JPS6235811B2 - - Google Patents
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- JPS6235811B2 JPS6235811B2 JP58165149A JP16514983A JPS6235811B2 JP S6235811 B2 JPS6235811 B2 JP S6235811B2 JP 58165149 A JP58165149 A JP 58165149A JP 16514983 A JP16514983 A JP 16514983A JP S6235811 B2 JPS6235811 B2 JP S6235811B2
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- supported
- ultraviolet rays
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
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- B08B7/0057—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線による洗浄方法に関するもので
ある。
ある。
紫外線ランプより発生するオゾンを利用して汚
染物を分解洗浄することが行われているが、この
紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプを点灯する
と、主として波長が254nmの水銀共鳴線の紫外線
が外部に放出され、従として185nmの紫外線が、
更には他の波長のものがわずかに放出される。そ
して、波長185nmの紫外線によつてオゾンが生成
し、次にこのオゾンが波長254nmにより分解され
て発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有
機汚染物を分解してガス状態で飛散させることが
知られている。
染物を分解洗浄することが行われているが、この
紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプを点灯する
と、主として波長が254nmの水銀共鳴線の紫外線
が外部に放出され、従として185nmの紫外線が、
更には他の波長のものがわずかに放出される。そ
して、波長185nmの紫外線によつてオゾンが生成
し、次にこのオゾンが波長254nmにより分解され
て発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有
機汚染物を分解してガス状態で飛散させることが
知られている。
この紫外線洗浄方法は各種の被洗浄体に適用さ
れるが、その一つに水晶振動子がある。水晶振動
子はその共鳴周波数を利用して時間の基準を定め
るものであり、いろいろな商品に利用されている
が、水晶振動子の表面が汚染されると共鳴周波数
に狂いが生じる。従つてその表面は清浄でなけれ
ばならないが、紫外線で洗浄することにより高い
清浄度が得られ、また、後工程で蒸着される金属
膜の密着性を向上させることができる。
れるが、その一つに水晶振動子がある。水晶振動
子はその共鳴周波数を利用して時間の基準を定め
るものであり、いろいろな商品に利用されている
が、水晶振動子の表面が汚染されると共鳴周波数
に狂いが生じる。従つてその表面は清浄でなけれ
ばならないが、紫外線で洗浄することにより高い
清浄度が得られ、また、後工程で蒸着される金属
膜の密着性を向上させることができる。
ところで従来は、被洗浄体は金網やステンレ
ス、アルミナなど紫外線を透過しない材質からな
る支持具で支持されていた。この様な支持具で支
持されていても、紫外線ランプの照射室の上面に
設置されて、被洗浄体の上面のみを洗浄する場合
はとくに支障はない。しかし、被洗浄体の両面を
洗浄する必要があるときは、紫外線ランプが照射
室の上面にのみ設置されていると、一面を洗浄し
た後に反転して他面を洗浄しなければならず、操
作が煩雑で、洗浄時間が長くなり、また反転操作
の最中に洗浄の終つた一面が他面の汚染物などの
ために再び汚染されるなどの問題点がある。従つ
て、紫外線ランプを照射室の上下両面や左右両側
面に設置して被洗浄体の両面を同時に照射するこ
とが考えられるが、この場合に支持具が前述の通
りの紫外線を透過しない材質からなると、支持具
をどの様な形状にしても、被洗浄体のある部分は
支持具によつて遮ぎられて紫外線が完全には照射
されず、その部分の洗浄が不完全となる不具合が
あつた。
ス、アルミナなど紫外線を透過しない材質からな
る支持具で支持されていた。この様な支持具で支
持されていても、紫外線ランプの照射室の上面に
設置されて、被洗浄体の上面のみを洗浄する場合
はとくに支障はない。しかし、被洗浄体の両面を
洗浄する必要があるときは、紫外線ランプが照射
室の上面にのみ設置されていると、一面を洗浄し
た後に反転して他面を洗浄しなければならず、操
作が煩雑で、洗浄時間が長くなり、また反転操作
の最中に洗浄の終つた一面が他面の汚染物などの
ために再び汚染されるなどの問題点がある。従つ
て、紫外線ランプを照射室の上下両面や左右両側
面に設置して被洗浄体の両面を同時に照射するこ
とが考えられるが、この場合に支持具が前述の通
りの紫外線を透過しない材質からなると、支持具
をどの様な形状にしても、被洗浄体のある部分は
支持具によつて遮ぎられて紫外線が完全には照射
されず、その部分の洗浄が不完全となる不具合が
あつた。
そこで本発明は、被洗浄体の両面を確実に洗浄
できる紫外線洗浄方法を提供することを目的と
し、その構成は、紫外線ランプの光でオゾンを発
生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚
染物などを分解して洗浄する紫外線洗浄方法であ
つて紫外線透過性物質よりなる支持具に支持され
た被洗浄体に紫外線を照射する工程を含むことを
特徴とする。
できる紫外線洗浄方法を提供することを目的と
し、その構成は、紫外線ランプの光でオゾンを発
生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚
染物などを分解して洗浄する紫外線洗浄方法であ
つて紫外線透過性物質よりなる支持具に支持され
た被洗浄体に紫外線を照射する工程を含むことを
特徴とする。
以下に図面に基いて本発明の一実施例を具体的
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の実施例に使用される装置の断
面図を示すが、装置箱１には照射箱２が内蔵され
て二重構造をなし、発生したオゾンが外部に漏洩
しないようになつている。照射箱２の内部が照射
室３であるが、この照射室３の上方と下方にはそ
れぞれ紫外線ランプ４としてＵ字状の350W高出
力低圧水銀灯が２本づつ配設されている。上下の
紫外線ランプ４の背後にはそれぞれミラー５が配
置され、紫外線ランプ４の光は上下両方から照射
室３の中央に向けて照射される。照射箱２の上面
と磁下面には冷却水路６が固着されて冷却されて
いる。被洗浄体７は直径７mm程度の水晶振動子で
あり、支持具８上に多数配列されて照射室３の中
央部に支持されるが、支持具８は石英ガラス製で
あり、第２図に示す様に水晶振動子の大きさに相
応する孔８ａがあけられ、孔周縁の爪８ｂによつ
て水晶振動子が支持される。支持具８の材質は石
英ガラスに限られるものではなく、サフアイヤ、
テフロン、LiF、MgFなどの如く紫外線を透過さ
せる性質を有するものであればよく、形状も図例
に限られるものではなく、単に板状をなすもので
もよい。そして照射箱２の側方には酸素を含むガ
スを照射室３に供給する吸入孔９と、内部のガス
を分解された汚染物とともに排出する排気孔１０
が設けられているが、排出されたガスはオゾン分
解室で処理された後に大気中にに放出される。
面図を示すが、装置箱１には照射箱２が内蔵され
て二重構造をなし、発生したオゾンが外部に漏洩
しないようになつている。照射箱２の内部が照射
室３であるが、この照射室３の上方と下方にはそ
れぞれ紫外線ランプ４としてＵ字状の350W高出
力低圧水銀灯が２本づつ配設されている。上下の
紫外線ランプ４の背後にはそれぞれミラー５が配
置され、紫外線ランプ４の光は上下両方から照射
室３の中央に向けて照射される。照射箱２の上面
と磁下面には冷却水路６が固着されて冷却されて
いる。被洗浄体７は直径７mm程度の水晶振動子で
あり、支持具８上に多数配列されて照射室３の中
央部に支持されるが、支持具８は石英ガラス製で
あり、第２図に示す様に水晶振動子の大きさに相
応する孔８ａがあけられ、孔周縁の爪８ｂによつ
て水晶振動子が支持される。支持具８の材質は石
英ガラスに限られるものではなく、サフアイヤ、
テフロン、LiF、MgFなどの如く紫外線を透過さ
せる性質を有するものであればよく、形状も図例
に限られるものではなく、単に板状をなすもので
もよい。そして照射箱２の側方には酸素を含むガ
スを照射室３に供給する吸入孔９と、内部のガス
を分解された汚染物とともに排出する排気孔１０
が設けられているが、排出されたガスはオゾン分
解室で処理された後に大気中にに放出される。
しかして、紫外線ランプ４を点灯すると水晶振
動子の上下両面に紫外線が照射されるが、照射室
３内に酸素を含むガスが供給されているので、発
生基の酸素が上下両面の近傍で生成され、これに
よつて汚染物は分解されるが、支持具８が紫外線
透過性物質である石英ガラスよりなるため、紫外
線ランプ４よりの光はこれに遮ぎられることな
く、水晶振動子の表面に満遍なく照射される。そ
して、水晶振動子が支持具８によつて支持されて
いる部位は、真空状態で支持具８に密着している
訳ではなく、この支持されている部位と支持具８
との間にも酸素を含むガスが存在するので、これ
が発生基の酸素になつて、水晶振動子が支持具８
によつて支持されている部位も洗浄する。従つ
て、水晶振動子は一様に洗浄されるので清浄度は
向上し、共鳴周波数はより正確となるとともに、
後工程で蒸着される金属膜の密着力も大きくな
る。
動子の上下両面に紫外線が照射されるが、照射室
３内に酸素を含むガスが供給されているので、発
生基の酸素が上下両面の近傍で生成され、これに
よつて汚染物は分解されるが、支持具８が紫外線
透過性物質である石英ガラスよりなるため、紫外
線ランプ４よりの光はこれに遮ぎられることな
く、水晶振動子の表面に満遍なく照射される。そ
して、水晶振動子が支持具８によつて支持されて
いる部位は、真空状態で支持具８に密着している
訳ではなく、この支持されている部位と支持具８
との間にも酸素を含むガスが存在するので、これ
が発生基の酸素になつて、水晶振動子が支持具８
によつて支持されている部位も洗浄する。従つ
て、水晶振動子は一様に洗浄されるので清浄度は
向上し、共鳴周波数はより正確となるとともに、
後工程で蒸着される金属膜の密着力も大きくな
る。
そして、被洗浄体７自体が紫外線透過性の場合
は、第３図〜第６図に示すように、水平ないし傾
斜状態で間隔をあけ、紫外線透過性物質からなる
支持具８で支持してもよく、更には垂直状態に並
べて支持してもよい。これらの場合も紫外線が支
持具８に遮ぎられることなく被洗浄体７に照射さ
れ、一様に洗浄することができる。
は、第３図〜第６図に示すように、水平ないし傾
斜状態で間隔をあけ、紫外線透過性物質からなる
支持具８で支持してもよく、更には垂直状態に並
べて支持してもよい。これらの場合も紫外線が支
持具８に遮ぎられることなく被洗浄体７に照射さ
れ、一様に洗浄することができる。
以上説明した様に、本発明の紫外線洗浄方法は
紫外線透過性物質よりなる支持具に支持された被
