JPH0448423A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0448423A JPH0448423A JP15807390A JP15807390A JPH0448423A JP H0448423 A JPH0448423 A JP H0448423A JP 15807390 A JP15807390 A JP 15807390A JP 15807390 A JP15807390 A JP 15807390A JP H0448423 A JPH0448423 A JP H0448423A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording
- thin film
- recording medium
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0005—Arrangements, methods or circuits
- G11B2005/0021—Thermally assisted recording using an auxiliary energy source for heating the recording layer locally to assist the magnetization reversal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光アシス）［気記録される情報の再生に使用
する磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
する磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
［従来の技術］
近年、情報の記録、再生、消去の可能な記録媒体として
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
により昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁
化膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することによ
り、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記
録を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂
直磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学
効果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回
転方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われ
る。
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
により昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁
化膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することによ
り、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記
録を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂
直磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学
効果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回
転方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われ
る。
光磁気ディスクにおける記録方式には、大別して、一定
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応じてレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応じてレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
この磁界変調方式において、記録密度を向上させるため
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、記録磁区長を記録媒体上でのレーザ光のスポン
ト径より小さい値である０３μｍ程度まで縮小すること
ができるが、その場合、第４図に模式的に示すように、
記録ピットド１・・・の形成する磁区が円弧状又は三日
月状になることが知られている（第１３回日本応用磁気
学会学術講演概要集（１９８９）、１９８頁参照）。
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、記録磁区長を記録媒体上でのレーザ光のスポン
ト径より小さい値である０３μｍ程度まで縮小すること
ができるが、その場合、第４図に模式的に示すように、
記録ピットド１・・・の形成する磁区が円弧状又は三日
月状になることが知られている（第１３回日本応用磁気
学会学術講演概要集（１９８９）、１９８頁参照）。
ところが、上記のように、記録ピットド１・・・が円弧
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスポットが複数の記録ピッ
）１・１・・・に跨がって照射されるので、個々の記録
ビット１の再生が行えなくなる問題がある。
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスポットが複数の記録ピッ
）１・１・・・に跨がって照射されるので、個々の記録
ビット１の再生が行えなくなる問題がある。
そこで、レーザ光を使用せずに、磁気ヘッドにより磁気
的に記録ビントド１・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド１・・・が
円弧状であるため、再生時に隣接する記録ピットド１間
でクロストークが生しやすく、かつ、再生信号出力も低
下し、正確な再生は不可能である。
的に記録ビントド１・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド１・・・が
円弧状であるため、再生時に隣接する記録ピットド１間
でクロストークが生しやすく、かつ、再生信号出力も低
下し、正確な再生は不可能である。
（課題を解決するための手段〕
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、基材上に形成され、上記記録媒体上の磁
区の形状に対応してギャップ幅方向にほぼ円弧状をなす
磁気的ギャップ部を有する薄膜コアと、この薄膜コアを
周回するように設けられる再生用コイルとを備えている
ことを特徴とするものである。
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、基材上に形成され、上記記録媒体上の磁
区の形状に対応してギャップ幅方向にほぼ円弧状をなす
磁気的ギャップ部を有する薄膜コアと、この薄膜コアを
周回するように設けられる再生用コイルとを備えている
ことを特徴とするものである。
なお、上記の磁気ヘッドの製造に際しては、上記基材上
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングした後、湾曲部
の形成された基材上に磁気的ギャップ部を有する薄膜コ
アを形成するとともに、上記再生用コイルを設けるよう
にすることが好適である。
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングした後、湾曲部
の形成された基材上に磁気的ギャップ部を有する薄膜コ
アを形成するとともに、上記再生用コイルを設けるよう
にすることが好適である。
上記した本発明の磁気ヘッドにおいては、記録媒体上の
磁区からの磁束が上記磁気的ギャップ部から磁気コアに
導かれるが、この磁束の大きさの変化に応して上記再生
用コイルに電圧が誘起されるので、この電圧に基づいて
記録媒体上の情報の検出を行うことができる。その場合
、上記磁気的ギャンプ部が記録媒体上の磁区の形状に対
応したほぼ円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接
する複数の磁区間でクロストークが生じることはなく、
又、充分な再生信号出力を得ることができるようになる
。これにより、光アシスト磁気記録において、記録密度
を高めた結果、記録ビットがほぼ円弧状の磁区をなす場
合にも、正確な再生が行えるようになる。
磁区からの磁束が上記磁気的ギャップ部から磁気コアに
導かれるが、この磁束の大きさの変化に応して上記再生
用コイルに電圧が誘起されるので、この電圧に基づいて
記録媒体上の情報の検出を行うことができる。その場合
、上記磁気的ギャンプ部が記録媒体上の磁区の形状に対
応したほぼ円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接
する複数の磁区間でクロストークが生じることはなく、
又、充分な再生信号出力を得ることができるようになる
。これにより、光アシスト磁気記録において、記録密度
を高めた結果、記録ビットがほぼ円弧状の磁区をなす場
合にも、正確な再生が行えるようになる。
一方、上記した磁気ヘッドの製造方法によれば、まず、
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、基材上に磁気的ギャンプ
部を有する薄膜コアを形成するようにしたので、磁気的
ギャップ部は記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円
弧状とすることができる。
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、基材上に磁気的ギャンプ
部を有する薄膜コアを形成するようにしたので、磁気的
ギャップ部は記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円
弧状とすることができる。
［実施例］
本発明の一実施例を第１図乃至第１８図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
第２図に示すように、光アシスト磁気記録再生装置は、
基板５と、基板５上に形成された記録媒体としての記録
膜６と、記録膜６を保護する保護膜７とを含むディスク
８に記録及び再生を行うものであって、対物レンズ９を
介して記録膜６にレーザ光１０を照射する光ヘッドと、
浮上型磁気ヘッド１１とを備えている。浮上型磁気ヘッ
ド１１はサスペンション１２により支持され、ディスク
８の回転に伴ってディスク８の表面から浮上しながら記
録及び再生を行うようになっている。
基板５と、基板５上に形成された記録媒体としての記録
膜６と、記録膜６を保護する保護膜７とを含むディスク
８に記録及び再生を行うものであって、対物レンズ９を
介して記録膜６にレーザ光１０を照射する光ヘッドと、
浮上型磁気ヘッド１１とを備えている。浮上型磁気ヘッ
ド１１はサスペンション１２により支持され、ディスク
８の回転に伴ってディスク８の表面から浮上しながら記
録及び再生を行うようになっている。
第３図に示すように、基板５上には所定のピッチでグル
ープ２・２・・・とランド３・３・・・が交互に形成さ
れ、各ランド３に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁区
をなす記録ピットド１・・・（第４図参照）が形成され
て情報の記録が行われるようになっている。
ープ２・２・・・とランド３・３・・・が交互に形成さ
れ、各ランド３に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁区
をなす記録ピットド１・・・（第４図参照）が形成され
て情報の記録が行われるようになっている。
第５図に示すように、浮上型磁気へラド１１は、ディス
ク８上で滑走可能なスライダ１３に磁気ヘッド本体１４
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体１４は情報の再生を
行う再生ヘッド部１５を備えている。
ク８上で滑走可能なスライダ１３に磁気ヘッド本体１４
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体１４は情報の再生を
行う再生ヘッド部１５を備えている。
第１図（ａ）（ｂ）に示すように、再生ヘッド部１５は
、ＭｎＺｎフェライト等からなる基板１６（基材）を備
えている。基板１６上には下部薄膜コア１７が形成され
、下部薄膜コア１７上にギャップ層１８を介して上部薄
膜コア２０が形成されている。上記ギャップ層１８は磁
気的ギャップ部を構成している。
、ＭｎＺｎフェライト等からなる基板１６（基材）を備
えている。基板１６上には下部薄膜コア１７が形成され
、下部薄膜コア１７上にギャップ層１８を介して上部薄
膜コア２０が形成されている。上記ギャップ層１８は磁
気的ギャップ部を構成している。
上部薄膜コア２０の周囲を周回させて薄膜により再生用
コイル２１が形成され、かつ、再生用コイル２１の内周
側端部から、薄膜よりなるリード引出し線２２が引き出
されている。上部薄膜コア２０及びリード引出し線２２
は保護層２３により被覆されている。更に、保護層２３
上にはガラス２４を介して保護板２５が接着されている
。
コイル２１が形成され、かつ、再生用コイル２１の内周
側端部から、薄膜よりなるリード引出し線２２が引き出
されている。上部薄膜コア２０及びリード引出し線２２
は保護層２３により被覆されている。更に、保護層２３
上にはガラス２４を介して保護板２５が接着されている
。
なお、第１４図（ｂ）等の図面から明らかなように、基
材としての基板１６に、予めほぼ円弧状の凸部２６（湾
曲部）を形成することにより、下部薄膜コア１７と上部
薄膜コア２０間のギャップ層１８は、記録膜６上の記録
ビット１（第４図参照）に対応したほぼ円弧状をなして
いる。
材としての基板１６に、予めほぼ円弧状の凸部２６（湾
曲部）を形成することにより、下部薄膜コア１７と上部
薄膜コア２０間のギャップ層１８は、記録膜６上の記録
ビット１（第４図参照）に対応したほぼ円弧状をなして
いる。
上記の構成において、記録時又は再生時にはディスク８
（第２図）の回転に伴ってスライダ１３がディスク８の
表面から浮上する。この状態で、上記光ヘッドから記録
膜６にレーザ光１０を照射しながら、外部磁場を記録膜
６に印加することにより、高記録密度でほぼ円弧状の記
録ピットド１・・・が記録膜６上に形成される。
（第２図）の回転に伴ってスライダ１３がディスク８の
表面から浮上する。この状態で、上記光ヘッドから記録
膜６にレーザ光１０を照射しながら、外部磁場を記録膜
６に印加することにより、高記録密度でほぼ円弧状の記
録ピットド１・・・が記録膜６上に形成される。
一方、再生時には、記録膜６上の各記録ビットエからの
磁束が、再生ヘッド部１５における下部薄膜コア１７と
上部薄膜コア２０間の上記磁気的ギャップ部（ギャップ
層１８）から上部薄膜コア２０に導かれる。そして、上
部薄膜コア２ｏを通過する磁束の大きさが変化すると、
再生用コイル２１でその変化に応じた電圧が発生するの
で、この電圧を検出することにより、記録ｙ６上の情報
の検出が行える。
磁束が、再生ヘッド部１５における下部薄膜コア１７と
上部薄膜コア２０間の上記磁気的ギャップ部（ギャップ
層１８）から上部薄膜コア２０に導かれる。そして、上
部薄膜コア２ｏを通過する磁束の大きさが変化すると、
再生用コイル２１でその変化に応じた電圧が発生するの
で、この電圧を検出することにより、記録ｙ６上の情報
の検出が行える。
次に、上記の浮上磁気へラド１１、特に、再生ヘッド部
１５の製造方法について説明する。
１５の製造方法について説明する。
再生ヘッド部１５の作製に際しては、まず、第６図に示
すように、ＭｎＺｎフェライト等からなる基板１６を用
意し、この基板１６の表面にほぼ円弧形状をなすように
フォトレジスト膜２７を形成する（第７図）。
すように、ＭｎＺｎフェライト等からなる基板１６を用
意し、この基板１６の表面にほぼ円弧形状をなすように
フォトレジスト膜２７を形成する（第７図）。
そして、フォトレジスト膜２７を介して、Ａｒガスによ
るイオンミリング等により基板１６にエツチングを施す
と、第８図の如く、基板１６の表面にほぼ円弧状の凸部
２６が形成される。なお、凸部２６の代わりに、はぼ円
弧状の凹部を形成するようにしても良い。又、本実施例
では、基板１６の全長に渡って凸部２６を形成している
が、凸部２６は基板１６におけるディスク８に対向する
側の端部近傍のみに形成しても良い。
るイオンミリング等により基板１６にエツチングを施す
と、第８図の如く、基板１６の表面にほぼ円弧状の凸部
２６が形成される。なお、凸部２６の代わりに、はぼ円
弧状の凹部を形成するようにしても良い。又、本実施例
では、基板１６の全長に渡って凸部２６を形成している
が、凸部２６は基板１６におけるディスク８に対向する
側の端部近傍のみに形成しても良い。
次に、第９図に示すように、凸部２６を形成した基板１
６上にＦｅＡｆＳｉ等の軟磁性材料からなる下部薄膜コ
ア１７（膜厚２μｍ程度）をスパッタリング等により形
成する。なお、基板１６上に、まず、ＣｒをＥ Ｂ （
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）蒸着等により５００人程
変形成した上で下部薄膜コア１７を形成するようにする
と、密着性が向上するので、基板１６と下部薄膜コア１
７間にＣｒ膜を介在させるのが好ましい。又、本実施例
では、基板１６として磁性材料を使用しているが、基板
１６として非磁性材料を使用する場合は、下部薄膜コア
１７の膜厚を１０μｍ程度にするのが好適である。
６上にＦｅＡｆＳｉ等の軟磁性材料からなる下部薄膜コ
ア１７（膜厚２μｍ程度）をスパッタリング等により形
成する。なお、基板１６上に、まず、ＣｒをＥ Ｂ （
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）蒸着等により５００人程
変形成した上で下部薄膜コア１７を形成するようにする
と、密着性が向上するので、基板１６と下部薄膜コア１
７間にＣｒ膜を介在させるのが好ましい。又、本実施例
では、基板１６として磁性材料を使用しているが、基板
１６として非磁性材料を使用する場合は、下部薄膜コア
１７の膜厚を１０μｍ程度にするのが好適である。
下部薄膜コア１７を形成すると、続いて、下部薄膜コア
１７上に／Ｍ！、０３等からなるギャップ層１８（膜厚
、例えば、０．１μｍ程度）をスバンタリング等により
形成する。このギャップ層１８の膜厚は、記録膜６上の
記録ビット１の磁区長に応じて決まるが、ギャップ層１
８の膜厚は磁区長より小さくするのが好ましい。
１７上に／Ｍ！、０３等からなるギャップ層１８（膜厚
、例えば、０．１μｍ程度）をスバンタリング等により
形成する。このギャップ層１８の膜厚は、記録膜６上の
記録ビット１の磁区長に応じて決まるが、ギャップ層１
８の膜厚は磁区長より小さくするのが好ましい。
次に、第１０図（ａ） （ｂ）に示す如く、ギャップ層
１８上に５ｉＯｚ等からなる絶縁層２８（例えば、膜厚
２ｕｍ程度）をＰ −ＣＶ Ｄ （Ｐｌａｓｍａ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等
により形成する。
１８上に５ｉＯｚ等からなる絶縁層２８（例えば、膜厚
２ｕｍ程度）をＰ −ＣＶ Ｄ （Ｐｌａｓｍａ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等
により形成する。
引続き、絶縁層２８上に、例えば、Ｎｂ （０゜０５μ
ｍ）／Ｃｕ （１μｍ）／Ｎｂ （０，１ａｍ）／Ｔｉ
（０，２μｍ）の４層薄膜を順次ＥＢ蒸着して不要部
位をイオンミリング等で除去することにより、上方から
見て渦巻き状をなす再生用コイル２１を形成する。
ｍ）／Ｃｕ （１μｍ）／Ｎｂ （０，１ａｍ）／Ｔｉ
（０，２μｍ）の４層薄膜を順次ＥＢ蒸着して不要部
位をイオンミリング等で除去することにより、上方から
見て渦巻き状をなす再生用コイル２１を形成する。
次に、第１１図に示すように、再生用コイル２１を覆う
ように５ｉＯｚ等からなる絶縁層２８（複数回に分けて
形成されるが、便宜上同一番号を付す）を塗布等により
形成して平坦化した後、第１２図（ａ） （ｂ）に示す
ように、上部薄膜コア２０と下部薄膜コア１７との接合
部位となる領域３０・３１及び再生用コイル２１の内周
側端部の領域３２（第１２図（ａ）に便宜上ハツチング
で示す）における絶縁層２８をリアクティブイオンエツ
チング等により除去する。これにより、領域３０・３１
ではギャップ層１８が露出し、領域３２では再生用コイ
ル２１が露出する。更に、第１３図に示すように、イオ
ンミリング等により領域３１におけるギャップ層１８を
除去し、領域３１において下部薄膜コア１７を露出させ
る。
ように５ｉＯｚ等からなる絶縁層２８（複数回に分けて
形成されるが、便宜上同一番号を付す）を塗布等により
形成して平坦化した後、第１２図（ａ） （ｂ）に示す
ように、上部薄膜コア２０と下部薄膜コア１７との接合
部位となる領域３０・３１及び再生用コイル２１の内周
側端部の領域３２（第１２図（ａ）に便宜上ハツチング
で示す）における絶縁層２８をリアクティブイオンエツ
チング等により除去する。これにより、領域３０・３１
ではギャップ層１８が露出し、領域３２では再生用コイ
ル２１が露出する。更に、第１３図に示すように、イオ
ンミリング等により領域３１におけるギャップ層１８を
除去し、領域３１において下部薄膜コア１７を露出させ
る。
続いて、ポリイミドを使用したリフトオフ法により、第
１４図（ａ）〜（Ｃ）に示すように、上部薄膜コア２０
及びリード引出し線２２を形成する。すなわち、第１３
図（ａ）（ｂ））の状態で、まず、全面にスピンコード
及び焼成等によりポリイミド層を形成し、更に、このポ
リイミド層上にＥＢ蒸着等によりＣｕ層（膜厚０．６μ
ｍ程度）を形成する。
１４図（ａ）〜（Ｃ）に示すように、上部薄膜コア２０
及びリード引出し線２２を形成する。すなわち、第１３
図（ａ）（ｂ））の状態で、まず、全面にスピンコード
及び焼成等によりポリイミド層を形成し、更に、このポ
リイミド層上にＥＢ蒸着等によりＣｕ層（膜厚０．６μ
ｍ程度）を形成する。
続いて、上部薄膜コア２０及びリード引出し線２２の形
成部位に対応する領域における上記のＣｕ層をイオンミ
リング等により除去し、更に、Ｃｕ層の除去部位に対応
する領域のポリイミド層をリアクティブイオンエツチン
グ等により除去する。
成部位に対応する領域における上記のＣｕ層をイオンミ
リング等により除去し、更に、Ｃｕ層の除去部位に対応
する領域のポリイミド層をリアクティブイオンエツチン
グ等により除去する。
そして、ＦｅＡｊ！Ｓｉのスパッタリング等により上部
薄膜コア２０及びリード引出し線２２を形成し、上記の
ポリイミド層とともに不要部位を除去するとともに、必
要な熱処理を行う。
薄膜コア２０及びリード引出し線２２を形成し、上記の
ポリイミド層とともに不要部位を除去するとともに、必
要な熱処理を行う。
上記のようにして形成された上部薄膜コア２０の前端部
はギャップ層１８を介して下部薄膜コア１７に対向する
とともに、上部薄膜コア２０の後端部は下部薄膜コア１
７に接合される。又、リード引出し線２２の前端部は再
生用コイル２１の内周側端部に接合され、再生用コイル
２１上を通過して基板１６の後端部近傍に引き出される
。
はギャップ層１８を介して下部薄膜コア１７に対向する
とともに、上部薄膜コア２０の後端部は下部薄膜コア１
７に接合される。又、リード引出し線２２の前端部は再
生用コイル２１の内周側端部に接合され、再生用コイル
２１上を通過して基板１６の後端部近傍に引き出される
。
更に、基板１６に予め凸部２６が設けられているために
、ギャップ層１８は、ギャップ幅方向に見て、記録ビッ
ト１（第４図）の形状に対応したほぼ円弧状をなす。
、ギャップ層１８は、ギャップ幅方向に見て、記録ビッ
ト１（第４図）の形状に対応したほぼ円弧状をなす。
上部薄膜コア２０及びリード引出し線２２を形成した後
、第１図（ａ）に示すように、リード引出し線２２の後
端部に接続させてリード３３を上記の再生用コイル２１
と同様のＮ ｂ ／ Ｃｕ ／ Ｎ ｂ ／ Ｔｉの４
層薄膜のＥＢ蒸着等により形成する。
、第１図（ａ）に示すように、リード引出し線２２の後
端部に接続させてリード３３を上記の再生用コイル２１
と同様のＮ ｂ ／ Ｃｕ ／ Ｎ ｂ ／ Ｔｉの４
層薄膜のＥＢ蒸着等により形成する。
なお、上部薄膜コア２０の前端部の幅りは記録膜６上で
のレーザビームの径程度（１，５μｍ以下）とされる。
のレーザビームの径程度（１，５μｍ以下）とされる。
一方、上部薄膜コア２０の後端部の幅りは、図面上では
幅りより若干大きくされているが、実際には幅りよりか
なり大きく設定される。
幅りより若干大きくされているが、実際には幅りよりか
なり大きく設定される。
リード３３を形成した後、第１回部）に示すように、上
部薄膜コア２０、リード引出し線２２及びリード３３上
を含む全面に５ｉＯｚ層をＰ−ＣＶＤ法で堆積すること
等により保護層２３（膜厚１μｍ程度）を形成する。そ
の後、第１図（ａ）にハンチングで示す領域３４・３５
の部位の保護層２３をリアクティブイオンエツチング等
で除去し、この部位の再生用コイル２１及びリード３３
を電極端子とする。
部薄膜コア２０、リード引出し線２２及びリード３３上
を含む全面に５ｉＯｚ層をＰ−ＣＶＤ法で堆積すること
等により保護層２３（膜厚１μｍ程度）を形成する。そ
の後、第１図（ａ）にハンチングで示す領域３４・３５
の部位の保護層２３をリアクティブイオンエツチング等
で除去し、この部位の再生用コイル２１及びリード３３
を電極端子とする。
次に、ガラス２４を使用してＭｎＺｎフェライト等から
なる保護板２５を保護層２３上に接着する。この時、ガ
ラス２４を、例えば、真空中で５５０°Ｃ程度で３０分
程度加熱することにより軟化させた上で、保護板２５を
加圧して接着する。
なる保護板２５を保護層２３上に接着する。この時、ガ
ラス２４を、例えば、真空中で５５０°Ｃ程度で３０分
程度加熱することにより軟化させた上で、保護板２５を
加圧して接着する。
なお、以上では、説明の便宜上、再生ヘッド部１５を１
個ずつ形成するものとしたが、第６図の段階で基板１６
を複数の再生ヘッド部１５を同時に形成できる程度に紙
面と直交方向、かつ、左右方向に長尺としておいて、第
６図乃至第１４図（ａ）〜（Ｃ）及びそれに続く第１図
（ａ）［有］）の工程で、２次元的に複数の再生ヘッド
部１５を同時に形成し、形成後に分離するようにしても
良い。
個ずつ形成するものとしたが、第６図の段階で基板１６
を複数の再生ヘッド部１５を同時に形成できる程度に紙
面と直交方向、かつ、左右方向に長尺としておいて、第
６図乃至第１４図（ａ）〜（Ｃ）及びそれに続く第１図
（ａ）［有］）の工程で、２次元的に複数の再生ヘッド
部１５を同時に形成し、形成後に分離するようにしても
良い。
次に、スライダ１３の製造工程につき説明する。
第１５図に示すようなスライダ材料４１に対し、まず、
ヘッド挿入溝４２を形成する（第１６図）。続いて、ヘ
ッド挿入溝４２の両側にてレール形成溝４３・４３を形
成するとともに、スライダ材料４１の裏面側にレール形
成溝４３・４３と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝４４を形成する（第１７図）。
ヘッド挿入溝４２を形成する（第１６図）。続いて、ヘ
ッド挿入溝４２の両側にてレール形成溝４３・４３を形
成するとともに、スライダ材料４１の裏面側にレール形
成溝４３・４３と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝４４を形成する（第１７図）。
再生ヘッド部１５を含む磁気ヘッド本体１４及びスライ
ダ１３が構成されると、第１８図に示すように、スライ
ダ１３のヘッド挿入溝４２に磁気ヘッド本体１４が挿入
されて、例えば５００°Ｃ程度の温度で溶融されたガラ
ス等により接着される。続いて、第５図の如く、スライ
ダ１３のレール面４５・４５・・・が研削及びポリッシ
ュされるとともに、レール面４５・４５・・・における
磁気ヘッド本体１４と反対側の端部近傍に、ディスク８
とスライダ１３との間に空気を導入するための傾斜面４
６・４６・・・が形成される。
ダ１３が構成されると、第１８図に示すように、スライ
ダ１３のヘッド挿入溝４２に磁気ヘッド本体１４が挿入
されて、例えば５００°Ｃ程度の温度で溶融されたガラ
ス等により接着される。続いて、第５図の如く、スライ
ダ１３のレール面４５・４５・・・が研削及びポリッシ
ュされるとともに、レール面４５・４５・・・における
磁気ヘッド本体１４と反対側の端部近傍に、ディスク８
とスライダ１３との間に空気を導入するための傾斜面４
６・４６・・・が形成される。
なお、上記の実施例では、スライダ１３と磁気ヘッド本
体１４を別個に構成したが、スライダ１３と磁気ヘッド
本体１４の基板１６は一体に構成しても良い。
体１４を別個に構成したが、スライダ１３と磁気ヘッド
本体１４の基板１６は一体に構成しても良い。
本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、光アシスト
磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状の磁区をなして
記録される情報の再生に使用する磁気ヘッドであって、
基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してギャップ幅方向にほぼ円弧状をなす磁気的ギャップ
部を有する薄膜コアと、この薄膜コアを周回するように
設けられる再生用コイルとを備えている構成である。
磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状の磁区をなして
記録される情報の再生に使用する磁気ヘッドであって、
基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してギャップ幅方向にほぼ円弧状をなす磁気的ギャップ
部を有する薄膜コアと、この薄膜コアを周回するように
設けられる再生用コイルとを備えている構成である。
このような構成によれば、記録媒体上の磁区がらの磁束
が上記磁気的ギャップ部から磁気コアに導かれるが、こ
の磁束の大きさの変化に応じて上記再生用コイルに電圧
が誘起されるので、この電圧に基づいて記録媒体上の情
報の検出を行うことができるが、その際、上記磁気的ギ
ャップ部が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧
状をなしているため、記録媒体上の隣接する複数の磁区
間でクロストークが生じることはなく、又、充分な再生
信号出力を得ることができるようになる。
が上記磁気的ギャップ部から磁気コアに導かれるが、こ
の磁束の大きさの変化に応じて上記再生用コイルに電圧
が誘起されるので、この電圧に基づいて記録媒体上の情
報の検出を行うことができるが、その際、上記磁気的ギ
ャップ部が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ円弧
状をなしているため、記録媒体上の隣接する複数の磁区
間でクロストークが生じることはなく、又、充分な再生
信号出力を得ることができるようになる。
従って、光アシスト磁気記録において、記録密度を高め
た結果、記録ビットがほぼ円弧状の磁区をなす場合にも
、正確な再生が行えるようになるという効果を奏する。
た結果、記録ビットがほぼ円弧状の磁区をなす場合にも
、正確な再生が行えるようになるという効果を奏する。
又、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記基材上
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成する
工程と、湾曲部の形成された基材上に磁気的ギャップ部
を有する薄膜コア、を形成する工程と、上記再生用コイ
ルを設ける工程とを含んでいる。
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成する
工程と、湾曲部の形成された基材上に磁気的ギャップ部
を有する薄膜コア、を形成する工程と、上記再生用コイ
ルを設ける工程とを含んでいる。
これにより、まず、磁気的ギャップ部は基材の湾曲部上
に形成されるので、磁気的ギャップ部を記録媒体上の磁
区の形状に対応したほぼ円弧状とすることができる。
に形成されるので、磁気的ギャップ部を記録媒体上の磁
区の形状に対応したほぼ円弧状とすることができる。
第１図乃至第１８図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図（ａ）は磁気ヘッド本体の概略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＦ−Ｆ線に沿う概略断面図であ
る。 第２図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第３図はディスクの概略縦断面図である。 第４図は記録ビットの形状を示す説明図である。 第５図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第６図は基板を示す概略正面図である。 第７図は基板にフォトレジスト膜を形成する様子を示す
概略正面図である。 第８図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略正面図である。 第９図は下部薄膜コア及びギャップ層を形成する様子を
示す概略正面図である。 第１０図（ａ）は再生用コイルを形成する様子を示す概
略平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線に沿う概略断面図で
ある。 第１１図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第１２図（ａ）は絶縁層の一部を除去する様子を示す概
略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図であ
る。 第１３図はギャップ層の一部を除去する様子を示す概略
縦断面図である。 第１４図（ａ）は上部薄膜コア及びリード引出し線を形
成する様子を示す概略平面図である。 同図（ｂ）は同概略正面図である。 同図（Ｃ）は同図（ａ）のＥ−Ｅ線に沿う概略断面図で
ある。 第１５図乃至第１７図はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第１８図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 ６は記録膜（記録媒体）、１４は磁気ヘッド本体、１５
は再生ヘッド部、１７は下部薄膜コア、１８はギャップ
層（磁気的ギャップ部）、２０は上部薄膜コア、２１は
再生用コイル、２６は凸部（湾曲部）である。 特許出願人 シャープ 株式会社第 図 第 図 第 図 尼 第 図 第１０ 図（ａ） 第１０ 図（ｂ） 第１１ 図 第１２ 図（ａ） 第１２ 図（ｂ） 第１３ 図 第１４ 図（ａ） Ｅ″″″ｌ 箪１４ 図（ｂ） 第１４ 図（Ｃ）
る。 第１図（ａ）は磁気ヘッド本体の概略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＦ−Ｆ線に沿う概略断面図であ
る。 第２図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第３図はディスクの概略縦断面図である。 第４図は記録ビットの形状を示す説明図である。 第５図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第６図は基板を示す概略正面図である。 第７図は基板にフォトレジスト膜を形成する様子を示す
概略正面図である。 第８図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略正面図である。 第９図は下部薄膜コア及びギャップ層を形成する様子を
示す概略正面図である。 第１０図（ａ）は再生用コイルを形成する様子を示す概
略平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ線に沿う概略断面図で
ある。 第１１図は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断面図で
ある。 第１２図（ａ）は絶縁層の一部を除去する様子を示す概
略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図であ
る。 第１３図はギャップ層の一部を除去する様子を示す概略
縦断面図である。 第１４図（ａ）は上部薄膜コア及びリード引出し線を形
成する様子を示す概略平面図である。 同図（ｂ）は同概略正面図である。 同図（Ｃ）は同図（ａ）のＥ−Ｅ線に沿う概略断面図で
ある。 第１５図乃至第１７図はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第１８図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 ６は記録膜（記録媒体）、１４は磁気ヘッド本体、１５
は再生ヘッド部、１７は下部薄膜コア、１８はギャップ
層（磁気的ギャップ部）、２０は上部薄膜コア、２１は
再生用コイル、２６は凸部（湾曲部）である。 特許出願人 シャープ 株式会社第 図 第 図 第 図 尼 第 図 第１０ 図（ａ） 第１０ 図（ｂ） 第１１ 図 第１２ 図（ａ） 第１２ 図（ｂ） 第１３ 図 第１４ 図（ａ） Ｅ″″″ｌ 箪１４ 図（ｂ） 第１４ 図（Ｃ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、 基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してギャップ幅方向にほぼ円弧状をなす磁気的ギャップ
部を有する薄膜コアと、この薄膜コアを周回するように
設けられる再生用コイルとを備えていることを特徴とす
る磁気ヘッド。 ２、上記基材上にほぼ円弧状をなす湾曲部をエッチング
により形成する工程と、湾曲部の形成された基材上に磁
気的ギャップ部を有する薄膜コアを形成する工程と、上
記再生用コイルを設ける工程とを有することを特徴とす
る請求項第１項に記録の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807390A JP2644611B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15807390A JP2644611B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448423A true JPH0448423A (ja) | 1992-02-18 |
| JP2644611B2 JP2644611B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=15663708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15807390A Expired - Lifetime JP2644611B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2644611B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001091114A1 (en) * | 2000-05-24 | 2001-11-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A method of thermally-assisted data recording and a recording apparatus |
| US7688685B1 (en) | 2000-03-01 | 2010-03-30 | Hitachi, Ltd. | Magneto-optical recording device capable of changing the shapes of heating areas |
-
1990
- 1990-06-13 JP JP15807390A patent/JP2644611B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7688685B1 (en) | 2000-03-01 | 2010-03-30 | Hitachi, Ltd. | Magneto-optical recording device capable of changing the shapes of heating areas |
| US8059497B2 (en) | 2000-03-01 | 2011-11-15 | Hitachi, Ltd. | Megneto-optical recording device capable of changing the shapes of heating areas |
| WO2001091114A1 (en) * | 2000-05-24 | 2001-11-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A method of thermally-assisted data recording and a recording apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2644611B2 (ja) | 1997-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH041922A (ja) | 面内磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| US5978186A (en) | Magnetic head and reproducing apparatus with head having central core with winding thereabout and wire therethrough | |
| JPWO1999008262A1 (ja) | 磁気記録再生装置及び磁気記録再生方法 | |
| JPH0775042B2 (ja) | 光磁気記録再生装置 | |
| JPH0448423A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2644612B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2769025B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP3496113B2 (ja) | 情報記録媒体、情報記録媒体の再生方法および情報記録媒体の再生装置 | |
| JPH03162706A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2000057646A (ja) | 光磁気記録媒体及び光磁気記録再生装置 | |
| JP2665022B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0413253A (ja) | 光磁気メモリ素子及びその作製方法 | |
| JP3475263B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH09282656A (ja) | 垂直磁気記録媒体、その製造方法、磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 | |
| JPH0766510B2 (ja) | 磁気記録体及びその製造方法 | |
| JPS59160847A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2000215402A (ja) | 情報記録媒体、情報記録再生方法、および情報記録再生装置 | |
| JPS62219218A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0660461A (ja) | 円筒型光磁気記録媒体 | |
| JP2000285544A (ja) | 光磁気記録再生装置 | |
| JPH0312043A (ja) | 円盤型光情報記録媒体とその製造方法 | |
| JPS5819753A (ja) | 垂直磁気記録体及びこれを用いた垂直磁化信号再生方法 | |
| JPH02227844A (ja) | 光磁気記録媒体及び光磁気記録再生装置 | |
| JPH0766509B2 (ja) | 磁気記録体及びその製造方法 | |
| JPS63285742A (ja) | 光磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080502 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090502 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100502 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 14 |