JPH0448412A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッド、特に磁気記録媒体を磁気コアに対
して慴動させて情報の磁気記録又は再生を行う磁気ヘッ
ドに関するものである。

〔従来の技術〕

従来この種の磁気ヘッドとして、第６図ないし第１１図
に示すものか知られている。第６図は磁気記録媒体であ
る磁気カートに情報の記録を行い、また記録した情報の
再生を行う磁気カートリーダー用の磁気ヘッドを示した
斜視図、第７図は同断面図である。この磁気ヘッドの基
本的な構造は、他の話導型磁気ヘッドと同様である。

図において、１は磁気ヘッドのケース、このケース１内
に磁気コア３を他の磁気ヘッド構成部材とともに嵌合し
である。２は前記情報の記録再生時に、前記磁気カート
を摺動する磁気記録媒体摺動面全面のうちケース１の部
分１ａの磁気記録媒体摺動面を構成する第６図中手前側
の面の中央部に形成された開口部、この開口部２に磁気
ギャップ４を設けた磁気コア３の部分である先端部３ａ
を臨ませて、ケース１に樹脂４を注型することにより、
磁気コア３をケース１内に固定した構造となっていた。

この従来例では、この樹脂か、たとえば、エポキシ樹脂
などの有機系の樹脂である場合について説明する。９は
ボビン、１０は端子である。

このような磁気カードリーダ用の磁気ヘッド（以下「ヘ
ッド」という。）ては、特に磁気記録媒体との摺動より
媒体摺動面１１の摩耗が問題となる。この摩耗を防止す
るために、耐摩耗性の優れたセンタスト等の磁性材を用
いて磁気コア３を形成したもの、第８図および第９図に
示したように、開口部２の端部５の部分にセンダスト。

フェライト、セラミック等の耐摩耗性にすぐれたブロッ
ク６を埋め込んだことにより耐摩耗性としたもの、さら
に、第１０図に示したように、媒体摺動面１１に耐摩耗
性の高い７ｉｉ膜（ＴｉＮ。

ＳｉＣ，ＴｉＣ，ＳｉＮ等）をイオンブレーティング等
の真空薄膜形成技術により成膜したものが用いられてい
た。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記従来例では、次のような難点があっ
た。

磁気コア２にセンダスト、ケース１にパーマロイを使用
したヘッドを用い、（イ）何も対策をしないヘッド、（
ロ）センダストブロックを埋め込んだもの、（ハ）セラ
ミックブロックを埋め込んだもの、（ニ）ＴｉＮを１μ
ｍ成膜したものの４種類のヘッドについて、カート走行
させ、１００万回往復させたときの磁気コア部の摩耗量
のグラフを第１１図に示す。

これらから摩耗量の少ない順に並べると、（ニ）、（ハ
）、（ロ）、（イ）となり、（ニ）のＴｉＮを１μｍ成
膜したベツドか最も耐摩耗性が良好であった。しかしな
がら、（ニ）のヘッドについて、媒体摺動面１１を第１
２図に示した測定方向に、表面からあらさ計を用いて測
定すると、第１５図に示した初期の摺動面に対して第１
３図および第１４図に示したようにケースの部分１ａか
摩耗してしまい、磁気コアの部分３ａは摩耗しにくいと
いう偏摩耗を生し、磁気カートに傷をつけてしまうとい
う難点があることが判った。（ロ）、（ハ）については
、このようなことは少なく、均一に摩耗しているが、摩
耗量か（ニ）よりも多い。耐摩耗性は、下地の硬度にも
影響され、ケースの部分１ａはパーマロイ、磁気コア３
の部分３ａは、センダストのため、その上に厚さ１μｍ
の硬いＴｉＮ膜を付けても、実験のような結果か出てし
まうと思わわる。膜厚をもフと厚く付けたいが、ギャッ
プ４近傍に厚い膜を付けると、スペーシング損失により
、磁気記録再生特性か劣化してしまうという問題があっ
た。