洗浄体に紫外線を照射する工程を含むため、支持
具に遮ぎられることなく紫外線が一様に照射され
るので、本発明に従えば、被洗浄体の両面を確実
に洗浄できる紫外線洗浄方法を提供することがで
きる。
紫外線透過性物質よりなる支持具に支持された被
洗浄体に紫外線を照射する工程を含むため、支持
具に遮ぎられることなく紫外線が一様に照射され
るので、本発明に従えば、被洗浄体の両面を確実
に洗浄できる紫外線洗浄方法を提供することがで
きる。
第１図は本発明の実施例に使用される装置の断
面図、第２図は支持具の要部斜視図、第３図は被
洗浄体の支持態様を示す正面図、第４図は同じく
平面図、第５図は他の支持態様を示す正面図、第
６図は同じく平面図である。 １……装置箱、２……照射箱、３……照射室、
４……紫外線ランプ、５……ミラー、６……冷却
水路、７……被洗浄体（水晶振動子）、８……支
持具、９……吸入孔、１０……排気孔。
面図、第２図は支持具の要部斜視図、第３図は被
洗浄体の支持態様を示す正面図、第４図は同じく
平面図、第５図は他の支持態様を示す正面図、第
６図は同じく平面図である。 １……装置箱、２……照射箱、３……照射室、
４……紫外線ランプ、５……ミラー、６……冷却
水路、７……被洗浄体（水晶振動子）、８……支
持具、９……吸入孔、１０……排気孔。
Claims (1)
- １ 紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、この
オゾンの分解により生成される発生基の酸素によ
り被洗浄体の表面に付着する有機汚染物などを分
解して洗浄する紫外線洗浄方法であつて、紫外線
透過性物質よりなる支持具に支持された被洗浄体
に紫外線を照射する工程を含む紫外線洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165149A JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165149A JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6058238A JPS6058238A (ja) | 1985-04-04 |
| JPS6235811B2 true JPS6235811B2 (ja) | 1987-08-04 |
Family
ID=15806808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58165149A Granted JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058238A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109482577A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-03-19 | 烟台和锦电子有限公司 | 一种石英晶体谐振器管壳除油清洗装置及其使用方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202921A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板洗浄装置 |
| JPS63121A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-01-05 | Wakomu:Kk | 蒸気乾燥洗浄装置 |
| TW260806B (ja) * | 1993-11-26 | 1995-10-21 | Ushio Electric Inc | |
| JPH09123206A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-05-13 | Towa Kk | 電子部品の樹脂封止成形装置 |
| US6098637A (en) * | 1998-03-03 | 2000-08-08 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| DE10211611A1 (de) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Zeiss Carl Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Dekontamination optischer Oberflächen |
| CN104259128A (zh) * | 2014-08-01 | 2015-01-07 | 苏州普京真空技术有限公司 | 一种晶振片清洗方法 |
| CN112718692A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-30 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种OLED坩埚部品LiF结晶物的清洗方法 |
-
1983
- 1983-09-09 JP JP58165149A patent/JPS6058238A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109482577A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-03-19 | 烟台和锦电子有限公司 | 一种石英晶体谐振器管壳除油清洗装置及其使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6058238A (ja) | 1985-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |