JPH0447676B2 - - Google Patents

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JPH0447676B2
JPH0447676B2 JP16373483A JP16373483A JPH0447676B2 JP H0447676 B2 JPH0447676 B2 JP H0447676B2 JP 16373483 A JP16373483 A JP 16373483A JP 16373483 A JP16373483 A JP 16373483A JP H0447676 B2 JPH0447676 B2 JP H0447676B2
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sorbitol
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tris
butyl
hydroxy
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JP16373483A
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JPS6054391A (ja
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Juko Takahashi
Takeo Fujii
Masahisa Shiotani
Shinichi Yago
Tamaki Ishii
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式() (式中、Rは水素原子またはC1〜C3のアルキル
基を示す。) で示されるピペリジン誘導体、その製造法および
これを有効成分とする合成樹脂安定剤に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ABS樹脂等の合成樹脂は光
により劣化し、軟化、脆化または変色などの現象
を伴つてその物性が著しく低下することはよく知
られている。 このような光による劣化を防止する目的で、従
来より各種の光安定剤、例えば2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフエノン、2−(2−
ヒドロキシ−5−メチルフエニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフエニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジペ
ンチルフエニル)ベンゾトリアゾール、エチル−
2−シアノ−3,3−ジフエニルアクリレート、
2,4−ジ−t−ブチルフエニル−3,5−ジt
−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、〔2,
2′−チオビス(4−t−オクチルフエノラト)〕−
n−ブチルアミン、ニツケル()、ビス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホ
スホリツクアシド)モノエチルエステルのNi塩、
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)セバケートなどを使用することが知られ
ているが、これらの光安定剤は耐光性の点でまだ
充分満足すべきものではない。 本発明者らはこれらの点に解決を与えるべく
種々検討の結果、前記一般式()で示されるピ
ペリジン誘導体が、合成樹脂に対する光による劣
化の防止の非常のすぐれた効果を有することを見
出し、本発明に至つた。 本発明の前記一般式()で示されるピペリジ
ン誘導体は本発明者らによつて初めて合成された
新規の物質であり、一般式() (式中、Rは前記と同じ意味を有する。) で示されるトリアセトンアミン誘導体もしくはそ
の塩と式() で示されるソルビトールを反応させることにより
製造することができる。 ここで、トリアセトンアミン誘導体の塩として
は、塩酸、リン酸、硫酸などの鉱酸、酢酸、シユ
ウ酸などのカルボン酸、パラトルエンスルホン酸
などのスルホン酸による塩が例示される。 また、C1〜C3のアルキル基としてはメチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基など
である。 この反応は酸性触媒あるいは脱水剤の存在下、
溶媒中または無溶媒で行われる。 溶媒を用いる場合、溶媒としてはヘキサン、ヘ
プタンのような脂肪族炭化水素、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサン等の脂環式炭化水素、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、スルホラン等の水溶性極性溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロピルア
ルコール、ブタノール、t−ブタノール、n−ア
ミルアルコール、イソアミルアルコール、2−エ
チルヘキシルアルコール、シクロヘキサノールな
どのアルコール類、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル等
のグチコールエーテル類などが例示され、これら
は単独あるいは2種以上を組合わせて使用され
る。 酸性触媒としては塩酸、硫酸、リン酸、ポリリ
ン酸、臭化水素酸、パラトルエンスルホン酸、塩
化亜鉛、三弗化硼素、カチオン交換樹脂、塩化ア
ルミニウムのポリマー錯体、酸化セレンおよび塩
化アンモニウム等が例示され、脱水剤としては塩
化カルシウムが例示される。 かかるトリアセトンアミン誘導体もしくはその
塩とソルビトールとの反応において、トリアセト
ンアミン誘導体もしくはその塩はソルビトール1
モルあたり通常2〜5モル、好ましくは2.5〜4
モル使用される。また、酸性触媒あるいは脱水剤
はソルビトール1モルあたり0.01〜6モル、好ま
しくは0.1〜4モル使用される。反応温度は10〜
300℃、好ましくは60〜200℃である。反応終了、
反応混合物から目的物を単離するには、たとえば
反応混合物をアルカリ性とし、有機層から溶媒を
除去し、必要により適当な溶媒で再結晶処理する
等の方法により行うことができる。 かくして得られる本発明のピペリジン誘導体と
しては1,3:2,4:5,6−トリス−O−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニリデン)ソルビトール、1,3:2,4:5,
6−トリス−O−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジニリデン)ソルビトール、
1,3:2,4:5,6:−トリス−O−(2,
2,6,6−テトラメチル−1−プロピル−4−
ピペリジニリデン)ソルビトール等が例示され
る。 本発明のピペリジン誘導体を合成樹脂用安定剤
として使用する場合、合成樹脂への配合量は合成
樹脂100重量部に対して通常0.01〜5重量部、好
ましくは0.05〜2重量部であり、その配合方法と
しては、合成樹脂中に安定剤、顔料、充填剤等を
混和配合するための公知の装置および操作法が殆
んどそのまま適用できる。 本発明の合成樹脂用安定剤を使用するにあたつ
ては他の添加剤、たとえば酸化防止剤、光安定
剤、金属不活性剤、金属石ケン類、造核剤、滑
剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料および充填剤など
を併用してもよい。 とりわけフエノール系酸化防止剤を併用するこ
とによつて熱および酸化安定性を改善することが
できる。これらのフエノール系酸化防止剤として
は、たとえば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフエノール、n−オクタデシル−β−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プ
ロピオネート、1,1,3−トリス(2−メ−チ
ル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニル)
ブタン、1,3,5−トリメチル2,4,6−ト
リス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート、1,3,5−トリス〔β−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエ
ニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレ
ート、1,3,5−トリス(2,6−ジ−メチル
−3−ヒドロキシ−4−t−ブチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ペンタテリスリトール−テトラ
キス〔β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロピオネート〕などがあげら
れる。 また、ホスフアイト系酸化防止剤を併用するこ
とによつて、その色相を改善することができる。 これらのホスフアイト系酸化防止剤としては、
たとえばトリス(ノニルフエニル)ホスフアイ
ト、ジステアリルペンタエチスリトールジホスフ
アイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフエニ
ル)ホスフアイト、トリス(2−t−ブチル−4
−メチルフエニル)ホスフアイト、ビス(2,4
−ジ−t−ブチルフエニル)ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、テトラキス、(2,4−ジ−
t−ブチルフエニル)−4,4′−ビフエニレンホ
スフオナイトなどがあげられる。 また、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミ
リスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチ
オジプロピオネート、ペンタエリスリトールテト
ラキス(β−ラウリルチオプロピオネート)、ペ
ンタエリスリトール−テトラキス(β−ヘキシル
チオプロピオネート)などのイオウ系酸化防止剤
を併用することもできる。 本発明の合成樹脂用安定剤により安定化され合
成樹脂としては、低密度ポリエチレン、高密度ポ
リエチレン、リニヤー低密度ポリエチレン、塩素
化ポリエチレン、EVA樹脂、ポリプロピレン、
ポリ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポリスチレ
ン、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AES樹
脂、MBS樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポ
リウレタン、不飽和ポリエステル樹脂などがあげ
られる。 次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれにより限定されるものではな
い。 実施例 1 温度計、撹拌装置およびデイーンスタークトラ
ツプを備えた四口フラスコにトリアセトンアミン
塩酸塩100g(0.52モル)、ソルビトール20.94g
(0.12モル)、トルエン300gおよびパラトルエン
スルホン酸−水和物100.8gを仕込み、撹拌しな
がら昇温し、110〜120℃で3時間反応させる。 この間、デイーンスタークトラツプにより水を
反応系から除去する。 反応終了後、水酸化ナトリウム水溶液を反応液
に加え、生成物をトルエンに可溶化させる。生成
物の溶解したトルエン層は分離後、水洗、乾燥し
次いでトルエンを留去することにより黄褐色ガラ
ス状の1,3:2,4:5,6−トリス−O−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニリデン)ソルビトール51.89gが得られる。(収
率73%対ソルビトール) この黄褐色ガラス状物にヘキサンおよび水を加
えて再結晶することにより白色結晶25.92gが得
られた。(融点43〜46℃) FD−質量分析 親イオンピーク593を確認1 H−NMR(CDCl3,D2O) δ 1.22(36H,s) δ 1.55(12H,m) δ 4.05(8H,m)13 C−NMR δ31.106(オフレゾナンス時、q)、31.261(q)、
31.839(q)、32.058(q)、32.220(q)、32.315
(q)、32.279(q)、32.681(q)、32.900(q)、
44.756(t)、45.342(t)、45.968(t)、46.388
(t)、46.614(t)、46.921(t)、51.342(s)、
65.309(t)、67.386(t)、74.666(d)、76.656
(d)、77.717(d)、79.238(d)、110.031(s)

110.273(s)、110.477(s) 実施例 2 実施例1で用いたと同様のフラスコにトリアセ
トンアミン94.1g(0.6モル)、ソルビトール36.4
g(0.2モル)、キシレン500gおよびパラトルエ
ンスルホン酸−水和物149.5gを仕込み、135〜
140℃で4時間反応させる。 反応終了後、実施例1と同様に後処理、精製す
ることにより黄褐色ガラス状の1,3:2,4:
5,6−トリス−O−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニリデン)ソルビトール
73.2gを得た。(収率62%対ソルビトール) また、このものをヘキサンと水で再結晶するこ
とによる白色結晶61.7g(収率52%対ソルビトー
ル)が得られら。 この結晶は融点、元素分析および1H−NMRに
よつて実施例1で得たのと同じ化合物であること
を確認した。 実施例 3 実施例1で用いたと同様のフラスコに1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリドン
102.4g(0.6モル)、ソルビトール36.4g(0.2モ
ル)、キシレン500gおよびパラトルエンスルホン
酸−水和物123.6gを仕込み、以下、実施例2と
同様に反応させ、後処理して淡黄色粘稠液体とし
て87.8gの1,3:2,4:5,6−トリス−O
−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジニリデン)ソルビトールを得た。 (収率69%対ソルビトール) FD−質量分析 親イオンピーク635を確認した。1 H−NMR(CDCl3,60MHz) δ 1.15(36H,s) δ 1.54(12H,m) δ 2.24(9H,s) δ 4.04(8H,m) 実施例 4 下記配合物をミキサーで5分間混和した後、
180℃ミキシングロールで溶融混練して得たコン
パウンドを、210℃の熱プレスで厚さ1mmのシー
トに成形し、150×30×1mmの試験片を作成した。 この試験片をサンシヤインウエザーメーター
(光源:カーボンアーク、ブラツクパネル温度:
83±3℃、スプレー周期:120分、スプレー時
間:18分)中で光照射させ、60時間毎にエビ状に
折り曲げ、折れ切れるまでの時間を測定し、耐候
性を評価した。 その結果を表−1に示す。 <配合> 未安定化ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 〃 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノー
ル 0.05 〃 供試化合物 0.2 〃 なお、表においてUVA−1〜8および−1
〜2は以下の化合物を示すものである。 UVA−1 2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフエノン UVA−2 2−ヒドロキシ−4−n−オクトキ
シベンゾフエノン UVA−3 2(2−ヒドロキシ−5−メチルフエ
ニル)ベンゾトリアゾール UVA−4 2(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフエニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール UVA−5 2(2−ヒドロキシ−3,5−ジペン
チルフエニル)ベンゾトリアゾール UVA−6 エチル−2−シアノ−3,3−ジフ
エニルアクリレート UVA−7 ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルホスホリツクアシツド)
モノエチルエステルのNi塩 UVA−8 ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)セバケート −1 1,3:2,4:5,6−トリス−O−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジニリデン)ソルビトール −2 1,3:2,4:5,6−トリス−O−
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジニリデン)ソルビトール
【表】 実施例 5 25%ウレタンドープ(25部のポリウレタン樹
脂、3.75部のジメチルホルムアミドおよび71.25
部のテトラヒドロフラン)に表−2に示す供試化
合物を上記ポリウレタン樹脂に対して1%添加し
た後、ポリエステルフイルム上に1.2mm厚にコー
テイングし、45℃の乾燥器中で1時間乾燥した。
こうして得られたシートを3号ダンベルで打抜
き、フエードメーター(光源:紫外線カーボンア
ーク、ブラツクパネル温度:63±3℃)で60時間
および120時間光照射後、引張り試験(引張り速
度:200mm/mm、測定温度:25℃を行ない、破断
強度保持率を求めた。 その結果を表−2に示す。
【表】 実施例 6 下記配合物を150℃ミキシングロールで溶融混
練したのち160℃の熱プレス厚さ0.5mmのシートを
作成した。 このシートをサンシヤインウエザーメーター
(光源:カーボンアーク、ブラツクパネル温度:
68±3℃、スプレー周期:120分、スプレー時
間:18分)中で1200時間照射し、変色の度合を観
察した。 その結果を表−3に示す。 <配合> ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 38 〃 エポキシ化大豆油 2 〃 Ba−ステアレート 1 〃 Zn−ステアレート 0.3 〃 供試化合物 0.2 〃
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、Rは水素原子またはC1〜C3のアルキル
    基を示す。) で示されるピペリジン誘導体。 2 一般式 (式中、Rは水素原子またはC1〜C3のアルキル
    基を示す。) で示されるトリアセトンアミン誘導体もしくはそ
    の塩とソルビトールを反応させることを特徴とす
    る一般式 (式中、Rは前記と同じ意味を有する。) で示されるピペリジン誘導体の製造法。 3 一般式 (式中、Rは水素原子またはC1〜C3のアルキル
    基を示す。) で示されるピペリジン誘導体を有効成分とする合
    成樹脂用安定剤。
JP58163734A 1983-09-05 1983-09-05 ピペリジン誘導体、その製造法およびこれを有効成分とする合成樹脂用安定剤 Granted JPS6054391A (ja)

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JP58163734A JPS6054391A (ja) 1983-09-05 1983-09-05 ピペリジン誘導体、その製造法およびこれを有効成分とする合成樹脂用安定剤
CA000461765A CA1267900A (en) 1983-09-05 1984-08-24 Piperidine derivatives, their production and stabilized polymer compositions containing same
US06/644,680 US4578410A (en) 1983-09-05 1984-08-27 Piperidine derivatives, their production and stabilized polymer compositions containing same
EP84306002A EP0141502B1 (en) 1983-09-05 1984-08-31 Piperidine derivatives, their production, and polymers photostabilized thereby
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