は70〜100％に達する方法も提案さ
れたが、細菌を扱わねばならないので簡単に誰に
でもできるわけではない。また最近中血清アルブ
ミンを用いた芳香族スルフイドの酸化により不斉
収率〜80％で光学活性なスルホキシドを得る提案
もされたが、この牛血清アルブミンは高価であり
工業的な不斉合成法としては問題がある。更に最
近入手しやすくなつたシクロデキストリンを添加
して、光学不活性な過酸化物を用いて光学活性な
芳香族スルホキシドを得る方法も提案された
〔A.W.Czarnik；J.Org.Chem.、49 924−927
（84）〕が、光学収率は〜26％程度の低いものであ
つた。

本発明者らは上記のような問題点を解決すべく
鋭意研究を重ねた結果、安価で入手しやすい還状
オリゴ糖と、通常の光学非活性酸化剤とを用い
て、スルフイドの不斉酸化が高収率で起こり、光
学純度の高いスルホキシド類の得られることを見
出した。本発明はこの知見に基づいて完成された
ものである。

問題点を解決するための手段即ち、本発明はスルフイド類をシクロデキスト
リンに包接させた後、酸化剤と接触反応させ、し
かる後に包接体から生成したスルホキシド類を回
収することによつて光学活性なスルホキシド類の
製造に成功した。

本発明において原料として使用するスルフイド
類としては、一般式R¹SR²（式中、R¹、R²は式化
合物を安定に存在せしめ、かつシクロデキストリ
ンとの包接化を妨げず、又スルフイドの酸化を妨
げない任意の有機残基で、相互に連絡して環を形
成しても良い。それら有機残基としてはニトロ、
シアノ、ハロゲン、カルボキシル、カルボニル、
ヒドロキシル、アルコキシ、アリールオキシ、チ
オヒドロキシ、フエロセニル、シリル、アリルオ
キシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニ
ル、アラルキルカルボニル、アリルカルボニル、
アルキルカルボキシル、アリールカルボキシル、
アリルカルボキシル、アラルキルカルボキシル、
アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、アリルオキシカルボニル、アルコキシカルボ
キシル、アリールオキシカルボキシル、アリルオ
キシカルボキシルなどの基を置換した、もしてく
置換しないアルキル、アリール、アリル、アルケ
ニル、アルキニル、アラルキル、アラルケニル、
アラルキニルなどの基である。但しR¹とR²は酸
化反応後同一であつてはならないものである。）
で表わされるものである。

たとえば、メチルプロピルスルフイドやエチル
ｔ−ブチルスルフイド、プロピルデシルスルフイ
ド、ヘキシルオクチルスルフイドなどの脂肪族ス
ルフイド類；メチルフエニルスルフイドやプロピ
ルフエニルスルフイド、ブチル１−ナフチルスル
フイド、メチル９−フエナントリルスルフイド、
エチル３−メチルフエニルスルフイドなどの脂肪
族芳香族スルフイド類；フエニル２−ナフチルス
ルフイドやフエニル４−エチルフエニルスルフイ
ドなどの芳香族スルフイド類；２−クロロエチル
フエニルスルフイドや６−メチルナフチル−３−
ブロモフエニルスルフイド、３−フルオロプロピ
ル−４−クロロフエニルスルフイドなどのハロゲ
ン化スルフイド類；２−ニトロヘキシル−３−メ
トキシフエニルスルフイドや３−メチルカルボニ
ルプロピル−１−（６−ニトロ）ナフチルスルフ
イド、２−アリールカルボキシルエチル−３−ニ
トロフエニルスルフイドなどのニトロ化スルフイ
ド類；３−フエロセニルプロピルフエニルスルフ
イドや２フエロセニルエチル−４−シリルブチル
スルフイドなどのフエロセン及びシリル置換スル
フイド類などが含まれる。