本発明の耐摩耗性磁気ヘッドは、このような問題を解決
するためになされたもので、ケースの磁気記録媒体摺動
面のケースの部分に３〜１０μｍ、磁気コアの部分と樹
脂の部分に１〜３μｍの高硬度薄膜をそれぞれ成膜した
ことにより、磁気ヘッドに耐摩耗性を持たせ、偏摩耗に
よるカードに対する傷の発生することなく、磁気記録、
再生特性の劣化を小さくできる磁気ヘッドを提供するこ
とを目的としている。

そして、高硬度薄膜は、ＴｉＮ、ＴｉＣ。

ＳｉＮ、ＳｉＣ，Ａｆｆｉ２０３及びＳｉＯ２のうち、
いずわか一つの材料からなるものであることか好ましい
。

（：Ｊ　Ｎを解決するための手段〕 このため１本発明の磁気コアは、耐摩耗性の磁性材を用
いた磁気コアを、他の磁気ヘッド構成部材とともに、ケ
ースに嵌合し、ケースの磁気記録媒体摺動面を構成する
面に形成した開口部に、磁気コアの先端部を臨ませ、ケ
ースに樹脂を注型して磁気コアを固定した磁気ヘッドで
あワて、前記ケースの磁気記録媒体摺動面に３〜１０μ
ｍ、開口部の樹脂部分と磁気コアの先端部は１〜３μｍ
の高硬度ｖＩ股をそれぞれ成膜したものである。

−ｔｔ、−Ｃ１上記高硬度ｗＩ膜は、ＴｉＮ、ＴｉＣ。

ＳｉＮ、ＳｉＣ，Ａｌ２Ｏ３及びＳ　ｉ　Ｏ２のうちの
いずれか一つの材料からなることが好ましい。

〔作用〕

上記のように構成された耐摩耗性磁気ヘッドは、磁気記
録媒体摺動面のケースの部分に３〜１０μｍ、磁気コア
の部分と樹脂の部分に１〜３μｍの高硬度薄膜を、それ
ぞれ成膜したことにより、磁気ヘッドの耐摩耗性が良く
、偏摩耗によるカートに対する傷つきを生ぜず、磁気記
録、再生特性の劣化を小さくできるように働く。

そして、上記の理由から、高硬度薄膜は、ＴｉＮ、　Ｔ
ｉＣ，ＳｉＮ、　ＳｉＣ，Ａ１２０３及びＳｉＯ２のう
ち、いずれか一つの材料からなるものであることか効果
的である。

〔実施例〕

以下に、本発明の第１の実施例について図に基づいて説
明する。

第１図は本発明の第１の実施例の耐摩耗の磁気ヘッドを
示す断面図、第２図は同側面図、第３図は同表面あらさ
計を用いた摩耗試験による１００万回往復後のヘッドの
摺動部の形状を示した図、第４図は同初期の摺動部の形
状を示した断面図である。

従来例第６図〜第１５図におけると同一部分または相当
部分は同一符号で示し、説明の重複をさける。

第１の実施例 （ｉ）ケースの部分１ａのみに、イオンブレーティング
により、高硬度ｉ膜であるＴｉＮ膜８を約５μｍ成膜す
る。

（ｉｉ）このケース１の開口部２に、磁気コア３の部分
である先端部３ａを臨ませ、樹脂であるエポキシ樹脂７
により固定する。そののち、円筒研削により摺動面の研
削を行い、ケースの部分１ａに設けたＴｉＮ膜８を、約
４μｍの膜８ｂを残して、摺動面を仕上げる。

（ｉｉｉ）次に、この磁気ヘッドであるヘッドを、イオ
ンブレーティングによりＴｉＮ膜８ａを、磁気コアの先
端部３ａと樹脂の部分７ａとケースの部分１ａとにわた
っている。媒体摺動面１１全面に１μｍ成膜することに
より、第１図に示している構造のヘッドができあがる。

このようにしてできたヘッドを、上述のようにカート走
行試験を行い、１００万回往復走行させ磁気コア部の摩
耗量および媒体摺動面のギャップ４と平行方向の形状を
表面粗さ計により、測定したところ第３図に示したよう
にケースの部分１ａのみが摩耗することによフて偏摩耗
を生しることはなくなり、しかも、第４図に示した初期
の摺動形状と比較してわかるように摩耗がきわめて小さ
いという結果を得た。

また、ケースの部分１ａに成膜する高硬度薄膜８の厚さ
は、３μｍに満たないと、高硬度ではない下地の弱さを
補強てきないため、少なくとも３μｍは必要である。

そして、１０μｍをこえると、全応力が増え、ケースの
部分１ａと膜８の密着が減少し、膜が剥離してしまうた
め、３〜１０μｍの範囲が望ましい。

さらに、ギャップ４の近傍の磁気コアの部分３ａに成膜
する膜厚は、１μｍに満たないと、耐摩耗性の効果かあ
られわず、逆に３μｍをこえると、スペーシング損失に
より、磁気記録再生特性か劣化してしまう。

さらにまた、樹脂７．ボビン、コイル等の、耐熱性に弱
い部品を使用しているため、成膜時間とともに、温度が
上昇してしまい、樹脂７の熱変形によるキャップ段差を
生し、特性が劣化したり、断線等不都合な結果となる。

したがってキャップｇ近傍の磁気コア３の部分には、１
〜３μｍの膜厚で成膜する必要がある。

上記の理由により、表１に示したように、媒体摺動面１
１のケースの部分１ａに３〜１０μｍ、磁気コアの先端
部３ａと樹脂の部分７ａに１〜３μｍのＮｉＴ膜８を成
膜したことか理解され表１　ｐ帥ＴｉＮ膜の厚み 以上に説明したように、本発明の第１の実施例の耐摩耗
性磁気ヘッドによれば、耐摩耗性の磁性体を用いた磁気
コア３を、他の磁気ヘッド構成材料であるボビン９、端
子などの構成部材とともにケース１に嵌合しケース１の
ヘッド摺動面を構成する面に形成した開口部２に、磁気
コアの先端部３ａを臨ませ、エポキシ樹脂７を注入して
磁気コア３を固定してなる磁気ヘッドであって、前記ヘ
ッド摺動面Ｓのケースの部分１ａに３〜１０μｍの高硬
度薄膜であるＴｉＮ膜をそれぞれ成膜したことにより、
ヘッドの耐摩耗性が良く、偏摩耗によるカートに対する
傷つきを発生することなく、磁気記録、再生特性の劣化
を最小（１ｄＢ以下）にする効果を奏する。

第２の実施例 前言６第１の実施例ではヘッドにＴｉＮを成膜した場合
について説明したか、センダクトブロック、セラミック
ブロックを埋め込んだヘッドに、さらにＴｉＮを１μｍ
成膜することも考えられる。（不図示）下地の硬度不足
をブロックを埋め込むことで解決し、さらに高硬度薄膜
を均一に設けたものが得られる。

第３の実施例 第６図に示したように、作られた媒体摺動面１１全面の
うちケース１の媒体摺動面の斜線で示た部分に、イオン
ブレーティングによりＴｉＮを４μｍ成膜する。このと
きのやり方としては、斜線の部分を除く部分にポリイミ
ド樹脂でできた耐熱性のフィルムを貼ってマスキングす
る方法による。

次に、成膜装置から一旦取り出し、先はどのフィルムを
はがし、全面にＴｉＮを１μｍ成膜することにより、第
１の実施例に比べ、摺動面形状か多少凹凸になるが、カ
ード走行には問題はない。

この第３の実施例の方法でできたヘッドは、ケースの部
分１ａではＴｉＮが５４Ｉｍ、コア３部分３ａではＴｉ
Ｎか１μｍ付いた構造となっていることは第１の実施例
によるヘッドと同様である。

第４の実施例 前記高硬度薄膜は、ＴｉＮ、ＴｉＣ，ＳｉＮ。

ＳｉＣ，Ａ１２０３及びＳｉｎ、のうち、いずれか一つ
の材料からなるものであっても良い。

〔発明の効果〕

以上に、説明してきたように、本発明の磁気ヘッドによ
れば、磁気コアを、他の磁気ヘッド構造部材とともに、
ケースに嵌合し、ケースの磁気記録再生摺動面を構成す
る面に形成した開口部に、磁気コアの先端部を臨ませ、
ケースに樹脂を注型して磁気コアを固定した磁気ヘッド
であって、前記ケースの磁気記録媒体摺動面に、３〜１
０μｍ、前記開口部の樹脂の部分と磁気コアの先端部に
１〜３μｍの高硬度薄膜をそれぞれ成膜したことにより
、磁気ヘッドに耐摩耗性を持たせ、偏摩耗による磁性媒
体の傷つきを発生することなく、磁気記録再生磁性の劣
化を小さくてきる効果がある。

そして、高硬度薄膜を、ＴｉＮ、ＴｉＣ。

Ｓ　ｉＮ、　Ｓ　Ｉ　Ｃ，Ａ　Ｉ　２０３及びＳ　ｔ　
Ｏ２（Ｄ　ウち、いずれか一つの材料からなるものであ
っても良い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例の耐摩耗性磁気ヘッドを
示す断面図、第２図は同側面図、第３図は同表面あらさ
計を用いた摩耗試験による１００万回往復後のヘッドの
慴動部の形状を示した図、第４図は同初期の摺動部の形
状を示した図、第５図は第３の実施例における最初に成
膜する部分を斜線で示した正面図、第６図は一般のヘッ
ドを示した斜視図、第７図は同第６図■−■に沿って裁
断した断面図、第８図は従来のケースにセンダストブロ
ックまたはセラミックブロックを埋め込んだ状態を示し
た斜視図、第９図は第８図ＩＸ−ＩＸ断面図、第１０図
は一般のヘッドにＴｉＮを１μｍを成膜したヘッドの一
部断面図、第１１図は従来のヘッドについて表面あらさ
を用いた摩耗試験によるカード走行１００万回往復後の
磁気コア部の摩耗量を示したグラフ、第１２図は測定方
向を示した説明図、第１３図および第１４図はＴ　ｉ　
Ｎをμｍ成膜したヘッドについて、表面あらさ計を用い
た摩耗試験による、それぞわカート走行５０万回往復後
、および１００万回往復後の慴動部の形状を示した図、
第１５図は同初期の摺動部の形状を示した図である。 １・・・−・ケース １ａ＝−−−−ケースの部分 ２・・・・・・開口部 ３・・・・・・磁気コア ３ａ・−・・・・コアの先端部 ４−−・−・ギャップ ７・・・・・・樹脂 ７ａ・・・・・・樹脂の部分 ８＝−ＴｉＮ膜 ９−−−−−ポビン １０−−−−一端子 各図中、同一符号は同 ポす。 部分または相当部分を

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）耐摩耗性の磁性材を用いた磁気コアを他の磁気ヘ
   ッド構成部材とともにケースに嵌合し、ケースの磁気記
   録媒体摺動面を構成する面に形成した開口部に、磁気コ
   アの先端部を臨ませ、ケースに樹脂を注型して磁気コア
   を固定した磁気ヘッドであって、前記ケースの磁気記録
   媒体摺動面に３〜１０μｍ、前記開口部の樹脂の部分と
   磁気コアの先端部に１〜３μｍの高硬度薄膜を、それぞ
   れ成膜したことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）前記高硬度薄膜は、ＴｉＮ，ＴｉＣ，ＳｉＮ，Ｓ
   ｉＣ，Ａｌ＿２Ｏ＿３及びＳｉＯ＿２のうちいずれか一
   つの材料からなることを特徴とする請求項１記載の磁気
   ヘッド。