本発明において用いられるシクロデキストリン
は現在単離されているα−，β−またはγ−シク
ロデキストリンのいずれでもよいし、これらの混
合物を用いても良い。またこれらシクロデキスト
リンの側鎖に適当な化学基を導入した修飾あるい
は分枝シクロデキストリンや、シクロデキストリ
ンを不溶化したあるいは加溶性ポリシクロデキス
トリンも、包接化を妨げず、かつ包接内化合物の
酸化反応を妨げない限り用いることができる。そ
れらにはたとえば、ヘキサキス−２、６−Ｏ−ジ
メチル−α−シクロデキストリン、ヘキサキス−
２、３、６−Ｏ−トリエチル−α−シクロデキス
トリン、ヘプタキス−２、６−Ｏ−ジエチル−β
−シクロデキストリン、ヘプタキス−２、３、６
−Ｏ−トリメチル−β−シクロデキストリン、オ
クタキス−２、６−Ｏ−ジプロピル−γ−シクロ
デキストリン、オクタキス−２、３、６−Ｏ−ト
リエチル−γ−シクロデキストリン、ヘキサキス
−６−Ｏ−ニトロ−α−シクロデキストリン、ヘ
プタキス−２、６−Ｏ−ジニトロ−β−シクロデ
キストリンなどが挙げられる。またグルコースの
６位にグルコースあるいはマルトースなどが１、
６−結合により結合したグルコシル−α−シクロ
デキストリンやマルトシル−β−シクロデキスト
リン、グルコシル−γ−シクロデキストリン、マ
ルトシル−γ−シクロデキストリンなども含まれ
る。更にエピクロルヒドリンやメタクリルアミド
などで架接した不溶性、あるいは加溶性のα−お
よびβ−、γ−ポリシクロデキストリン類も用い
られる。

本発明で使用するシクロデキストリン及びその
誘導体は、種々の化合物と包接化合物を作り、該
化合物を安定化させたり、溶解性を変えたりする
ことは知られている。包接するには種々のやり方
があるが、たとえば混練法と溶液法とがある。

混練法ではシクロデキストリン類に水または不
活性溶媒を、シクロデキストリン類に対して約
0.1〜６重量倍加えてペースト状にする。次に包
接させるスルフイド類を加えて充分に混練する。
混練する時間は約１〜12時間、好ましくは２〜８
時間であり、混練する温度は任意でよいが室温で
充分である。シクロデキストリン誘導体の種類に
よつては室温より高い方が好ましい場合もある。
混練する装置はらい漬機、ボールミル、デイスパ
ーミル、乳化機などで充分である。一方溶液法で
は、シクロデキストリン類の水または不活性溶媒
の飽和溶液を作り、これにスルフイド類を加えて
30分〜12時間、好ましくは１〜４時間撹拌して、
包接化合物を沈澱として得る。

得られた包接化合物はそのまま使用できるが、
必要なら種々の方法で乾燥しても良い。それには
スプレードライ方式や真空乾燥方式がある。得ら
れた粉末はスルフイド類それぞれの固有の臭気は
消失しているが、それを温湯に投入したり、ジエ
チルエーテルなどで処理すると再び包接された前
の臭気がするし、包接化合物を溶解する溶媒に溶
解してＨ核磁気共鳴を測定すると、包接された化
合物由来のシグナルが観測されることから、粉末
にスルフイド類が包接されていることは明らかで
ある。

本発明に用いられる酸化剤はスルフイド類の酸
化剤として公知のものならすべて単独あるいは２
種以上組み合わせて使用できる。しかし原料スル
フイド類によつてはその置換基が酸化剤によつて
変化する場合もあるので、適宜必要に応じて選択
すべきである。それら公知の酸化剤とその特質
は、日本化学学会編、新実験化学講座14第６章及
び第８章（昭和53年２月、丸善）に詳しい。たと
えば過酸化水素、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、次
亜塩素酸ナトリウム、N₂O₄、臭素、クロム酸、
二酸化マンガン、オゾン、二酸化セレン、ヨウ素
などの無機系酸化剤；ヨードシルベンゼン、テト
ラｔ−ブチルアンモニウムヨーダイド、次亜塩素
酸ｔ−ブチル、塩化スルフリルを含水シリカゲル
など有機無機系酸化剤；過蟻酸、過酢酸、過パル
ミチン酸、トリクロロ過酢酸、過修酸などのハロ
ゲン又はニトロ基などを置換したまたは置換しな
い脂肪族過酸及びそのNa、Ｋなどとの塩類；過
安息香酸や３−クロロ過安息香酸、４−ブロモ過
ケイ皮酸、モノ過フタル酸、α−及びβ−過ナフ
トール酸、２−ニトロ−３−メチル−安息香酸な
どのハロゲン、ニトロ、アルキル基などを置換し
たまたは置換しない芳香族過酸及びそのエステル
類などである。

得られたスルフイド類のシクロデキストリン包
接化合物を光を遮断して種々の有機溶媒もしくは
水あるいはそれらの混合溶媒に分散させた後、酸
化剤を加え、−60℃〜90℃、好ましくは−20℃〜
50℃で30〜300時間、好ましくは２〜150時間反応
させる。反応温度と時間は、包接化合物の安定性
や、包接されているスルフイド類の反応性、酸化
剤の反応性及び生成するスルホキシド類の安定性
の差異によつて適当に選択すべきである。反応後
残存している未反応酸化剤を適宜除去した後、ジ
エチルエーテルなど適当な溶剤で抽出して、包接
体から目的とする光学活性なスルホキシド類を得
る。

尚、本発明の水溶液には、スルフイド類に対す
る酸化剤の反応性を低下させず、且つ生成したス
ルホキシド類の安定性を妨げない無機塩類を単独
あるいは２種以上組み合わせて添加することがで
きる。これら無機塩類としてはLi、Na、Ｋ、
Rb、Csなどのアルカリ金属や、Be、Mg、Ca、
Sr、Baなどのアルカリ土金属の金属群と、Ｆ、
Cl、Br、Ｉなどのハロゲンや酢酸、モノクロル
酢酸、トルエンスルホン酸、酒石酸、コハク酸、
フタル酸などの有機酸、NO₂、NO₃やSO₃、
SO₄、HSO₄、N₃、OCN、SCN、HSO₃、CN、
CO₃、HCO₃、CrO₄、HPO₄、SiO₃、S₂O₃、ClO₃
などの各イオンの群からの組み合わせより成る塩
などである。

また本発明のスルフイド類のシクロデキストリ
ン類包接複合体粉末を分散させるのに用いられる
溶剤は、当該包接複合体粉末を溶解せず、安定に
分散せしめ、かつスルフイド類の酸化を妨げない
ものであればすべて単独あるいは２種以上組み合
わせて使用できる。たとえばメタノール、エタノ
ールなどのアルコール類；ｎ−ヘキサンやシクロ
ヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素類；四塩化炭
素、テトラクロルエチレンやトリフルオロエチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；キシレンやモノ
クロルベンゼン、ニトロベンゼンなどの芳香族炭
化水素類及びその誘導体；ピリジンやキノリン、
ジメチルアニリンなどのアミン類；ジグライムや
アニソールなどのエーテル類；酢酸エステルなど
のエステル類などである。これらはしかし該包接
複合体の種類や酸化剤、反応温度などによつて適
宜必要に応じて選択すべきである。

本発明の効果本発明の方法によると、種々の生理活性物質や
医薬品の原料もしくは合成中間体として重要な光
学活性スルホキシド類を容易に高純度で得ること
ができる。本方法は従来の光学活性触媒に較べて
安価で毒性がなく、かつ安定でくり返し使用する
事ができる環状オリゴ糖を用いるばかりでなく、
生成物の光学純度が高いことが特徴である。従つ
て生成物の精製が容易であり、触媒由来の毒性問
題もないことなど光学活性スルホキシド類の製造
コストを従来より大幅に低下することができる。

実施例次に実施例により本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明はこれらの例によつてなんら限定さ
れるものではない。

実施例１ β−シクロデキストリン240ｇを水２に入れ、
撹拌しつつ70℃に加熱して得られた溶液にｎ−ブ
チルフエニルスルフイド35ｇを加え60℃１時間、
50℃で２時間加熱撹拌した後、室温まで放冷し、
生じた沈澱を濾過し包接化合物を得た。このもの
は粉末法によるＸ線回析パターンの変化、及び重
水素化ジメチルスルホキシドにこの粉末を溶解し
て測定したＨ−NMRスペクトルより１：１の包
接複合体であることが確認された。

光をたつて、この包接複合体粉末を０℃で１
の水に分散させ、40％過酢酸45ｇを加え20時間撹
拌反応させた。次いでチオ硫酸ナトリウム水溶液
を加えた後、塩化メチレンとジエチルエーテルで
原料スルフイド及び生成物を抽出した。分離した
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮
後、シリカゲルカラムに塩化メチレンで分離精製
した。収率96％、エタノール中濃度2.5ｇ／100ml
で測定した旋光度は〔α〕_D ²⁵＝＋92.2であり光学
純度52％の（Ｒ）−ｎ−ブチルフエニルスルホキ
シドと確認された。元素分析値（C₁₀H₁₄SOとし
て）：計算値Ｃ＝65.89、Ｈ＝7.74、Ｓ＝17.58、Ｏ＝8.78％分析値Ｃ＝66.03、Ｈ＝7.66、Ｓ＝17.65％実施例２実施例１と同様にして得たｉ−ブチルフエニル
スルフイドのβ−シクロデキストリン包接複合体
粉末を四塩化炭素とｎ−ペンタンとの容量比90：
10の混合溶媒に分散させた後、過酢酸の四塩化炭
素溶液を−20℃で滴下し、120時間撹拌した。次
いでチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、一旦均一
溶液とした後、塩化メチレンとジエチルエーテル
で抽出した。その後は実施例１と同様に処理して
目的とするｉ−ブチルフエニルスルホキシドを収
率60％で得た。尚38％の未反応原料スルフイドを
回収した。エタノール中濃度0.5ｇ／100mlで測定
した生成スルホキシドの〔α〕_D ²⁵は＋149.9で光学
純度64％の（Ｒ）体であつた。元素分析
（C₁₀H₁₄SOとして）：計算値Ｃ＝65.89、Ｈ＝7.74、Ｓ＝17.58、Ｏ＝8.78％分析値Ｃ＝65.78、Ｈ＝7.80、Ｓ＝17.52％実施例３ α−シクロデキストリン200ｇを水１に入れ
60℃に加熱撹拌した均一溶液にメチルフエニルス
ルフイド12ｇを加え、約１時間更に加熱撹拌して
均一とした後、10℃まで放冷し、生じた沈澱を濾
過して白色粉末を得た。この粉末は実施例１と同
様にしてモル比１：0.5の包接複合体である事が
確かめられた。この包接複合体粉末を四塩化炭素
に分散させた後、−15℃で過硫酸とｔ−ブチルペ
ルオキシドとを加え30時間撹拌反応させた。その
後は実施例２と同様に処理して目的とするメチル
フエニルスルホキシドを収率82％で得た。エタノ
ール中濃度1.2ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は−
36.3で光学純度24％の（Ｓ）体と確認された。元
素分析（C₇H₈SOとして）：計算値Ｃ＝59.99、Ｈ＝5.75、Ｓ＝22.83、Ｏ＝11.42％分析値Ｃ＝59.73、Ｈ＝5.70、Ｓ＝22.96％実施例４ γ−シクロデキストリンを用い実施例１あるい
は２と同様の操作で得たｉ−ブチル１−ナフチル
スルフイドのγ−シクロデキストリン包接複合体
（モル比１：１）粉末を10％食塩水に分散させた
後、０℃でテトラ−ｔ−ブチルアンモニウムヨー
ダイドを加え５時間更に過酢酸を加え15時間撹拌
した。その後は実施例１と同様に処理して目的と
するｉ−ブチル−１−ナフチルスルホキシドを収
率60％で得た。尚35％の未反応スルフイドを回収
した。スルホキシドのクロロホルム中濃度1.0
ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は−259.5であり、
ダイセル製カイラルOBカラムで分析した光学純
は67％であつた。元素分析（C₁₄H₁₆SOとして）：計算値Ｃ＝72.39、Ｈ＝6.94、Ｓ＝13.78、Ｏ＝6.89％分析値Ｃ＝72.47、Ｈ＝6.89、Ｓ＝13.90％実施例５不溶性のβ−シクロデキストリン重合体に80℃
の温水を加え十分膨潤させた後、メチル−１−ナ
フチルスルフイドを加え80℃に加温しつつ３時間
混練した。放冷後水を遠心分離して得られた粉末
は、KBrペレツトを用いた赤外線吸収スペクト
ルの変化や、実施例１と同様の分析よりモル比
１：１の包接複合体であることが確認された。次
いでこの包接体粉末を水に分散させた後、３−ク
ロロ過安息香酸と過酢酸とを加え０〜５℃で50時
間撹拌反応させた。その後チオ硫酸ナトリウム水
溶液を加えた後濾過、濾過物と濾液両者を塩化メ
チレンとジエチルエーテルで十分抽出した有機層
を実施例１と同様に処理して目的とするメチル−
１−ナフチルスルホキシドを収率95％で得た。エ
タノール中濃度1.6ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵
は−353.4で、光学純度90％の（Ｓ）体であつた。
元素分析（C₁₁H₁₀SOとし）：計算値Ｃ＝69.46、Ｈ＝5.30、Ｓ＝16.83、Ｏ＝8.41％分析値Ｃ＝69.31、Ｈ＝5.44、Ｓ＝16.67％実施例６２、３、６−Ｏ−トリメチル−β−シクロデキ
ストリン300ｇに水100mlを加え室温でペースト状
とし、プロピル−２−メチルフエニルスルフイド
30ｇを加え４時間混練した後、60〜70℃に加温し
て遠心脱水して粉末を得た。実施例５と同様にし
て、この粉末はモル比１：１の包接複合体である
ことを確認した。本包接体粉末を飽和塩化カリウ
ム水溶液に分散させ０℃で30％過酸化水素及び過
酢酸水溶液を加えて30時間撹拌した。その後は実
施例１と同様に処理して目的とするプロピル−２
−メチルフエニルスルホキシドを収率99％で得
た。

ジメチルケトン中濃度2.1ｇ／100mlで測定した
〔α〕_D ²⁵は−142.7であり、実施例４と同様なキラ
ルカラムで分析した光学純度は61％であつた。

計算値Ｃ＝65.89、Ｈ＝7.74、Ｓ＝17.58、Ｏ＝8.78％分析値Ｃ＝65.63、Ｈ＝7.79、Ｓ＝17.70％実施例７ポリγ−シクロデキストリンを用い実施例５と
同様にして得たメチル−９−フエナンチルスルフ
イドのポリγ−シクロデキストリ包接複合体（モ
ル比１：１）粉末を水に分散させた後、過修酸と
過酢酸を加え０℃で25時間撹拌反応させた。その
後は実施例１と同様に処理して目的とするメチル
−９−フエナンチルスルホキシドを収率93％で得
た。クロロホルム中濃度2.1ｇ／100mlで測定した
〔α〕_D ²⁵は＋129.6であり、ダイセル製カイラルOB
カラムで分析した光学純度は48％であつた。元素
分析（C₁₅H₁₂SOとして）：計算値Ｃ＝74.99、Ｈ＝5.03、Ｓ＝13.32、Ｏ＝6.66％分析値Ｃ＝75.18、Ｈ＝5.06、Ｓ＝13.20％実施例８実施例１と同様にして得られたメチル−２−ナ
フチルスルフイドのβ−シクロデキストリン包接
複合体粉末を臭化ナトリウム水溶液に分散させた
後、次亜塩素酸ｔ−ブチルと過酢酸とを加え−２
〜０℃で45時間撹拌反応させた。その後は実施例
１と同様に処理して目的とするメチル−２−ナフ
チルスルホキシドを収率90％で得た。クロロホル
ム中濃度1.8ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は＋
66.4であり、光学純度47％の（Ｒ）体であつた。

実施例９不溶性のポリ（α−シクロデキストリン）を用
い、実施例５と同様な操作で得たｉ−プロピルメ
チルスルフイドのポリ（α−シクロデキストリ
ン）包接複合体粉末を水に分散させた後、過酸化
水素、次いで過酢酸と混合し０℃で30時間撹拌反
応させた。その後は実施例１と同様に処理して目
的とするｉ−プロピルメチルスルフイドを収率97
％で得た。エタノール中濃度1.1ｇ／100mlで測定
した〔α〕_D ²⁵は−11.7であつた。

元素分析（C₄H₁₀SOとして）：計算値Ｃ＝45.27、Ｈ＝9.50、Ｓ＝30.15、Ｏ＝15.08％分析値Ｃ＝45.38、Ｈ＝9.46、Ｓ＝30.31％実施例 10 水可溶性のポリ（β−シクロデキトリン）を用
い実施例５と同様な操作で得たｎ−ブチル−３−
メチルフエニルスルフイドのポリ（β−シクロデ
キトリン）包接複合体粉末を水に分散させた後、
過酢酸を滴下０℃で20時間撹拌反応させた。その
後は実施例１と同様に処理して目的とするｎ−ブ
チル−３−メチルフエニルスルホキシドを94％の
収率で得た。ジメチルケトン中濃度1.8ｇ／100ml
で測定した〔α〕_D ²⁵は＋83.5であり、別に実施例
４と同様に分析して得た光学純度は50％であつ
た。

元素分析（C₁₁H₁₆SOとしつ）：計算値Ｃ＝67.32、Ｈ＝8.22、Ｓ＝16.31、Ｏ＝8.15％分析値Ｃ＝67.18、Ｈ＝8.26、Ｓ＝16.40％実施例 11 実施例３と同様な操作で得たｎ−プロピルフエ
ニルスルフイドのα−シクロデキストリン複合体
粉末を四塩化炭素に分散させ、−20℃で過酢酸を
滴下、120時間撹拌反応させた。その後は実施例
３と同様に処理して目的とするｎ−プロピルフエ
ニルスルホキシドを収率58％で得た。エタノール
中濃度0.2ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は＋39.2
であり、別に実施例４と同様にして分析した光学
純度は42％であつた。尚40％の未反応原料スルフ
イドを回収した。

元素分析（C₉H₁₂SOとして）：計算値Ｃ＝64.27、Ｈ＝7.19、Ｓ＝19.03、Ｏ＝9.51％分析値Ｃ＝64.43、Ｈ＝7.16、Ｓ＝18.98％実施例 12 実施例４と同様な操作で得たメチル−１−（５
−ニトロナフチル）スルフイドのγ−シクロデキ
ストリン包製複合体粉末を四塩化炭素に分散させ
た後、−10℃で100時間撹拌反応させた。その後は
実施例３と同様に処理して目的とするメチル−１
−（５−ニトロナフチル）スルホキシドを収率87
％で得た、クロロホルム中濃度1.4ｇ／100mlで測
定した〔α〕_D ²⁵は−157であつた。

元素分析（C₁₁H₉NSO₃として）：計算値Ｃ＝56.17、Ｈ＝3.86、Ｎ＝5.96、Ｓ＝13.61、Ｏ＝20.41％分析値Ｃ＝56.03、Ｈ＝3.90、Ｎ＝6.01、Ｓ＝13.48％実施例 13 実施例１と同様にして得たｉ−プロピルベンジ
ルスルフイドのβ−シクロデキストリン包接複合
体粉末を水に分散させ実施例１と同様に処理して
目的とするスルホキシドを収率80％で得た。エタ
ノール中濃度2.1ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は
＋41.1であり、光学純度32％の（Ｓ）体であつ
た。

なお本発明を特徴づけるために以下に比較例を
示す。即ち、J.DrabowiczとM.Mikolajczykらの
公知の方法〔PhosphorousもSulfur、21 245−
248（1984）〕の結果を比較のため比較例１、２と
して示す。

比較例１１ｍモルのｎ−ブチルフエニルスルフイドと１
ｍモルのβ−シクロデキストリンを10mlのピリジ
ンに溶解した後、30％の過酸化水素水20倍モル相
当量を加え156時間撹拌反応させた。ピリジンを
減圧下に除去後、エーテルを加え、β−シクロデ
キストリンを濾別した。エーテル層を濃縮し、残
査をクロロホルムに溶解、溶液を炭酸カルシウム
水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、メルク社製シリカゲル（70〜230メツシユ）
を用いペンタンとヘキサン、クロロホルムとで分
離精製し目的とするスルホキシドを73％で得た。
尚19％の相当するスルホンも副成した。エタノー
ル中濃度5.01ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は−
0.30であり、光学純度0.40％の（Ｓ）体であつ
た。この結果は実施例１と比較して、化学収率、
光学純度共に低く、しかも立体配置が逆であり、
不用のスルホンも副成した。

比較例２４ｍモルのメチルｎ−プロピルスルフイドに対
して１ｍモルのβ−シクロデキストリンと10ｍモ
ル相当の30％過酸化水素水とを用い、12時間比較
例１と同様に処理して50％の収率で目的とするメ
チルｎ−プロピルスルホキシドを得た。エタノー
ル中濃度2.50ｇ／100mlで測定した〔α〕_D ²⁵は−
1.20であり、光学純度0.9％の（Ｒ）体であつた。
原料スルフイドが異なるので完全な比較はできな
いが、実施例９と比較して、少くも化学収率は低
く、光学純度も低いと考えられる。

比較例３別途得たｎ−ブチルフエニルスルホキシドをク
レーマーらの方法〔F.Cramer、W.Dietsch：
Chem、Ber.、92 378（1958）〕でβ−シクロデ
キストリンを用いて光学分割した。この際のβ−
シクロデキストリン包接複合体からの回収スルホ
キシドのエタノール中の〔α〕_D ²⁵は−1.6
〔Drabowicz、Mikolajczykらの報告では−1.5〕
と実施例１と比較して、符号も逆で高学純度も
0.9％と小さい。したがつて実施例１の結果は光
学分割によるものではないことは明白である。

以上、本発明は比較例３に示したような、ラセ
ミ体の光学分割によるものではない事は明白であ
るし、比較例１、２に示したように公知の均一溶
液反応による方法では達せられなかつた光学純度
の高い光学活性スルホキシドを高収率で与えるも
のである。又使用したシクロデキストリン類は濾
過回収で再利用できる省資源、省エネルギープロ
セスを提供するものである。

Claims

【特許請求の範囲】

１シクロデキストリンとの包接を妨げず、かつ
酸化反応を妨げない任意の有機残基を有するスル
フイド類で、その酸化物が不斉スルホキシド類と
なり得るスルフイド類をシクロデキストリン類に
包接させた後、酸化剤に分散接触させることを特
徴とする光学活性なスルホキシド類の製造方法。